-
公开(公告)号:KR101361249B1
公开(公告)日:2014-02-11
申请号:KR1020127001744
申请日:2010-07-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/205
CPC classification number: H01L21/0262 , C23C16/40 , C23C16/406 , C23C16/4404 , C23C16/45525 , H01L21/28556 , H01L21/68742 , H01L21/68785 , H01L21/76843 , H01L21/76855
Abstract: 본 발명은 진공화 가능하게 이루어진 처리 용기 내에서, 유기 금속 원료 가스를 사용해서 피처리체의 표면에 박막을 형성하도록 한 성막 장치에 있어서, 상기 처리 용기 내의 분위기에 노출되는 부재의 표면에 소수층이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 성막 장치이다.
-
公开(公告)号:KR1020120034110A
公开(公告)日:2012-04-09
申请号:KR1020127001744
申请日:2010-07-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/205
CPC classification number: H01L21/0262 , C23C16/40 , C23C16/406 , C23C16/4404 , C23C16/45525 , H01L21/28556 , H01L21/68742 , H01L21/68785 , H01L21/76843 , H01L21/76855
Abstract: 본 발명은 진공화 가능하게 이루어진 처리 용기 내에서, 유기 금속 원료 가스를 사용해서 피처리체의 표면에 박막을 형성하도록 한 성막 장치에 있어서, 상기 처리 용기 내의 분위기에 노출되는 부재의 표면에 소수층이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 성막 장치이다.
-