公开(公告)号：KR101238123B1

公开(公告)日：2013-02-27

申请号：KR1020070106922

申请日：2007-10-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 난바히로미츠 ,  이또노리히로

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02052 ,  H01L21/67051

Abstract: 세정 장치의 제어 기구는, 회전 플레이트를 유지 부재에 의해 유지된 기판과 함께 회전시키고, 그 상태로 기판 이면에 세정액의 액막을 형성하는 것을 포함하는 세정 처리를 행하며, 그 후 기판을 회전시킨 채의 상태로 연속하여 기판 이면에 린스액의 액막을 형성하는 것을 포함하는 린스 처리를 행하고, 그 후 기판을 소정의 회전수로 회전시켜 털어내는 건조 처리를 행한다. 또한, 제어 기구는, 세정 처리 또는 린스 처리에 있어서, 이면측 액 공급 노즐로부터 액 토출구를 통해 대응 처리액을 토출시켜 기판 이면에 액막을 형성시키고, 계속해서 처리액의 공급을 일단 정지시키며, 그 후 재차 처리액을 토출시켜 액 토출구의 주위 부분에도 액막을 형성시켜 기판과 액 토출구의 주위 부분을 처리하도록 제어한다.

公开(公告)号：KR1020080036542A

公开(公告)日：2008-04-28

申请号：KR1020070106922

申请日：2007-10-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 난바히로미츠 ,  이또노리히로

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02052 ,  H01L21/67051

Abstract: A cleaning apparatus, a cleaning method, and a computer readable medium are provided to sufficiently clean the surroundings of a liquid ejection hole by forming a liquid layer around the liquid ejection hole. A substrate maintaining unit(2) includes a rotational plate and a maintaining member for horizontally maintaining a substrate. A rotating unit(3) rotates the rotational plate together with the substrate. A liquid ejection hole(5) is located near the revolution center of the rotational plate and ejects a liquid to the center of the substrate maintained by the substrate maintaining unit. A rear-side liquid supply nozzle(6) supplies a cleaning liquid and a rinse liquid so as to eject them to a rear of the substrate through the liquid ejection hole. A cup(4) surround the substrate maintained by the substrate maintaining unit. A control unit controls the revolution of the substrate and the liquid supply. The control unit forms a liquid layer at the surroundings of the liquid ejection hole to process the substrate and the surroundings.

Abstract translation: 提供清洁装置，清洁方法和计算机可读介质，以通过在液体喷射孔周围形成液体层来充分地清洁液体喷射孔的周围。 基板保持单元（2）包括旋转板和用于水平地保持基板的保持构件。 旋转单元（3）使旋转板与基板一起旋转。 液体喷射孔（5）位于旋转板的旋转中心附近，并将液体喷射到由基板保持单元维持的基板的中心。 后侧液体供给喷嘴（6）提供清洗液和冲洗液，以便通过液体喷射孔将其喷射到基板的后部。 围绕由基板保持单元维持的基板的杯（4）。 控制单元控制基板的旋转和液体供应。 控制单元在液体喷射孔的周围形成液体层以处理基板和周围环境。