公开(公告)号：KR1020150057976A

公开(公告)日：2015-05-28

申请号：KR1020140151262

申请日：2014-11-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사사키야스하루 ,  후시미아키히토

IPC: H01L21/683 ,  H02N13/00 ,  B23Q3/15 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01L21/6833 ,  Y10T29/49998 ,  Y10T279/23

Abstract: 재치대에피흡착물을흡착시키는방법이제공된다. 재치대는, 감압가능한공간내에서피처리체를처리하기위한처리장치에서이 공간을구획하여형성하는처리용기내에설치되어있다. 또한, 처리장치는예를들면플라즈마처리장치이다. 이방법은, 재치대의정전척 상에피흡착물을재치하는공정과, 정전척의 3 개의전극에각각서로위상이상이한 3 개의교류전압을인가하는공정을포함한다.

Abstract translation: 提供了一种用于将目标物体吸附在安装台上的方法。 安装台安装在通过在可用于减压的空间中分割用于处理目标物体的处理装置中的空间而形成的处理容器中。 此外，处理装置是作为示例的等离子体处理装置。 该方法包括将目标物体安装在安装台的静电卡盘上的过程; 并且将具有不同相位的三个交流电压施加到静电卡盘的三个电极。