公开(公告)号：KR1020010012447A

公开(公告)日：2001-02-15

申请号：KR1019997010401

申请日：1999-02-23

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 뉴먼피터씨. ,  샌드스트롬리차드엘.

IPC: H01S3/13

CPC classification number: G01J9/0246 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1392 ,  H01S3/225

Abstract: 협대역레이저의파장을측정하고조절하는파장시스템. 시스템은파장에서의증분변화를측정하는웨이브미터(120)와웨이브미터(120)를측정하는원자파장기준(190)을포함한다. 원자파장기준(190)은원하는동작파장에가까운적어도하나의흡수선을가진증기를제공하는증기셀(194)을포함한다. 시스템은웨이브미터(120)를측정하기위해흡수선의파장에서동작하는레이저를조정하기에충분한조정범위를가진파장조정장치(36)를포함한다. 바람직한실시예에서레이저는 ArF 레이저이고증기는백금이며흡수선은 193,224.3pm이거나 293,436.9이다. 종래의기술장치에대한개선점은엘라스토머를사용하지않고에탈론에대한저응력 3점현수지지부를제공하는지지플랜지를가진개선된에탈론을포함한다.

Abstract translation: 测量和控制窄带激光器波长的波长系统。 该系统包括用于测量波长的增量变化的波长计120和用于测量波长计120的原子波长参考190。 原子波长参考（190）包括提供具有接近工作波长的至少一条吸收线的蒸气的蒸气室（194）。 该系统包括具有调谐范围的波长调谐装置36，该调谐范围足以校准在吸收线的波长处操作的激光器以测量波表120。 在一个优选实施例中，激光器是ArF激光器，蒸汽是铂，吸收线是193,224.3pm或293,436.9。 现有技术装置的改进包括具有支撑凸缘的改进标准具，其为标准具提供低应力三点悬挂支撑而不使用弹性体。

公开(公告)号：KR1020060031887A

公开(公告)日：2006-04-13

申请号：KR1020067005165

申请日：1999-02-23

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 뉴먼피터씨. ,  샌드스트롬리차드엘.

IPC: H01S3/13

CPC classification number: G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1392 ,  H01S3/225

Abstract: A wavelength system for measuring and controlling the wavelength of a narrowband laser. The system includes a wavemeter (120) for measuring incremental changes in wavelength and an atomic wavelength reference (190) for calibrating the wavemeter (120). The atomic wavelength reference (190) includes a vapor cell (194) for providing a vapor having at least one absorption line near a desired operating wavelength. The system includes a wavelength tuning device (36) with a tuning range sufficient to tune the laser to operate at the wavelength of the absorption line in order to calibrate the wavemeter (120). In a preferred embodiment, the laser is an ArF laser, and the vapor is platinum and the absorption line is either 193,224.3 pm or 293,436.9. Improvements over prior art devices include an improved etalon (184) having a support flange (81) to provide a low stress three-point hanging support (86) for the etalon without use of elastomer.

Abstract translation: 用于测量和控制窄带激光波长的波长系统。 该系统包括用于测量波长的增量变化的波长计（120）和用于校准波形计（120）的原子波长参考（190）。 原子波长参考（190）包括用于提供具有靠近所需工作波长的至少一个吸收线的蒸汽的蒸汽单元（194）。 该系统包括具有足以调谐激光器以在吸收线的波长下工作以便校准波分计（120）的调谐范围的波长调谐装置（36）。 在优选实施例中，激光是ArF激光，蒸气是铂，吸收线是193,224.3μm或293,436.9。 现有技术装置的改进包括具有支撑凸缘（81）的改进的标准具（184），以在不使用弹性体的情况下为标准具提供低应力三点悬挂支架（86）。

公开(公告)号：KR100614500B1

公开(公告)日：2006-08-22

申请号：KR1019997010401

申请日：1999-02-23

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 뉴먼피터씨. ,  샌드스트롬리차드엘.

IPC: H01S3/13

CPC classification number: G01J9/0246 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1392 ,  H01S3/225

Abstract: 협대역 레이저의 파장을 측정하고 조절하는 파장 시스템. 시스템은 파장에서의 증분 변화를 측정하는 웨이브미터(120)와 웨이브미터(120)를 측정하는 원자 파장 기준(190)을 포함한다. 원자 파장 기준(190)은 원하는 동작 파장에 가까운 적어도 하나의 흡수선을 가진 증기를 제공하는 증기셀(194)을 포함한다. 시스템은 웨이브미터(120)를 측정하기 위해 흡수선의 파장에서 동작하는 레이저를 조정하기에 충분한 조정 범위를 가진 파장 조정 장치(36)를 포함한다. 바람직한 실시예에서 레이저는 ArF 레이저이고 증기는 백금이며 흡수선은 193,224.3pm이거나 293,436.9이다. 종래의 기술 장치에 대한 개선점은 엘라스토머를 사용하지 않고 에탈론에 대한 저응력 3점 현수 지지부를 제공하는 지지 플랜지를 가진 개선된 에탈론을 포함한다.
협대역 레이저, 파장 시스템, 웨이브 미터, 원자 파장 기준, 흡수선, 증기셀, 엘라스토머

公开(公告)号：KR100674021B1

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：KR1020067005165

申请日：1999-02-23

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 뉴먼피터씨. ,  샌드스트롬리차드엘.

IPC: H01S3/13

CPC classification number: G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1392 ,  H01S3/225

Abstract: 협대역 레이저의 파장을 측정하고 조절하는 파장 시스템. 시스템은 파장에서의 증분 변화를 측정하는 웨이브미터(120)와 웨이브미터(120)를 측정하는 원자 파장 기준(190)을 포함한다. 원자 파장 기준(190)은 원하는 동작 파장에 가까운 적어도 하나의 흡수선을 가진 증기를 제공하는 증기셀(194)을 포함한다. 시스템은 웨이브미터(120)를 측정하기 위해 흡수선의 파장에서 동작하는 레이저를 조정하기에 충분한 조정 범위를 가진 파장 조정 장치(36)를 포함한다. 바람직한 실시예에서 레이저는 ArF 레이저이고 증기는 백금이며 흡수선은 193,224.3pm이거나 293,436.9이다. 종래의 기술 장치에 대한 개선점은 엘라스토머를 사용하지 않고 에탈론에 대한 저응력 3점 현수 지지부를 제공하는 지지 플랜지를 가진 개선된 에탈론을 포함한다.
협대역 레이저, 파장 시스템, 웨이브 미터, 원자 파장 기준, 흡수선, 증기셀, 엘라스토머