公开(公告)号：KR20210037641A

公开(公告)日：2021-04-06

申请号：KR1020210037157A

申请日：2021-03-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야스히로 다카키 ,  히로시 고미야 ,  치카라 노부쿠니 ,  게이고 사타케 ,  아츠시 아나모토

IPC: H01L21/02 ,  G05D11/13 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/02041 ,  G05D11/138 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/67075 ,  H01L21/67253

Abstract: 본 발명은, 정확한 농도의 처리액을 기판에 공급하는 것을 목적으로 한다.
기판 액처리 장치는, 탱크(102)와, 순환 라인(104)과, 분기 라인(112)을 통해 순환 라인에 접속되고, 순환 라인을 흐르는 처리액을 이용하여 기판에 액처리를 실시하는 처리부(16)와, 적어도 2종류의 원료액의 각각의 공급원으로부터 공급되는 원료액을 제어된 혼합비로 혼합하여 처리액을 생성하는 처리액 생성 기구(206A, 206B, 208)와, 순환 라인을 흐르는 처리액의 농도 및 처리액 공급 라인을 흐르는 처리액의 농도를 측정하는 농도 측정 장치(212)(또는 212')와, 측정된 처리액의 농도에 기초하여 처리액 생성 기구를 제어하는 제어 장치(4)를 구비한다.