公开(公告)号：KR102228321B1

公开(公告)日：2021-03-15

申请号：KR1020170121617A

申请日：2017-09-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고헤이 후쿠시마 ,  히로미 니타도리

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: C23C16/45578 ,  H01L21/67017 ,  C23C16/45587 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/4584 ,  H01L21/02104 ,  H01L21/02263

Abstract: 본 발명은, 기판에 실시되는 처리의 면내 분포를 제어하는 것이 가능한 가스 도입 기구를 제공하는 것이다. 일 실시 형태의 가스 도입 기구는, 처리 용기 내에서 소정의 가스를 사용해서 기판에 대해 소정의 처리를 실시하기 위해서 상기 처리 용기에 설치된 가스 도입 기구이며, 상기 처리 용기의 하단부에 배치된 매니폴드로서, 상기 처리 용기의 내벽면을 따라 상하로 연장됨과 함께, 관상 부재를 삽입 가능하면서 또한 밖에서 끼워 지지 가능한 삽입 구멍을 갖는 인젝터 지지부와, 상기 인젝터 지지부로부터 외측으로 돌출되고, 상기 삽입 구멍과 상기 처리 용기의 외부를 연통해서 가스가 통류 가능한 가스 유로를 내부에 갖는 가스 도입부를 갖는 매니폴드와, 상기 삽입 구멍에 삽입되어, 상기 내벽면을 따라 전체가 직선 형상으로 연장됨과 함께, 상기 삽입 구멍에 삽입된 개소에 상기 가스 유로와 연통하는 개구를 갖는 인젝터와, 상기 인젝터의 하단부에 접속되어, 상기 인젝터를 회전시키는 회전 기구를 갖는다.