반도체 장치 및 그 제조 방법
    3.
    发明授权
    반도체 장치 및 그 제조 방법 有权
    半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:KR101830712B1

    公开(公告)日:2018-02-21

    申请号:KR1020170041960

    申请日:2017-03-31

    Abstract: 반도체장치가제공된다. 반도체장치는, 기판, 상기기판상에상기기판과수직으로연장되는채널층, 상기채널층의측면을감싸는플로팅게이트, 상기플로팅게이트의측면을감싸는컨트롤게이트, 상기컨트롤게이트상에배치되고, 상기플로팅게이트의측면을감싸는터널링게이트를포함하되, 상기채널층이연장되는방향의상기컨트롤게이트의두께는상기채널층이연장되는방향의상기터널링게이트의두께보다크다.

    Abstract translation: 提供了一种半导体器件。 1。一种半导体器件,包括:衬底;在衬底上垂直于衬底延伸的沟道层;围绕沟道层的侧面的浮置栅极;围绕浮置栅极的侧面的控制栅极; 其中控制栅极在沟道层延伸的方向上的厚度大于隧道栅极在沟道层延伸的方向上的厚度。

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