도포 현상 장치, 도포 현상 방법 및 기억매체
    1.
    发明公开
    도포 현상 장치, 도포 현상 방법 및 기억매체 有权
    涂料和开发设备,涂料和开发方法和储存介质

    公开(公告)号:KR1020100073996A

    公开(公告)日:2010-07-01

    申请号:KR1020090123056

    申请日:2009-12-11

    Abstract: PURPOSE: A coating and developing apparatus, a coating and developing method, and a storage medium are provided to improve a throughput by preventing a substrate entering space to a rear module of a heating module from increasing. CONSTITUTION: A MUTC is produced from a MUT of each module(S2). An AST about a transfer arm to transfer a wafer to a heating module is produced(S4). A cycle time of the transfer arm to access PAB is determined by comparing the AST with maximum MUTC(S5). A wafer stay cycle in the PAB is produced as an integral number by rounding off a fraction if the fraction occurs(S6). A wafer stay cycle in a PEB is produced as an integral number by rounding off a fraction if the fraction occurs(S7). A transfer schedule is set based on the number of the wafer stay cycles in the PAB and the PEB, the number of cycles to change a temperature in the PAB and the PEB, and the cycle time of the transfer arm(S8).

    Abstract translation: 目的:提供涂覆和显影装置,涂覆和显影方法以及存储介质,以通过防止基板进入加热模块的后部模块的空间增加而提高生产量。 构成:MUTC由每个模块的MUT产生(S2)。 产生关于将晶片转移到加热模块的转移臂的AST(S4)。 通过将AST与最大MUTC进行比较来确定传送臂进入PAB的周期时间(S5)。 如果分数发生,则通过舍入分数来产生PAB中的晶片停留周期作为积分数(S6)。 如果发生分数,则通过舍入分数来生成PEB中的晶片停留周期作为整数。 基于PAB和PEB中的晶片停留周期的数量,改变PAB和PEB中的温度的周期数以及传送臂的周期时间来设置传送调度(S8)。

    도포 현상 장치, 도포 현상 방법 및 기억매체
    2.
    发明授权
    도포 현상 장치, 도포 현상 방법 및 기억매체 有权
    涂料和开发设备,涂料和开发方法和储存介质

    公开(公告)号:KR101445352B1

    公开(公告)日:2014-09-29

    申请号:KR1020090123056

    申请日:2009-12-11

    Abstract: 선발 로트의 기판에 대하여 처리가 종료된 후에 후발 로트의 기판이 가열 모듈로 반송되기 전에 당해 가열 모듈에서 정정 처리가 행해지는 도포 현상 장치에서, 그 정정에 의해 그 가열 모듈의 후단 모듈로의 기판의 반입 간격이 길어지는 것을 방지하는 것이다. 도포 블록 및 현상 블록의 각각에 대하여, 해당 모듈에서 행해지는 처리에 필요한 프로세스 시간을 당해 모듈이 준비되어 있는 대수로 나눈 값과, 도포 블록 및 현상 블록의 각각의 기판 반송 수단이 반송 스케줄로 설정된 모듈군에 대하여 차례로 상류측으로부터 하류측으로 기판을 전달함으로써 일주할 때의 최단 시간으로부터 각 가열 모듈의 체재 사이클 수 혹은 그 체재 사이클 수 및 사용되는 가열 모듈의 수를 결정한다.

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