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公开(公告)号：KR100575320B1
公开(公告)日：2006-08-18
申请号：KR1019980033140
申请日：1998-08-14
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/00
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
기판처리장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
기판에 대한 일련의 처리를 기판반송거리를 길게 하지 않고 고효율로 행할 수 있으며, 기판에 대한 진공처리와, 그 전공정 및/또는 후공정에 해당하는 처리를 기판반송거리를 길게 하지 않고 고효율로 행할 수 있는 기판처리장치를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
피처리기판에 대하여 레지스트도포 및 노광후의 현상을 행함과 동시에, 현상후의 피처리기판을 에칭하기 위한 일련의 처리를 행하는 복수의 처리유니트를 반송로의 양측에 배치한 처리부와, 반송로에 따라 이동하고, 각 처리유니트와의 사이에서 기판의 주고받음을 행하는 주반송장치와, 주반송장치에 대하여 피처리기판을 주고받음하는 반송기구를 가지는 반출입부를 구비하며, 이들 처리부의 각 처리유니트 및 반송로 그리고 반출입부가 일체적으로 설치되어 있다.
4. 발명의 중요한 용도
LCD 유리기판, 반도체웨이퍼등의 기판에 대하여 레지스트도포 및 현상처리, 및 현상후의 에칭처리등을 행하는 기판처리장치에 사용됨.-
公开(公告)号：KR1019990023624A
公开(公告)日：1999-03-25
申请号：KR1019980033140
申请日：1998-08-14
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/00
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
기판처리장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
기판에 대한 일련의 처리를 기판반송거리를 길게 하지 않고 고효율로 행할 수 있으며, 기판에 대한 진공처리와, 그 전공정 및/또는 후공정에 해당하는 처리를 기판반송거리를 길게 하지 않고 고효율로 행할 수 있는 기판처리장치를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
피처리기판에 대하여 레지스트도포 및 노광후의 현상을 행함과 동시에, 현상후의 피처리기판을 에칭하기 위한 일련의 처리를 행하는 복수의 처리유니트를 반송로의 양측에 배치한 처리부와, 반송로에 따라 이동하고, 각 처리유니트와의 사이에서 기판의 주고받음을 행하는 주반송장치와, 주반송장치에 대하여 피처리기판을 주고받음하는 반송기구를 가지는 반출입부를 구비하며, 이들 처리부의 각 처리유니트 및 반송로 그리고 반출입부가 일체적으로 설치되어 있다.
4. 발명의 중요한 용도
LCD 유리기판, 반도체웨이퍼등의 기판에 대하여 레지스트도포 및 현상처리, 및 현상후의 에칭처리등을 행하는 기판처리장치에 사용됨.
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