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    레이저 결정화 장치
    1.
    发明公开
    레이저 결정화 장치 有权
    用于材料加工应用的低功率激光束的低成本设备和方法

    公开(公告)号：KR1020090029235A

    公开(公告)日：2009-03-20

    申请号：KR1020087032051

    申请日：2007-05-31

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 호프만토마스

    IPC: H01L21/268 ,  H01L21/20 ,  B23K26/08 ,  B23K26/064

    CPC classification number: B23K26/03 ,  B23K26/034 ,  B23K26/0622 ,  B23K26/0665 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/0853 ,  B23K26/40 ,  B23K2201/34 ,  B23K2201/40 ,  B23K2203/50 ,  C30B13/24 ,  C30B29/06

    Abstract: A thin beam laser crystallization apparatus for selectively melting a film deposited on a substrate is disclosed having a laser source producing a pulsed laser output beam, the source having an oscillator comprising a convex reflector and a piano output coupler; and an optical arrangement focusing the beam in a first axis and spatially expanding the beam in a second axis to produce a line beam for interaction with the film.

    Abstract translation: 公开了一种用于选择性地熔化沉积在基板上的薄膜的薄射束激光结晶装置，其具有产生脉冲激光输出光束的激光源，该源具有包括凸反射器和钢琴输出耦合器的振荡器; 以及光学布置，将光束聚焦在第一轴线上，并且在第二轴线上空间地扩展光束以产生用于与胶片相互作用的线束。

    가스 첨가제를 갖는 협대역 가스 방전 레이저
    3.
    发明授权
    가스 첨가제를 갖는 협대역 가스 방전 레이저 有权
    带气体添加剂的窄带气体放电激光器

    公开(公告)号：KR100539277B1

    公开(公告)日：2005-12-27

    申请号：KR1020027000721

    申请日：2000-06-29

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 베소셀레허브에이. ,  이시하라도시히코 ,  호프만토마스

    IPC: H01S3/22

    CPC classification number: G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256

    Abstract: 본 발명은 향상된 에너지량 제어 및 재생력을 가지며, 약 500 내지 2000Hz의 범위에 있는 펄스율로 펄스를 만들 수 있는 초협대역 펄스 엑시머 레이저를 제공한다. 산소 및 무거운 불활성 가스(KrF 레이저를 위한 크세논 또는 라돈, 또는 ArF 레이저를 위한 크립톤, 크세논, 또는 라돈)로 이루어진 미소량의 안정화된 첨가제가 가스 혼합물에 첨가된다. 수행된 테스트는 약 30ppm의 크세논을 KrF 레이저에 첨가함으로써 에너지 안정도에서 본질적인 향상을 보여준다. 테스트는 약 6-10ppm의 Xe 또는 40ppm의 Kr을 첨가함으로써 ArF 레이저의 향상된 성능을 보여준다. 바람직한 실시예에서, 초협대역폭은 플루오르 부분압력을 0.10%로 줄이고, 출력커플러의 반사율을 25%보다 크게 증가시킴으로써 KrF 레이저상에서 이루어진다. 바람직한 실시예에서, 종래기술의 라인 협소화 모듈에서 사용된 종래기술의 용융된 실리카 빔 확산 프리즘은 플루오르화 칼슘 프리즘으로 대체된다(부재 번호가 없는 도면-명세서 참조).

    라인 빔과 같이 성형된 레이저와 기판 상에 증착된 필름사이에 인터액션을 구현하기 위한 시스템 및 방법
    4.
    发明授权
    라인 빔과 같이 성형된 레이저와 기판 상에 증착된 필름사이에 인터액션을 구현하기 위한 시스템 및 방법 有权
    用于实现作为线束形成的激光与衬底上沉积的膜之间的相互作用的系统和方法

    公开(公告)号：KR101352452B1

    公开(公告)日：2014-01-17

    申请号：KR1020077029057

    申请日：2006-05-25

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 다스팔라시피. ,  호프만토마스 ,  데이비스제시디. ,  스미스스캇티. ,  파슬로윌리엄엔.

    IPC: H01S3/10 ,  H01S3/13

    Abstract: 기판상에 증착된 비결정질 실리콘과 같은 필름을 선택적으로 용해시키기 위한 레이저 결정화 장치 및 방법이 개시된다. 본 장치는 필름을 용해시키는데 사용하기 위한 스트레처된 레이저 펄스를 산출하기 위한 광학 시스템을 포함할 수 있다. 본 발명의 실시예의 다른 형태에서, 레이저 펄스를 스트레칭하기 위한 시스템 및 방법이 제공된다. 또 다른 형태에서, 빔 경로를 따른 위치에 (스트레칭된, 또는 스트레칭되지 않은) 펄스 레이저 빔의 퍼짐을 소정의 범위 내로 유지하기 위한 시스템이 제공된다. 또 다른 형태에서, 필름과 성형 라인 빔의 인터액션 동안 필름에서의 에너지 밀도를 소정의 범위 내로 유지하기 위한 시스템이 제공된다.
    성형 광학부재, 광원, 성형된 라인빔, 필름, 에너지 밀도, 포커싱 렌즈, 자동초점 센서, 광원 파라미터, 컨트롤러.

    펄스 스트레처를 가진 고출력 엑시머 레이저
    5.
    发明公开
    펄스 스트레처를 가진 고출력 엑시머 레이저 有权
    高功率激光器与脉冲拉伸器

    公开(公告)号：KR1020090020649A

    公开(公告)日：2009-02-26

    申请号：KR1020087031844

    申请日：2007-05-31

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 어쇼프알렉산더아이. ,  펠렐제임스제이. ,  호프만토마스 ,  레일리다니엘제이. ,  레멘크리스알.

    IPC: H01S3/223

    CPC classification number: H01S3/225 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/03 ,  H01S3/034

    Abstract: An apparatus and method is disclosed which may comprise a high power excimer or molecular fluorine gas discharge laser DUV light source system which may comprise: a pulse stretcher which may comprise: an optical delay path mirror, an optical delay path mirror gas purging assembly which may comprise: a purging gas supply system directing purging gas across a face of the optical delay line mirror. The optical delay path mirror may comprise a plurality of optical delay path mirrors; the purging gas supply system may direct purging gas across a face of each of the plurality of optical delay line mirrors. The purging gas supply system may comprise: a purging gas supply line; a purging gas distributing and directing mechanism which may direct purging gas across the face of the respective optical delay path mirror.

    Abstract translation: 公开了一种装置和方法，其可以包括高功率准分子或分子氟气体放电激光DUV光源系统，其可以包括：脉冲展宽器，其可以包括：光学延迟路径反射镜，光学延迟路径镜气体清洗组件，其可以 包括：吹扫气体供应系统，其引导净化气体穿过光学延迟线反射镜的表面。 光学延迟路径镜可以包括多个光学延迟路径镜; 净化气体供应系统可以引导净化气体穿过多个光学延迟线反射镜中的每一个的表面。 净化气体供应系统可以包括：净化气体供应管线; 吹扫气体分配和引导机构，其可以将吹扫气体引导通过相应的光学延迟路径反射镜的表面。

    방전 레이저를 위한 컷오프를 구비한 접선 팬 어셈블리 및 진동제어
    6.
    发明公开
    방전 레이저를 위한 컷오프를 구비한 접선 팬 어셈블리 및 진동제어 有权
    带切断的切向风扇组件，用于放电激光和振动控制

    公开(公告)号：KR1020010112484A

    公开(公告)日：2001-12-20

    申请号：KR1020017014296

    申请日：2000-04-25

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 호프만토마스 ,  호웨이제임즈케이. ,  섀넌로버트에이. ,  우자츠도프스키리차드씨. ,  왓슨톰에이. ,  웹카일알.

    IPC: H01S3/03

    Abstract: 레이징 가스 혼합물를 재순환시키기 위한 탄젠샬 팬(200)-컷오프 어셈블리는 단부에서 단부로 단계식으로 원주상 위치에 있어 변동하는 블레이드 부재(264)및/또는 테이퍼진 양극 어셈블리(120)를 가지고 있다. 블레이드 부재들(264)의 수는 양 단부 사이에서 일정하거나 또는 변동될 수 있다. 블레이드 부재들(264)의 원주상 위치는 양 단부 사이에서 단조적으로 또는 가역적으로 변화될 수 있다. 블레이드 부재(264)는 허브 부재(262)의 수 및 배치를 최적으로 선택함으로써 강화되어 팬의 고유 진동수를 제어한다. 탄젠샬 팬을 형성하는 방법은 주조 및 고형 블록으로부터의 기계가공을 포함한다. 모놀리식 구조부가 전형적으로 전자빔 용접에 의해 결합될 수 있다. 주조, 용접 및 기계가공 공정은 어떠한 부가적인 오염물도 도입시키지 않고 진행된다. 생산된 탄젠샬 팬은 기계적 강성, 정밀한 공차 및 낮은 오염물 농도를 가진다. 블레이드 부재(264)는 에어포일 형상으로 형성될 수 있다.

    가스 첨가제를 갖는 협대역 엑시머 레이저
    7.
    发明公开
    가스 첨가제를 갖는 협대역 엑시머 레이저 有权
    窄带准分子激光与气体添加剂

    公开(公告)号：KR1020010031033A

    公开(公告)日：2001-04-16

    申请号：KR1020007003849

    申请日：1998-09-25

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 호프만토마스 ,  이시하라도시히코 ,  다스팔라시피. ,  에르소브알렉산더아이.

    IPC: H01S3/225

    CPC classification number: G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256

    Abstract: 본발명은향상된에너지량제어및 재생력을가지며, 약 500 내지 2000Hz의범위에있는속도로펄스를만들수 있는초협대역펄스엑시머레이저를제공한다. 산소및 무거운불활성가스(KrF 레이저를위한크세논또는라돈, 또는 ArF 레이저를위한크립톤, 크세논, 또는라돈)로이루어진미소량의안정화된첨가제가가스혼합물에첨가된다. 수행된테스트는약 30ppm의크세논을 KrF 레이저에첨가함으로써에너지안정도에서본질적인향상을보여준다. 테스트는약 6-10ppm의 Xe 또는 40ppm의 Kr을첨가함으로써 ArF 레이저의향상된성능을보여준다. 바람직한실시예에서, 초협대역폭은플루오르부분압력을 0.10%로줄이고, 출력커플러의반사율을 25%보다크게증가시킴으로써 KrF 레이저상에서이루어진다. 바람직한실시예에서, 종래기술의라인협소화모듈에서사용된종래기술의용화된실리카빔 확산프리즘은플루오르화칼슘프리즘으로대체된다.

    라인 빔과 같이 성형된 레이저와 기판 상에 증착된 필름사이에 인터액션을 구현하기 위한 시스템 및 방법
    10.
    发明公开
    라인 빔과 같이 성형된 레이저와 기판 상에 증착된 필름사이에 인터액션을 구현하기 위한 시스템 및 방법 有权
    用于实现作为线束形成的激光与衬底上沉积的膜之间的相互作用的系统和方法

    公开(公告)号：KR1020080022102A

    公开(公告)日：2008-03-10

    申请号：KR1020077029057

    申请日：2006-05-25

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 다스팔라시피. ,  호프만토마스 ,  데이비스제시디. ,  스미스스캇티. ,  파슬로윌리엄엔.

    IPC: H01S3/10 ,  H01S3/13

    CPC classification number: H01S3/1394 ,  G02B27/149 ,  G03F7/70775 ,  H01S3/1301

    Abstract: A laser crystallization apparatus and method are disclosed for selectively melting a film such as amorphous silicon that is deposited on a substrate. The apparatus may comprise an optical system for producing stretched laser pulses for use in melting the film. In still another aspect of an embodiment of the present invention, a system and method are provided for stretching a laser pulse. In another aspect, a system is provided for maintaining a divergence of a pulsed laser beam (stretched or non-stretched) at a location along a beam path within a predetermined range. In another aspect, a system may be provided for maintaining the energy density at a film within a predetermined range during an interaction of the film with a shaped line beam. ® KIPO & WIPO 2008

    Abstract translation: 公开了一种激光结晶装置和方法，用于选择性地熔融沉积在基底上的诸如非晶硅的膜。 该装置可以包括用于产生用于熔化膜的拉伸激光脉冲的光学系统。 在本发明实施例的另一方面，提供一种用于拉伸激光脉冲的系统和方法。 在另一方面，提供了一种系统，用于在预定范围内沿着光束路径的位置维持脉冲激光束的发散（拉伸或未拉伸）。 在另一方面，可以提供一种系统，用于在膜与成形线束的相互作用期间将膜处的能量密度保持在预定范围内。 ®KIPO＆WIPO 2008

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