公开(公告)号：KR100250009B1

公开(公告)日：2000-03-15

申请号：KR1019930022132

申请日：1993-10-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오쓰키하야시 ,  데구치요이치

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67167 ,  C23C8/06 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/68707 ,  H01L21/68728 ,  Y10S414/136 ,  Y10S414/139 ,  Y10S414/141 ,  Y10S438/928

Abstract: 피처리체의 표면과 이면을 피처리체의 분위기 상태를 변화시키지 않고, 동일 조건하에서 처리할 수 있는 처리방법 및 장치를 제공하는 것으로, 피처리체를 처리가스 분위기에서 재치대에 설치한 유지기구에 유지하여 처리하는 방법에 있어서, 상기 재치대와 피처리체를 함께 회전기구에 의하여 소정 방향으로 회전시키는 공정과, 상기 재치대의 회전을 정지하여 상기 유지기구를 별도의 회전기구에 의하여 회전시켜서 피처리체의 표면과 이면을 상기 재치대에 대하여 상대적으로 회전시키는 공정으로 된다. 따라서, 피처리체의 표면과 이면을 피처리체의 분위기 상태를 변화시키지 않고, 동일 조건하에서 처리할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019940010227A

公开(公告)日：1994-05-24

申请号：KR1019930022132

申请日：1993-10-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오쓰키하야시 ,  데구치요이치

IPC: H01L21/304

Abstract: 피처리체의 표면과 이면을 피처리체의 분위가 상태를 변화시키지 않고, 동일 조건하에서 처리할 수 있는 처리방법 및 장치를 제공하는 것으로, 피처리체를 처리가스 분위기에서 재치대에 설치한 유지기구에 유지하여 처리하는 방법에 있어서, 상기 재치대와 피처리체를 함께 회전기구에 의하여 소정 방향으로 회전시키는 공정과, 상기 재치대의 회전을 정지하여 상기 유지기구를 별도의 회전기구에 의하여 회전시켜서 피처리체의 표면과 이면을 상기 재치대에 대하여 상대적으로 회전시키는 공정으로 한다. 따라서, 피처리체의 표면과 이면을 피처리체의 분위기 상태를 변화시키지 않고, 동일 조건하에서 처리할 수 있다.