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    레이저 시스템
    2.
    发明公开
    레이저 시스템 有权
    激光系统

    公开(公告)号：KR1020110091788A

    公开(公告)日：2011-08-12

    申请号：KR1020117014864

    申请日：2006-10-20

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 에르쇼프알렉산더아이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  브라운다니엘제이.더블유. ,  포멘코프아이고르브이. ,  베르그스테츠로버트에이. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  라로빅이반

    IPC: H01S3/22 ,  H01S3/03

    CPC classification number: H01S3/225 ,  G03F7/70583 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/03 ,  H01S3/034 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/08059 ,  H01S3/10092 ,  H01S3/105 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2333

    Abstract: 제1가스방전 엑시머 또는 분자 플루오르 레이저 챔버, 및 제1오실레이터 캐비티 내의 라인 내로우잉 모듈을 포함하는 레이저 출력 광 빔 펄스를 포함하는 출력을 산출하는 시드 레이저 오실레이터; 레이저 출력 광 빔 펄스를 포함하는 레이저 시스템 출력을 형성하기 위해 시드 레이저 오실레이터의 출력을 수신하고, 시드 레이저 오실레이터의 출력을 증폭하는 제2가스방전 엑시머 또는 분자 플루오르 레이저 챔버 내에 증폭 이득 매체를 포함하는 레이저 증폭 스테이지; 및 링 파워 증폭 스테이지를 포함하는 라인 내로우드 펄스 엑시머 또는 분자 플루오르 가스방전 레이저 시스템을 포함할 수 있는 방법 및 장치가 개시된다.

    Abstract translation: 种子激光振荡器，用于在第一振荡器腔中产生包括激光输出光束脉冲的输出，所述激光输出光束脉冲包括第一气体放电准分子或分子氟激光腔室和机翼模块; 其中以形成一个激光系统输出，其包括一个光束脉冲接收种子激光振荡器的激光腔中的输出和第二气体排出准分子或分子氟放大增益介质，用于放大种子激光器振荡器的输出激光输出的激光 放大阶段; 公开了一种方法和设备，其可以将木材脉冲准分子或分子氟气体放电激光系统包括到包括环形功率放大级的线路中。

    ＥＵＶ 플라즈마 소스 타겟 전달 방법 및 장치
    3.
    发明公开
    ＥＵＶ 플라즈마 소스 타겟 전달 방법 및 장치 有权
    用于EUV等离子体源目标传送的方法和装置

    公开(公告)号：KR1020070110886A

    公开(公告)日：2007-11-20

    申请号：KR1020077021532

    申请日：2006-02-17

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 알고트스존마틴 ,  포멘코프이고르브이. ,  얼쇼프알렉산더아이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  헴버그오스카 ,  바이카노프알렉산더엔. ,  콥데니스더블유.

    IPC: H05G2/00

    CPC classification number: H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/006

    Abstract: An EUV plasma formation target delivery system and method is disclosed which may comprise: a target droplet formation mechanism comprising a magneto-restrictive or electro-restrictive material, a liquid plasma source material passageway terminating in an output orifice; a charging mechanism applying charge to a droplet forming jet stream or to individual droplets exiting the passageway along a selected path; a droplet deflector intermediate the output orifice and a plasma initiation site periodically deflecting droplets from the selected path, a liquid target material delivery mechanism comprising a liquid target material delivery passage having an input opening and an output orifice; an electromotive disturbing force generating mechanism generating a disturbing force within the liquid target material, a liquid target delivery droplet formation mechanism having an output orifice; and/or a wetting barrier around the periphery of the output orifice.

    Abstract translation: 公开了一种EUV等离子体形成靶递送系统和方法，其可以包括：目标液滴形成机构，其包括磁阻或电子限制材料，终止于输出孔的液体等离子体源材料通道; 将电荷施加到液滴形成喷射流或沿着选定路径离开通道的各个液滴的充电机构; 在输出孔之间的液滴偏转器和等离子体引发位置周期性地偏转来自所选择的路径的液滴;液体靶材料输送机构，包括具有输入开口和输出孔的液体靶材料输送通道; 产生在液体目标材料内的干扰力的电动干扰力产生机构，具有输出孔的液体目标传送液滴形成机构; 和/或围绕输出孔周边的润湿屏障。

    고속 상승시간 및 낮은 누설전류를 갖는 고펄스율펄스전력 시스템
    4.
    发明授权
    고속 상승시간 및 낮은 누설전류를 갖는 고펄스율펄스전력 시스템 有权
    具有快速上升时间和低漏电流的高脉冲速率脉冲电源系统

    公开(公告)号：KR100573499B1

    公开(公告)日：2006-04-26

    申请号：KR1020027001359

    申请日：2000-07-25

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 파틀로윌리엄엔. ,  네스리차드엠. ,  로스웨일다니엘에이. ,  멜처폴씨. ,  스미스브레트디. ,  벅스다니엘엘.

    IPC: H01S3/00

    Abstract: 2000Hz이상의 비율로 제어되는 높은 에너지의 전기 펄스를 공급하는 고펄스율 펄스전원(20)이 개시되어 있다. 상기 전원(20)은 충전 커패시터(42), 고체 스위치(46) 및 전류제한인덕터(48)를 포함하는 펄스발생회로(30)를 포함한다. 펄스발생회로(30)에서 발생된 펄스는 적어도 2개의 펄스압축회로(61, 65)에서 압축되고 승압 펄스 변압기(56)는 피크전압을 적어도 12,000볼트로 증가시킨다. 초고속 안정화 전원은 충전 커패시터(42)를 400마이크로초 미만내에 충전시키기 위해 제공되고 프로그래밍된 프로세서(102)를 포함하는 펄스제어시스템은 초당 적어도 2000전하의 비율로 약 1%미만의 정밀도로 충전 커패시터(42)의 충전을 제어한다.
    펄스전력 시스템, 펄스변압기, 압축회로, 피킹 커패시터, 가포화 인덕터, 펄스발생회로, 누설전류

    펄스 증배기를 갖는 엑시머 레이저
    5.
    发明授权
    펄스 증배기를 갖는 엑시머 레이저 失效
    펄스증배기를갖는엑시머레이저

    公开(公告)号：KR100425861B1

    公开(公告)日：2004-04-03

    申请号：KR1020017002844

    申请日：1999-08-18

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 모튼리차드지. ,  파틀로윌리엄엔.

    IPC: H01S3/10

    CPC classification number: H01S3/0057 ,  H01S3/225

    Abstract: An excimer laser with optical pulse multiplication. A pulse multiplier optical system receives the laser output beam and produces a multiplier output beam having a larger number of pulses, each with substantially reduced intensity values as compared to the laser output beam. The present invention is particularly important as an improvement to the ArF excimer laser to reduce two-photon absorption damage to optical equipment in lithography machines. For damage mechanisms involving two-photon processes, such as the compaction and solarization of fused silica in the DUV spectral region, a factor of 4 reduction in peak power decreases the quantity of two photon absorption damage done by the synthesized 4-pulse burst by a factor of about 16 compared to delivering all of the energy in the single pulse emitted by the laser. This is a useful method of prolonging the lifetime of very expensive beam delivery systems such as those used in photolithography stepper systems without reducing the total dose available at the wafer. In preferred embodiments, the pulse multiplier system is contained in a module which can be pre-aligned and quickly installed on the excimer laser.

    Abstract translation: 具有光学脉冲倍增的准分子激光器。 脉冲倍增器光学系统接收激光输出光束并产生具有更多脉冲的倍增输出光束，与激光输出光束相比，每个光束的强度值都大幅降低。 本发明作为改进ArF准分子激光器以减少光刻机中光学设备的双光子吸收损伤是特别重要的。 对于涉及双光子过程的损伤机制，例如在DUV光谱区域中熔融石英的压实和日晒，峰值功率减少4倍减少由合成的4脉冲突发产生的双光子吸收损伤量 与在由激光器发射的单个脉冲中提供所有能量相比，约16倍。 这是延长非常昂贵的光束传输系统（例如在光刻步进系统中使用的光束传输系统的寿命）而不减少晶片上可用的总剂量的有用方法。 在优选实施例中，脉冲倍增系统包含在可以预先对准并快速安装在准分子激光器上的模块中。

    ＥＵＶ 플라즈마 소스 타겟 전달 방법 및 장치
    6.
    发明授权
    ＥＵＶ 플라즈마 소스 타겟 전달 방법 및 장치 有权
    用于EUV等离子体源目标传送的方法和装置

    公开(公告)号：KR101235023B1

    公开(公告)日：2013-02-21

    申请号：KR1020077021532

    申请日：2006-02-17

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 알고트스존마틴 ,  포멘코프이고르브이. ,  얼쇼프알렉산더아이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  헴버그오스카 ,  바이카노프알렉산더엔. ,  콥데니스더블유.

    IPC: H05G2/00

    CPC classification number: H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/006

    Abstract: 자기 제한 또는 전기 제한 재료를 포함하는 타겟 방울 형성 메커니즘, 출력 오리피스에서 종료하는 액체 플라즈마 소스 재료 경로, 제트 스트림을 형성하는 방울에 또는 선택된 경로를 따른 통로를 나가는 개별적인 방울에 전하를 인가하는 대전 메커니즘, 상기 선택된 경로부터 방울을 주기적으로 편향시키는 플라즈마 개시 사이트와 출력 오리피스 사이의 방울 편향기, 입력 개구 및 출력 오리피스를 갖는 액체 타겟 재료 전달 통로를 포함하는 액체 타겟 재료 전달 메커니즘, 액체 타겟 재료내에 외란력을 생성하는 기전력 외란력 생성 메커니즘, 출력 오리피스를 갖는 액체 타겟 전달 방울 형성 메커니즘 및/또는 상기 출력 오리피스의 주변부 둘레의 웨팅 배리어를 포함할 수 있는 EUV 플라즈마 형성 타겟 전달 시스템 및 방법이 개시되어 있다.
    EUV 플라즈마 형성 타겟 전달 시스템, 타겟 방울 메커니즘, 액체 플라즈마 소스 재료 경로, 대전 메커니즘, 방울 편향기, 액체 타겟 재료 전달 메커니즘, 기전력 외란력 생성 메커니즘, 액체 타겟 전달 방울 형성 메커니즘, 웨팅 배리어

    레이저 생성 플라즈마 ＥＵＶ 광원
    7.
    发明授权
    레이저 생성 플라즈마 ＥＵＶ 광원 有权
    激光生产等离子体光源

    公开(公告)号：KR101194191B1

    公开(公告)日：2012-10-25

    申请号：KR1020077021846

    申请日：2006-02-24

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 엘쇼프알렉산더아이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  보워링노보트알.

    IPC: H05G2/00

    CPC classification number: H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

    Abstract: An EUV light source is disclosed that may include a laser source, e.g. CO2 laser, a plasma chamber, and a beam delivery system for passing a laser beam from the laser source into the plasma chamber. Embodiments are disclosed which may include one or more of the following; a bypass line may be provided to establish fluid communication between the plasma chamber and the auxiliary chamber, a focusing optic, e.g. mirror, for focusing the laser beam to a focal spot in the plasma chamber, a steering optic for steering the laser beam focal spot in the plasma chamber, and an optical arrangement for adjusting focal power.

    라인 내로우잉 모듈
    9.
    发明公开
    라인 내로우잉 모듈 有权
    线路延迟模块

    公开(公告)号：KR1020070084624A

    公开(公告)日：2007-08-24

    申请号：KR1020077012317

    申请日：2005-11-28

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 알고트스마틴제이. ,  버그스테트로버트에이. ,  글레스피월터디. ,  쿨게이코블라디미르에이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  라일로프게르만이. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  스트레이트브라이언디. ,  다이어디모티에스.

    IPC: H01S3/22

    CPC classification number: H01S3/1055 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  H01S3/005 ,  H01S3/036 ,  H01S3/08 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08059 ,  H01S3/097 ,  H01S3/106 ,  H01S3/2251

    Abstract: A line narrowing method and module for a narrow band DUV high power high repetition rate gas discharge laser producing output laser light pulse beam pulses in bursts of pulses, the module having a nominal optical path are disclosed which may comprise: a dispersive center wavelength selection optic moveably mounted within an optical path of the line narrowing module, selecting at least one center wavelength for each pulse determined at least in part by the angle of incidence of the laser light pulse beam containing the respective pulse on the dispersive wavelength selection optic; a first tuning mechanism operative in part to select the angle of incidence of the laser light pulse beam containing the respective pulse upon the dispersive center wavelength selection optic, by selecting an angle of transmission of the laser light pulse beam containing the pulse toward the dispersive center wavelength selection optic; a second tuning mechanism operative in part to select the angle of incidence of the laser light pulse beam containing the respective pulse by changing the position of the dispersive center wavelength selection optic relative to the nominal optical path of the line narrowing module; wherein the second tuning mechanism coarsely selects a value for the center wavelength and the first tuning mechanism more finely selects the value for the center wavelength.

    Abstract translation: 一种用于窄带DUV大功率高重复率气体放电激光器的线窄化方法和模块，其产生具有标称光路的脉冲串中的输出激光束脉冲束脉冲，其可以包括：分散中心波长选择光学器件 可移动地安装在线路窄化模块的光路内，为至少部分地由分散波长选择光学器件上包含相应脉冲的激光束的入射角确定的每个脉冲选择至少一个中心波长; 第一调谐机构部分地通过选择包含脉冲朝向分散中心的激光束的透射角度来选择包含分散中心波长选择光学器件上的各个脉冲的激光束的入射角 波长选择光学; 第二调谐机构部分地通过改变色散中心波长选择光学器件相对于线条变窄模块的标称光路的位置来选择包含相应脉冲的激光束的入射角; 其中第二调谐机构粗略地选择中心波长的值，并且第一调谐机构更精细地选择中心波长的值。

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