公开(公告)号：KR100425861B1

公开(公告)日：2004-04-03

申请号：KR1020017002844

申请日：1999-08-18

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 모튼리차드지. ,  파틀로윌리엄엔.

IPC: H01S3/10

CPC classification number: H01S3/0057 ,  H01S3/225

Abstract: An excimer laser with optical pulse multiplication. A pulse multiplier optical system receives the laser output beam and produces a multiplier output beam having a larger number of pulses, each with substantially reduced intensity values as compared to the laser output beam. The present invention is particularly important as an improvement to the ArF excimer laser to reduce two-photon absorption damage to optical equipment in lithography machines. For damage mechanisms involving two-photon processes, such as the compaction and solarization of fused silica in the DUV spectral region, a factor of 4 reduction in peak power decreases the quantity of two photon absorption damage done by the synthesized 4-pulse burst by a factor of about 16 compared to delivering all of the energy in the single pulse emitted by the laser. This is a useful method of prolonging the lifetime of very expensive beam delivery systems such as those used in photolithography stepper systems without reducing the total dose available at the wafer. In preferred embodiments, the pulse multiplier system is contained in a module which can be pre-aligned and quickly installed on the excimer laser.

Abstract translation: 具有光学脉冲倍增的准分子激光器。 脉冲倍增器光学系统接收激光输出光束并产生具有更多脉冲的倍增输出光束，与激光输出光束相比，每个光束的强度值都大幅降低。 本发明作为改进ArF准分子激光器以减少光刻机中光学设备的双光子吸收损伤是特别重要的。 对于涉及双光子过程的损伤机制，例如在DUV光谱区域中熔融石英的压实和日晒，峰值功率减少4倍减少由合成的4脉冲突发产生的双光子吸收损伤量 与在由激光器发射的单个脉冲中提供所有能量相比，约16倍。 这是延长非常昂贵的光束传输系统（例如在光刻步进系统中使用的光束传输系统的寿命）而不减少晶片上可用的总剂量的有用方法。 在优选实施例中，脉冲倍增系统包含在可以预先对准并快速安装在准分子激光器上的模块中。

公开(公告)号：KR1020010074954A

公开(公告)日：2001-08-09

申请号：KR1020017002844

申请日：1999-08-18

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 모튼리차드지. ,  파틀로윌리엄엔.

IPC: H01S3/10

Abstract: 펄스 증배기 광학 시스템(79)은 엑시머 레이저 출력 빔을 수신하고, 각각 레이저 출력 빔에 비교하여 실질적으로 감소된 강도를 갖는 다수의 펄스를 갖는 증배기 출력 빔을 생성한다. 본 발명은 리소그래피 머신내의 광학 장비에 대한 이광자흡수 손상을 감소시키기 위한 ArF엑시머 레이저의 향상으로서 특별히 중요하다. DUV 스펙트럼 영역내의 용융 실리카의 압축 및 과다감광과 같은, 이광자과정을 포함하는 손상 머신에 대해, 피크전력에서의 4 감소의 요인은 레이저에 의해 방출된 단일 펄스내의 모든 에너지를 송출하는 단계에 비교하여 약 16 의 요인에 의해 합성 4-펄스 버스트에 의해 이루어지는 이광자흡수 손상의 양을 감소시킨다. 바람직한 실시예에서, 펄스 증배기 시스템은 엑시머 레이저상에 사전 정렬되고 빠르게 설치될 수 있는 모듈내에 포함된다.