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    레이저 가스 주입 시스템
    2.
    发明授权
    레이저 가스 주입 시스템 有权
    激光喷射系统

    公开(公告)号：KR101406014B1

    公开(公告)日：2014-06-11

    申请号：KR1020097018769

    申请日：2008-02-01

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 던스탠웨인제이. ,  오브라이언케빈엠. ,  자크로버트엔. ,  베사우셀허브에이. ,  릭스다니엘제이. ,  라트남아라빈드

    IPC: H01S3/036 ,  H01S3/03 ,  H01S3/00

    CPC classification number: H01S3/036 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70975 ,  H01S3/0014 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/1306 ,  H01S3/134 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256

    Abstract: 할로겐 함유 레이징 가스를 포함하는 포토리소그래피 공정용 가스방전 레이저 광원에 대한 가스 수명을 예측하는 단계를 포함하는 방법 및 장치가 개시되는데, 이러한 예측하는 단계는 복수의 레이저 오퍼레이팅 입력 및/또는 출력 파라미터 중 적어도 하나를 사용하는 단계; 상기 각각의 입력 또는 출력 파라미터에 관한 가스 사용 모델을 결정하기 위해 상기 포토리소그래피 공정에서 이용되는 한 세트의 적어도 하나의 파라미터를 사용하는 단계; 상기 모델 및 상기 각각의 입력 또는 출력 파라미터의 측정값을 기초로 상기 가스 수명의 끝을 예측하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 파라미터는 펄스 이용 패턴을 포함할 수 있다. 본 방법 및 장치는 할로겐 함유 레이징 가스를 포함하는 포토리소그래피 공정용 가스방전 레이저 광원에 대한 가스 관리를 수행하는 단계를 포함할 수 있고, 이러한 가스 관리는 일반적으로 전체 가스 리필에서 상기 레이저에 제공되는 사전혼합 비율과 동일한 비율이고, 상기 주입 이전에 상기 전체 가스 압력의 2퍼센트 미만의 양인 할로겐 가스와 벌크 가스의 혼합물을 포함한 주입을 포함하는 주기적이고 빈번한 부분적 가스 리필을 사용하는 단계를 포함한다.
    포토리소그래피 공정용 가스방전 레이저 광원, 가스 수명 예측, 레이저 오퍼레이팅 입력 및/또는 출력 파라미터, 가스 사용 모델, 할로겐 가스, 벌크 가스.

    레이저 가스 주입 시스템
    3.
    发明公开
    레이저 가스 주입 시스템 有权
    激光喷射系统

    公开(公告)号：KR1020090114446A

    公开(公告)日：2009-11-03

    申请号：KR1020097018769

    申请日：2008-02-01

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 던스탠웨인제이. ,  오브라이언케빈엠. ,  자크로버트엔. ,  베사우셀허브에이. ,  릭스다니엘제이. ,  라트남아라빈드

    IPC: H01S3/036 ,  H01S3/03 ,  H01S3/00

    CPC classification number: H01S3/036 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70975 ,  H01S3/0014 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/1306 ,  H01S3/134 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256

    Abstract: A method and apparatus are disclosed which may comprise predicting the gas lifetime for a gas discharge laser light source for a photolithography process, the light source comprising a halogen contaim'ng lasing gas may comprise: utilizing at least one of a plurality of laser operating input and/or output parameters; utilizing a set of at least one parameter of utilization in the photolithography process to determine a gas use model in relation to the respective input or output parameter; predicting the end of gas life based upon the model and a measurement of the respective input or output parameter. The parameter may comprise a pulse utilization pattern. The method and apparatus may comprise performing gas management for a gas discharge laser light source for a photolithography process, the light source comprising a halogen containing lasing gas comprising: utilizing periodic and frequent partial gas refills comprising an inject comprising a mixture of halogen gas and bulk gas in generally the same ration as the premix ratio provided to the laser in a full gas refill, and in an amount less than two percent of the total gas pressure prior to the injection.

    Abstract translation: 公开了一种可以包括预测用于光刻工艺的气体放电激光源的气体寿命的方法和装置，包括卤素阻挡激光气体的光源可以包括：利用多个激光操作输入中的至少一个 和/或输出参数; 在光刻工艺中利用一组至少一个利用参数来确定相对于相应输入或输出参数的气体使用模型; 基于模型和相应的输入或输出参数的测量来预测气体寿命的结束。 该参数可以包括脉冲利用模式。 该方法和装置可以包括对用于光刻工艺的气体放电激光光源执行气体管理，该光源包括含卤素的激光气体，其包括：利用周期性和频繁的部分气体再填充，其包括含有卤素气体和体积的混合物 气体通常与在全气体再填充中提供给激光器的预混合比率相同，并且其量小于喷射前的总气体压力的2％。

    자외선 레이저 광원 펄스 에너지 제어 시스템
    4.
    发明授权
    자외선 레이저 광원 펄스 에너지 제어 시스템 有权
    ULTRAVIOLET激光光源脉冲能量控制系统

    公开(公告)号：KR101539958B1

    公开(公告)日：2015-07-28

    申请号：KR1020107007124

    申请日：2008-09-10

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 던스탠웨인제이. ,  자크로버트엔.

    IPC: H01S3/10

    CPC classification number: H01S3/225 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134

    Abstract: 가스방전레이저시스템에너지컨트롤러로서, 레이저시스템출력에너지의값을타겟값으로변경하기위해필요한제1 레이저동작파라미터의값의에너지컨트롤러모델및 출력에너지에대한타겟값에비교되는상기레이저시스템의출력에너지의값에관한에러신호를기초로제1 레이저동작파라미터제어신호를제공하는레이저시스템에너지컨트롤러, 및적어도하나의이전버스트에대하여, 선택된출력에너지를산출하기위한전압과연관된, 제2 레이저시스템동작파라미터의히스토리를기초로피드포워드신호를산출하는, 출력에너지의값을타겟값으로변경하기위해필요한제1 레이저시스템동작파라미터의값에대한제2 레이저시스템동작파라미터의영향의컨트롤러신호수정모델을기초로하여, 제1 레이저동작파라미터제어신호에대한수정을제공하는제1 레이저동작파라미터제어신호수정기를구비한가스방전레이저시스템에너지컨트롤러를포함하는장치및 방법이개시된다.

    ＤＵＶ 광원의 액티브 스펙트럼 컨트롤
    5.
    发明公开
    ＤＵＶ 광원의 액티브 스펙트럼 컨트롤 有权
    DUV光源的主动式SEPCTRAL控制

    公开(公告)号：KR1020080106215A

    公开(公告)日：2008-12-04

    申请号：KR1020087021234

    申请日：2007-01-22

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 던스탄웨인제이. ,  자크로버트엔. ,  라오라자세크하르엠. ,  트린초우크표도르비.

    IPC: H01L21/027

    CPC classification number: H01S3/13 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/134 ,  H01S3/136 ,  G03F7/70491 ,  G03F7/70516

    Abstract: According to aspects of an embodiment of the disclosed subject matter, a line narrowed high average power high pulse repetition laser micro-photolithography light source bandwidth control method and apparatus are disclosed which may comprise a bandwidth metrology module measuring the bandwidth of a laser output light pulse beam pulse produced by the light source and providing a bandwidth measurement; a bandwidth error signal generator receiving the bandwidth measurement and a bandwidth setpoint and providing a bandwidth error signal; an active bandwidth controller providing a fine bandwidth correction actuator signal and a coarse bandwidth correction actuator signal responsive to the bandwidth error. The fine bandwidth correction actuator and the coarse bandwidth correction actuator each may induce a respective modification of the light source behavior that reduces bandwidth error. The coarse and fine bandwidth correction actuators each may comprise a plurality of bandwidth correction actuators. ® KIPO & WIPO 2009

    Abstract translation: 根据所公开主题的实施例的方面，公开了一种窄的高平均功率高脉冲重复激光微光刻光源带宽控制方法和装置，其可以包括测量激光输出光脉冲的带宽的带宽测量模块 由光源产生的光束脉冲并提供带宽测量; 接收带宽测量和带宽设定点并提供带宽误差信号的带宽误差信号发生器; 有源带宽控制器提供精细的带宽校正致动器信号和响应于带宽误差的粗略带宽校正致动器信号。 精细带宽校正致动器和粗带宽校正致动器各自可以引起减少带宽误差的光源特性的相应修改。 粗略和精细带宽校正致动器各自可以包括多个带宽校正致动器。 ®KIPO＆WIPO 2009

    ＥＵＶ광원
    6.
    发明公开
    ＥＵＶ광원 有权
    EUV光源

    公开(公告)号：KR1020070003996A

    公开(公告)日：2007-01-05

    申请号：KR1020067020324

    申请日：2005-02-24

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 파틀로윌리암엔. ,  보워링노베르트에르. ,  어쇼브알렉산더아이. ,  포멘코브이고르브이. ,  올리버아이.로저 ,  비아텔라존 ,  자크로버트엔.

    IPC: H01J35/20 ,  G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01J65/04

    CPC classification number: G03F7/70033 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70916 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/006 ,  H05G2/008

    Abstract: An apparatus and method for EUV light production is disclosed which may comprise a laser produced plasma (" LPP") extreme ultraviolet ("EUV") light source control system comprising a target delivery system adapted to deliver moving plasma initiation targets and an EUV light collection optic having a focus defining a desired plasma initiation site, comprising: a target tracking and feedback system comprising: at least one imaging device providing as an output an image of a target stream track, wherein the target stream track results from the imaging speed of the camera being too slow to image individual plasma formation targets forming the target stream imaged as the target stream track; a stream track error detector detecting an error in the position of the target stream track in at least one axis generally perpendicular to the target stream track from a desired stream track intersecting the desired plasma initiation site. At least one target crossing detector may be aimed at the target track and detecting the passage of a plasma formation target through a selected point in the target track. A drive laser triggering mechanism utilizing an output of the target crossing detector to determine the timing of a drive laser trigger in order for a drive laser output pulse to intersect the plasma initiation target at a selected plasma initiation site along the target track at generally its closest approach to the desired plasma initiation site. A plasma initiation detector may be aimed at the target track and detecting the location along the target track of a plasma initiation site for a respective target. An intermediate focus illuminator may illuminate an aperture formed at the intermediate focus to image the aperture in the at least one imaging device. The at least one imaging device may be at least two imaging devices each providing an error signal related to the separation of the target track from the vertical centerline axis of the image of the intermediate focus based upon an analysis of the image in the respective one of the at least two imaging devices. A target delivery feedback and control system may comprise a target delivery unit; a target delivery displacement control mechanism displacing the target delivery mechanism at least in an axis corresponding to a first displacement error signal derived from the analysis of the image in the first imaging device and at least in an axis corresponding to a second displacement error signal derived from the analysis of the image in the second imaging device. ® KIPO & WIPO 2007

    Abstract translation: 公开了一种用于EUV光产生的装置和方法，其可以包括激光产生的等离子体（“LPP”）极紫外（“EUV”）光源控制系统，其包括适于递送移动等离子体引发靶的目标传送系统和EUV光收集 光学元件具有限定期望的等离子体起始位置的焦点，包括：目标跟踪和反馈系统，包括：至少一个成像装置，其提供目标流轨迹的图像作为输出，其中，所述目标流轨迹来自所述目标流轨迹的成像速度 摄像机太慢，不能成像形成被作为目标流轨迹成像的目标流的各个等离子体形成目标; 流轨迹误差检测器，从与期望的等离子体起始位置相交的期望的流轨道检测在大致垂直于目标流轨迹的至少一个轴上的目标流轨迹位置的误差。 至少一个目标交叉检测器可以瞄准目标轨道并且检测等离子体形成目标通过目标轨道中的选定点的通过。 驱动激光触发机构利用目标交叉检测器的输出来确定驱动激光触发的定时，以便驱动激光输出脉冲在等离子体引发目标处沿着目标轨道在一般最接近的等离子体起始位置处相交 接近所需的等离子体引发位点。 等离子体起始检测器可以瞄准目标轨道并且检测针对相应目标的等离子体起始位置沿着目标轨迹的位置。 中间焦点照明器可以照亮形成在中间焦点处的孔，以对至少一个成像装置中的孔进行成像。 所述至少一个成像装置可以是至少两个成像装置，每个成像装置基于对所述中间焦点的图像的图像的分析，提供与所述目标轨道与所述中间焦点的图像的垂直中心线轴线分离相关的误差信号 所述至少两个成像装置。 目标传送反馈和控制系统可以包括目标传送单元; 目标传送位移控制机构至少在对应于从第一成像装置中的图像的分析导出的第一位移误差信号的轴上移动目标传送机构，并且至少在与由第二位移误差信号 对第二成像装置中的图像进行分析。 ®KIPO＆WIPO 2007

    자외선 레이저 광원 펄스 에너지 제어 시스템
    8.
    发明公开
    자외선 레이저 광원 펄스 에너지 제어 시스템 有权
    ULTRAVIOLET激光光源脉冲能量控制系统

    公开(公告)号：KR1020100067100A

    公开(公告)日：2010-06-18

    申请号：KR1020107007124

    申请日：2008-09-10

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 던스탠웨인제이. ,  자크로버트엔.

    IPC: H01S3/10

    CPC classification number: H01S3/225 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134

    Abstract: 가스방전레이저시스템에너지컨트롤러로서, 레이저시스템출력에너지의값을타겟값으로변경하기위해필요한제1 레이저동작파라미터의값의에너지컨트롤러모델및 출력에너지에대한타겟값에비교되는상기레이저시스템의출력에너지의값에관한에러신호를기초로제1 레이저동작파라미터제어신호를제공하는레이저시스템에너지컨트롤러, 및적어도하나의이전버스트에대하여, 선택된출력에너지를산출하기위한전압과연관된, 제2 레이저시스템동작파라미터의히스토리를기초로피드포워드신호를산출하는, 출력에너지의값을타겟값으로변경하기위해필요한제1 레이저시스템동작파라미터의값에대한제2 레이저시스템동작파라미터의영향의컨트롤러신호수정모델을기초로하여, 제1 레이저동작파라미터제어신호에대한수정을제공하는제1 레이저동작파라미터제어신호수정기를구비한가스방전레이저시스템에너지컨트롤러를포함하는장치및 방법이개시된다.

    Abstract translation: 公开了一种方法和装置，其可以包括：气体放电激光系统能量控制器，其可以包括：激光系统能量控制器，其基于与激光器的输出能量的值相关的误差信号提供第一激光器操作参数控制信号 系统与输出能量的目标值相比，以及将激光系统输出能量的值改变为目标值所需的第一激光器操作参数的值的能量控制器模型; 第一激光系统操作参数控制信号修改器，其基于第二激光系统操作参数对第一激光系统操作参数的值的控制器信号修改模型，提供对第一激光系统操作参数控制信号的修改， 将输出能量的值更改为目标值。

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