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    가스 방전 레이저용 연장가능한 전극
    1.
    发明授权
    가스 방전 레이저용 연장가능한 전극 有权
    用于气体放电激光器的可扩展电极

    公开(公告)号：KR101430516B1

    公开(公告)日：2014-08-18

    申请号：KR1020097022448

    申请日：2008-03-25

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 샌드스트롬리차드엘. ,  정태에이치. ,  우자즈도우스키리차드씨.

    IPC: H01S3/097

    CPC classification number: H01S3/038 ,  H01S3/0381 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2366

    Abstract: 하나 또는 2개 전극 모두가 부식으로 인해 크기가 변화되기 쉬운 횡단 방전 가스 레이저 챔버에서의 방전 전극 중 하나 또는 2개 모두를 연장하는 시스템 및 방법이 본문에 개시된다. 전극 연장은 챔버의 수명을 증가시키고, 챔버의 수명동안 레이저 성능을 증가시키거나, 그 둘 모두를 위해 수행될 수 있다. 동작가능하게, 전극간 공간 간격은 전극들 사이의 특정한 타겟 갭 거리를 유지하거나, 또는 대역폭, 펄스-투-펄스 에너지 안정성, 빔 크기등과 같은 레이저 출력 빔의 특정한 파라미터를 최적화하기 위해 조정될 수 있다.
    하우징, 제 1 전극, 방전 갭, 제 2 전극, 메커니즘, 제 1 에지, 제 2 에지, 가요성 부재, 실드, 주름, 톱니구조, 디바이스 파라미터, 제어 신호, 컨트롤러

    ＥＵＶ 플라즈마 소스 타겟 전달 방법 및 장치
    2.
    发明授权
    ＥＵＶ 플라즈마 소스 타겟 전달 방법 및 장치 有权
    用于EUV等离子体源目标传送的方法和装置

    公开(公告)号：KR101235023B1

    公开(公告)日：2013-02-21

    申请号：KR1020077021532

    申请日：2006-02-17

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 알고트스존마틴 ,  포멘코프이고르브이. ,  얼쇼프알렉산더아이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  헴버그오스카 ,  바이카노프알렉산더엔. ,  콥데니스더블유.

    IPC: H05G2/00

    CPC classification number: H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/006

    Abstract: 자기 제한 또는 전기 제한 재료를 포함하는 타겟 방울 형성 메커니즘, 출력 오리피스에서 종료하는 액체 플라즈마 소스 재료 경로, 제트 스트림을 형성하는 방울에 또는 선택된 경로를 따른 통로를 나가는 개별적인 방울에 전하를 인가하는 대전 메커니즘, 상기 선택된 경로부터 방울을 주기적으로 편향시키는 플라즈마 개시 사이트와 출력 오리피스 사이의 방울 편향기, 입력 개구 및 출력 오리피스를 갖는 액체 타겟 재료 전달 통로를 포함하는 액체 타겟 재료 전달 메커니즘, 액체 타겟 재료내에 외란력을 생성하는 기전력 외란력 생성 메커니즘, 출력 오리피스를 갖는 액체 타겟 전달 방울 형성 메커니즘 및/또는 상기 출력 오리피스의 주변부 둘레의 웨팅 배리어를 포함할 수 있는 EUV 플라즈마 형성 타겟 전달 시스템 및 방법이 개시되어 있다.
    EUV 플라즈마 형성 타겟 전달 시스템, 타겟 방울 메커니즘, 액체 플라즈마 소스 재료 경로, 대전 메커니즘, 방울 편향기, 액체 타겟 재료 전달 메커니즘, 기전력 외란력 생성 메커니즘, 액체 타겟 전달 방울 형성 메커니즘, 웨팅 배리어

    고 반복율 레이저 발생 플라즈마 ＥＵＶ 광원
    3.
    发明授权
    고 반복율 레이저 발생 플라즈마 ＥＵＶ 광원 有权
    高重复率激光器生产等离子体光源

    公开(公告)号：KR101118995B1

    公开(公告)日：2012-03-12

    申请号：KR1020067019050

    申请日：2005-03-03

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 아킨스로버트피. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  파르틀로윌리암엔. ,  포멘코프이고르브이. ,  스타이거토마스디. ,  알고츠마틴제이. ,  보워링노버트알 ,  자크스로버트엔. ,  팔렌샤트프레데릭에이. ,  송준

    IPC: G01J1/00 ,  G03F7/20 ,  H01J35/20 ,  H01J65/04

    CPC classification number: B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/003 ,  H05G2/008

    Abstract: 선택된 펄스 반복율로 소망하는 타겟 점화 사이트(28)에 포커싱된 레이저 펄스(55)를 공급하는 펄스 레이저(22); 이산 타겟(94)을 제공하는 타겟 형성 시스템(92); 타겟 형성 시스템(92)과 점화 사이트(28) 사이에 있는 타겟 스티어링 시스템(350); 타겟 형성 시스템(92)과 타겟 스티어링 시스템(350) 사이에서의 타겟의 이동에 대한 정보를 제공하는 타겟 추적 시스템(42); 점화시 점화 사이트(28) 또는 그 근방에 전기 플라즈마 감금 필드(316)를 제공하는 정전 플라즈마 억제 장치(314); EUV광을 통과시키기 위한 중간벽(282)을 갖는 베셀(30); 및 점화 사이트 근방에 자기 필드(320)를 발생시키는 자기 플라즈마 한정 매커니즘(329)을 포함하는 EUV 광원 장치(20).
    타겟 스티어링 시스템, 펄스 반복율, 점화 사이트, EUV 광, 펄스 레이저

    Abstract translation: 公开了一种EUV光源装置和方法，其可以包括脉冲激光，其以所选择的脉冲重复频率提供激光脉冲，聚焦在期望的目标点火部位; 目标形成系统，以与激光脉冲重复率配合的选定间隔提供离散目标; 目标转向系统在目标地层系统和期望的目标点火站点之间; 以及目标跟踪系统，其提供关于目标形成系统和目标转向系统之间的目标移动的信息，使得目标转向系统能够将目标定向到期望的目标点火点。 该装置和方法可以包括具有中间壁的容器和具有低压阱的容器，其允许EUV光通过并且保持横跨低压阱的压差。

    라인 내로우잉 모듈
    7.
    发明公开
    라인 내로우잉 모듈 有权
    线路延迟模块

    公开(公告)号：KR1020070084624A

    公开(公告)日：2007-08-24

    申请号：KR1020077012317

    申请日：2005-11-28

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 알고트스마틴제이. ,  버그스테트로버트에이. ,  글레스피월터디. ,  쿨게이코블라디미르에이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  라일로프게르만이. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  스트레이트브라이언디. ,  다이어디모티에스.

    IPC: H01S3/22

    CPC classification number: H01S3/1055 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  H01S3/005 ,  H01S3/036 ,  H01S3/08 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08059 ,  H01S3/097 ,  H01S3/106 ,  H01S3/2251

    Abstract: A line narrowing method and module for a narrow band DUV high power high repetition rate gas discharge laser producing output laser light pulse beam pulses in bursts of pulses, the module having a nominal optical path are disclosed which may comprise: a dispersive center wavelength selection optic moveably mounted within an optical path of the line narrowing module, selecting at least one center wavelength for each pulse determined at least in part by the angle of incidence of the laser light pulse beam containing the respective pulse on the dispersive wavelength selection optic; a first tuning mechanism operative in part to select the angle of incidence of the laser light pulse beam containing the respective pulse upon the dispersive center wavelength selection optic, by selecting an angle of transmission of the laser light pulse beam containing the pulse toward the dispersive center wavelength selection optic; a second tuning mechanism operative in part to select the angle of incidence of the laser light pulse beam containing the respective pulse by changing the position of the dispersive center wavelength selection optic relative to the nominal optical path of the line narrowing module; wherein the second tuning mechanism coarsely selects a value for the center wavelength and the first tuning mechanism more finely selects the value for the center wavelength.

    Abstract translation: 一种用于窄带DUV大功率高重复率气体放电激光器的线窄化方法和模块，其产生具有标称光路的脉冲串中的输出激光束脉冲束脉冲，其可以包括：分散中心波长选择光学器件 可移动地安装在线路窄化模块的光路内，为至少部分地由分散波长选择光学器件上包含相应脉冲的激光束的入射角确定的每个脉冲选择至少一个中心波长; 第一调谐机构部分地通过选择包含脉冲朝向分散中心的激光束的透射角度来选择包含分散中心波长选择光学器件上的各个脉冲的激光束的入射角 波长选择光学; 第二调谐机构部分地通过改变色散中心波长选择光学器件相对于线条变窄模块的标称光路的位置来选择包含相应脉冲的激光束的入射角; 其中第二调谐机构粗略地选择中心波长的值，并且第一调谐机构更精细地选择中心波长的值。

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