公开(公告)号：KR20210035289A

公开(公告)日：2021-03-31

申请号：KR1020217006031A

申请日：2019-07-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 유스케 스즈키 ,  츠요시 모리야 ,  다다시 미츠나리 ,  신야 이와시타 ,  요시노리 모리사다 ,  나오타카 노로 ,  무네히코 가가야 ,  사토시 다나카

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/505

CPC classification number: C23C16/455 ,  C23C16/45597 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/505

Abstract: 처리 용기와, 기판을 승강 가능하게 지지하는 지지 기구와, 상기 지지 기구에 지지된 기판의 표면에 제1 가스를 공급하는 제1 가스 공급부와, 상기 지지 기구에 지지된 기판의 이면에 제2 가스를 공급하는 제2 가스 공급부와, 상기 지지 기구에 지지된 기판의 표면 또는 이면의 적어도 어느 것에 제3 가스를 공급하는 제3 가스 공급부를 갖는 성막 장치가 제공된다.