公开(公告)号：KR101406014B1

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：KR1020097018769

申请日：2008-02-01

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 던스탠웨인제이. ,  오브라이언케빈엠. ,  자크로버트엔. ,  베사우셀허브에이. ,  릭스다니엘제이. ,  라트남아라빈드

IPC: H01S3/036 ,  H01S3/03 ,  H01S3/00

CPC classification number: H01S3/036 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70975 ,  H01S3/0014 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/1306 ,  H01S3/134 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256

Abstract: 할로겐 함유 레이징 가스를 포함하는 포토리소그래피 공정용 가스방전 레이저 광원에 대한 가스 수명을 예측하는 단계를 포함하는 방법 및 장치가 개시되는데, 이러한 예측하는 단계는 복수의 레이저 오퍼레이팅 입력 및/또는 출력 파라미터 중 적어도 하나를 사용하는 단계; 상기 각각의 입력 또는 출력 파라미터에 관한 가스 사용 모델을 결정하기 위해 상기 포토리소그래피 공정에서 이용되는 한 세트의 적어도 하나의 파라미터를 사용하는 단계; 상기 모델 및 상기 각각의 입력 또는 출력 파라미터의 측정값을 기초로 상기 가스 수명의 끝을 예측하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 파라미터는 펄스 이용 패턴을 포함할 수 있다. 본 방법 및 장치는 할로겐 함유 레이징 가스를 포함하는 포토리소그래피 공정용 가스방전 레이저 광원에 대한 가스 관리를 수행하는 단계를 포함할 수 있고, 이러한 가스 관리는 일반적으로 전체 가스 리필에서 상기 레이저에 제공되는 사전혼합 비율과 동일한 비율이고, 상기 주입 이전에 상기 전체 가스 압력의 2퍼센트 미만의 양인 할로겐 가스와 벌크 가스의 혼합물을 포함한 주입을 포함하는 주기적이고 빈번한 부분적 가스 리필을 사용하는 단계를 포함한다.
포토리소그래피 공정용 가스방전 레이저 광원, 가스 수명 예측, 레이저 오퍼레이팅 입력 및/또는 출력 파라미터, 가스 사용 모델, 할로겐 가스, 벌크 가스.

公开(公告)号：KR1020090114446A

公开(公告)日：2009-11-03

申请号：KR1020097018769

申请日：2008-02-01

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 던스탠웨인제이. ,  오브라이언케빈엠. ,  자크로버트엔. ,  베사우셀허브에이. ,  릭스다니엘제이. ,  라트남아라빈드

IPC: H01S3/036 ,  H01S3/03 ,  H01S3/00

CPC classification number: H01S3/036 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70975 ,  H01S3/0014 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/1306 ,  H01S3/134 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256

Abstract: A method and apparatus are disclosed which may comprise predicting the gas lifetime for a gas discharge laser light source for a photolithography process, the light source comprising a halogen contaim'ng lasing gas may comprise: utilizing at least one of a plurality of laser operating input and/or output parameters; utilizing a set of at least one parameter of utilization in the photolithography process to determine a gas use model in relation to the respective input or output parameter; predicting the end of gas life based upon the model and a measurement of the respective input or output parameter. The parameter may comprise a pulse utilization pattern. The method and apparatus may comprise performing gas management for a gas discharge laser light source for a photolithography process, the light source comprising a halogen containing lasing gas comprising: utilizing periodic and frequent partial gas refills comprising an inject comprising a mixture of halogen gas and bulk gas in generally the same ration as the premix ratio provided to the laser in a full gas refill, and in an amount less than two percent of the total gas pressure prior to the injection.

Abstract translation: 公开了一种可以包括预测用于光刻工艺的气体放电激光源的气体寿命的方法和装置，包括卤素阻挡激光气体的光源可以包括：利用多个激光操作输入中的至少一个 和/或输出参数; 在光刻工艺中利用一组至少一个利用参数来确定相对于相应输入或输出参数的气体使用模型; 基于模型和相应的输入或输出参数的测量来预测气体寿命的结束。 该参数可以包括脉冲利用模式。 该方法和装置可以包括对用于光刻工艺的气体放电激光光源执行气体管理，该光源包括含卤素的激光气体，其包括：利用周期性和频繁的部分气体再填充，其包括含有卤素气体和体积的混合物 气体通常与在全气体再填充中提供给激光器的预混合比率相同，并且其量小于喷射前的总气体压力的2％。