公开(公告)号：KR20210031836A

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：KR1020200115356A

申请日：2020-09-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다로 이케다 ,  아츠시 구보 ,  에이키 가마타 ,  노부히코 야마모토

IPC: H01J37/32 ,  H01Q1/26

CPC classification number: H01J37/3222 ,  H01L21/67288 ,  C23C16/45536 ,  C23C16/52 ,  H01J37/32311 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32715 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/67017 ,  H01L22/34 ,  H01Q1/26 ,  H01J2237/3321

Abstract: 본 발명은, 기판의 이면에 국소적인 성막을 행한다.
처리 용기와, 상기 처리 용기 내에 배치되어, 기판이 보유 지지되는 기판 보유 지지 기구와, 상기 기판 보유 지지 기구의 하방에 배치되는 유전체 창과, 상기 유전체 창의 하방에 배치되어, 복수의 전자파를 방사하는 페이즈드 어레이 안테나를 갖는 플라스마 처리 장치가 제공된다.