公开(公告)号：KR100539277B1

公开(公告)日：2005-12-27

申请号：KR1020027000721

申请日：2000-06-29

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 베소셀레허브에이. ,  이시하라도시히코 ,  호프만토마스

IPC: H01S3/22

CPC classification number: G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256

Abstract: 본 발명은 향상된 에너지량 제어 및 재생력을 가지며, 약 500 내지 2000Hz의 범위에 있는 펄스율로 펄스를 만들 수 있는 초협대역 펄스 엑시머 레이저를 제공한다. 산소 및 무거운 불활성 가스(KrF 레이저를 위한 크세논 또는 라돈, 또는 ArF 레이저를 위한 크립톤, 크세논, 또는 라돈)로 이루어진 미소량의 안정화된 첨가제가 가스 혼합물에 첨가된다. 수행된 테스트는 약 30ppm의 크세논을 KrF 레이저에 첨가함으로써 에너지 안정도에서 본질적인 향상을 보여준다. 테스트는 약 6-10ppm의 Xe 또는 40ppm의 Kr을 첨가함으로써 ArF 레이저의 향상된 성능을 보여준다. 바람직한 실시예에서, 초협대역폭은 플루오르 부분압력을 0.10%로 줄이고, 출력커플러의 반사율을 25%보다 크게 증가시킴으로써 KrF 레이저상에서 이루어진다. 바람직한 실시예에서, 종래기술의 라인 협소화 모듈에서 사용된 종래기술의 용융된 실리카 빔 확산 프리즘은 플루오르화 칼슘 프리즘으로 대체된다(부재 번호가 없는 도면-명세서 참조).

公开(公告)号：KR1020020012633A

公开(公告)日：2002-02-16

申请号：KR1020027000721

申请日：2000-06-29

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 베소셀레허브에이. ,  이시하라도시히코 ,  호프만토마스

IPC: H01S3/22

Abstract: 본 발명은 향상된 에너지량 제어 및 재생력을 가지며, 약 500 내지 2000Hz의 범위에 있는 펄스율로 펄스를 만들 수 있는 초협대역 펄스 엑시머 레이저를 제공한다. 산소 및 무거운 불활성 가스(KrF 레이저를 위한 크세논 또는 라돈, 또는 ArF 레이저를 위한 크립톤, 크세논, 또는 라돈)로 이루어진 미소량의 안정화된 첨가제가 가스 혼합물에 첨가된다. 수행된 테스트는 약 30ppm의 크세논을 KrF 레이저에 첨가함으로써 에너지 안정도에서 본질적인 향상을 보여준다. 테스트는 약 6-10ppm의 Xe 또는 40ppm의 Kr을 첨가함으로써 ArF 레이저의 향상된 성능을 보여준다. 바람직한 실시예에서, 초협대역폭은 플루오르 부분압력을 0.10%로 줄이고, 출력커플러의 반사율을 25%보다 크게 증가시킴으로써 KrF 레이저상에서 이루어진다. 바람직한 실시예에서, 종래기술의 라인 협소화 모듈에서 사용된 종래기술의 용융된 실리카 빔 확산 프리즘은 플루오르화 칼슘 프리즘으로 대체된다(부재 번호가 없는 도면-명세서 참조).