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公开(公告)号:KR1020170138346A
公开(公告)日:2017-12-15
申请号:KR1020170066837
申请日:2017-05-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 처리액중의이물의혼입을억제하는기술을제공하는것이다. 레지스트액을공급하는노즐(5)과, 레지스트액공급원(4)과노즐(5)을접속하는처리액공급로(2)에있어서, 레지스트액공급원(4)측으로부터, 버퍼탱크(41), 제 1 펌프(31), 제 1 삼방밸브(36), 필터부(3), 제 2 삼방밸브(37) 및제 2 펌프(32)를마련하고, 제 2 삼방밸브(37)에는일단측이노즐(5)에접속된토출유로(23)의타단측을접속한다. 또한제 2 펌프(32)의이차측으로부터제 1 삼방밸브(36)로레지스트액을되돌리는리턴유로(26)를마련하고있다. 또한토출유로(23)에상류측으로부터압력측정부(7) 및공급제어밸브(6)를마련하고있다. 따라서제 2 펌프(32)의이차측에별도의필터부(3)를추가하지않고, 웨이퍼(W)에공급되는레지스트액중의파티클을억제할수 있다. 이때문에설비비용의코스트업이억제된다.
Abstract translation: 并抑制水在处理液中的掺入。 在缓冲罐41中设置有用于供应抗蚀剂溶液的喷嘴5和用于连接抗蚀剂溶液供应源4和喷嘴5的处理液供应路径2, 第一三通阀36,过滤器部分3,第二三通阀37和第二泵32设置在第二三通阀37中, 与排出通路5连接的排出通路23的前端侧连接。 并且提供用于将抗蚀剂溶液从第二泵32的第二侧返回到第一三通阀36的返回流动路径26。 此外,排放通道23从上游侧设置有压力测量部分7和供应控制阀6。 因此,能够抑制向第二泵32的二次侧追加独立的过滤器单元3而向晶片W供给的抗蚀剂溶液中的粒子。 因此,设备成本的成本被抑制。