公开(公告)号：KR100937082B1

公开(公告)日：2010-01-15

申请号：KR1020030001573

申请日：2003-01-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 센바노리오 ,  미야타아키라

IPC: H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67276 ,  Y10S414/135

Abstract: 레지스트 도포/현상처리 시스템은, 카세트 스테이션과, 처리 스테이션과, 검사 스테이션을 구비한다. 검사 스테이션은, 결함검사 유니트와, 더미검사 유니트와, 바이패스검사 유니트와, 주웨이퍼 반송장치를 가진다. 처리 스테이션에서의 처리를 끝낸 웨이퍼(W)의 무작위추출 검사를 하는 경우에, 결함검사 유니트가 고장났을 때는, 검사용 웨이퍼를 바이패스검사 유니트에 얹어 놓고, 검사용 웨이퍼를 제외한 나머지 웨이퍼를 검사 스테이션에 반송된 순서에 따라서 더미검사 유니트에 얹어 놓고, 처리 스테이션에서 검사 스테이션으로 반입된 순서로 웨이퍼(W)를 검사 스테이션에서 카세트 스테이션으로 반출한다.

公开(公告)号：KR1020090119815A

公开(公告)日：2009-11-20

申请号：KR1020090101700

申请日：2009-10-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 센바노리오 ,  미야타아키라

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67276 ,  Y10S414/135 ,  G03F7/70608 ,  G01N21/9501 ,  G03F7/7065 ,  G03F7/70733 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/6773

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus and a substrate processing method are provide to reduce footprint of apparatus by installing a test station between a cassette station and a process station. CONSTITUTION: A substrate processor includes a cassette station, a process station, a testing station, a transferring a substrate unit, and a transmission control tool. The cassette station(11) places the cassette in which a plurality of substrates are received. The process station(13) performs a processing of the substrate carried out from a cassette. The testing station(12) examines and measures the substrate which is process completely. The transferring a substrate unit returns the substrate between the cassette station, the process station, and the testing station.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置和基板处理方法，以通过在盒式电台和处理台之间安装测试台来减少设备的占地面积。 构成：衬底处理器包括盒式电台，处理站，测试台，传送衬底单元和变速器控制工具。 盒式放像机（11）放置容纳有多个基板的盒。 处理站（13）对从盒进行的基板进行处理。 测试台（12）检查并测量完全处理的基板。 转移衬底单元使衬底在盒站，处理站和测试站之间返回。

公开(公告)号：KR1020030061344A

公开(公告)日：2003-07-18

申请号：KR1020030001573

申请日：2003-01-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 센바노리오 ,  미야타아키라

IPC: H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67276 ,  Y10S414/135

Abstract: 레지스트 도포/현상처리 시스템은, 카세트 스테이션과, 처리 스테이션과, 검사 스테이션을 구비한다. 검사 스테이션은, 결함검사 유니트와, 더미검사 유니트와, 바이패스검사 유니트와, 주웨이퍼 반송장치를 가진다. 처리 스테이션에서의 처리를 끝낸 웨이퍼(W)의 무작위추출 검사를 하는 경우에, 결함검사 유니트가 고장났을 때는, 검사용 웨이퍼를 바이패스검사 유니트에 얹어 놓고, 검사용 웨이퍼를 제외한 나머지 웨이퍼를 검사 스테이션에 반송된 순서에 따라서 더미검사 유니트에 얹어 놓고, 처리 스테이션에서 검사 스테이션으로 반입된 순서로 웨이퍼(W)를 검사 스테이션에서 카세트 스테이션으로 반출한다.

公开(公告)号：KR100937083B1

公开(公告)日：2010-01-15

申请号：KR1020090101700

申请日：2009-10-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 센바노리오 ,  미야타아키라

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67276 ,  Y10S414/135

Abstract: 레지스트 도포/현상처리 시스템은, 카세트 스테이션과, 처리 스테이션과, 검사 스테이션을 구비한다. 검사 스테이션은, 결함검사 유니트와, 더미검사 유니트와, 바이패스검사 유니트와, 주웨이퍼 반송장치를 가진다. 처리 스테이션에서의 처리를 끝낸 웨이퍼(W)의 무작위추출 검사를 하는 경우에, 결함검사 유니트가 고장났을 때는, 검사용 웨이퍼를 바이패스검사 유니트에 얹어 놓고, 검사용 웨이퍼를 제외한 나머지 웨이퍼를 검사 스테이션에 반송된 순서에 따라서 더미검사 유니트에 얹어 놓고, 처리 스테이션에서 검사 스테이션으로 반입된 순서로 웨이퍼(W)를 검사 스테이션에서 카세트 스테이션으로 반출한다.

Abstract translation: 抗蚀剂应用/开发处理系统包括盒子站，处理站和检查站。 检查站具有缺陷检查单元，虚拟检查单元，旁路检查单元和主晶圆输送装置。 当缺陷检查单元发生故障时，检查晶片被放置在旁路检查单元上，并且除了检查晶片之外的其余晶片被传送到检查站 并且，晶片W从检查台向处理台被送入检查台的顺序被搬出到处理台。