公开(公告)号：KR101194191B1

公开(公告)日：2012-10-25

申请号：KR1020077021846

申请日：2006-02-24

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 엘쇼프알렉산더아이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  보워링노보트알.

IPC: H05G2/00

CPC classification number: H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

Abstract: An EUV light source is disclosed that may include a laser source, e.g. CO2 laser, a plasma chamber, and a beam delivery system for passing a laser beam from the laser source into the plasma chamber. Embodiments are disclosed which may include one or more of the following; a bypass line may be provided to establish fluid communication between the plasma chamber and the auxiliary chamber, a focusing optic, e.g. mirror, for focusing the laser beam to a focal spot in the plasma chamber, a steering optic for steering the laser beam focal spot in the plasma chamber, and an optical arrangement for adjusting focal power.

公开(公告)号：KR1020070110885A

公开(公告)日：2007-11-20

申请号：KR1020077021531

申请日：2006-02-24

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 보워링노보트알. ,  한손브존에이.,엠. ,  바이카노프알렉산더엔. ,  코디킨올레 ,  엘쇼프알렉산더아이. ,  파틀로윌리엄엔.

IPC: H05G2/00 ,  H05H1/00

CPC classification number: G03F7/70925 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70916 ,  G21K2201/06 ,  H05G2/001

Abstract: Systems and methods are disclosed for protecting an EUV light source plasma production chamber optical element surface from debris generated by plasma formation. In one aspect of an embodiment of the present invention, a shield is disclosed which comprises at least one hollow tube positioned between the optical element and a plasma formation site. The tube is oriented to capture debris while allowing light to pass through the tube's lumen via reflection at relatively small angles of grazing incidence. In another aspect of an embodiment of the present invention, a shield is disclosed which is heated to a temperature sufficient to remove one or more species of debris material that has deposited on the shield. In yet another aspect of an embodiment of the present invention, a system is disclosed which a shield is moved from a light source plasma chamber to a cleaning chamber where the shield is cleaned.

Abstract translation: 公开了用于保护EUV光源等离子体生产室光学元件表面免受等离子体形成产生的碎片的系统和方法。 在本发明的实施例的一个方面，公开了一种屏蔽件，其包括位于光学元件和等离子体形成部位之间的至少一个中空管。 管被定向以捕获碎片，同时允许光以相对较小的掠入射角度的反射通过管的内腔。 在本发明的一个实施例的另一方面，公开了一种屏蔽件，其被加热到足以去除沉积在屏蔽上的一种或多种碎屑材料的温度。 在本发明的一个实施例的另一方面，公开了一种系统，其将屏蔽件从光源等离子体室移动到清洁室，其中屏蔽件被清洁。

公开(公告)号：KR101173080B1

公开(公告)日：2012-08-13

申请号：KR1020127007046

申请日：2006-02-24

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 보워링노보트알. ,  한손브존에이.,엠. ,  바이카노프알렉산더엔. ,  코디킨올레 ,  엘쇼프알렉산더아이. ,  파틀로윌리엄엔.

IPC: H05G2/00 ,  H05H1/00

CPC classification number: G03F7/70925 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70916 ,  G21K2201/06 ,  H05G2/001

Abstract: 플라즈마 형성에 의해 발생된 파편으로부터 EUV 광원 플라즈마 생성 챔버 광소자 표면을 보호하기 위한 시스템 및 방법이 개시되어 있다. 본 발명의 하나의 실시예에서, 쉴드가 개시되어 있는데 이것은 광소자와 플라즈마 형성 사이트 사이에서 위치된 적어도 하나의 중공 튜브를 포함하고 있다. 튜브는 파편을 포착하는 한편 비교적 작은 각도로 반사를 통해 튜브의 루멘을 광이 통과하도록 향해 있다. 본 발명의 다른 실시예에서, 쉴드는 쉴드에 퇴적된 파편 재료의 하나 이상의 종을 제거하기에 충분한 온도로 가열되도록 개시되어 있다. 본 발명의 다른 실시예에서, 쉴드가 광원 플라즈마 챔버로부터 쉴드가 청소되는 크리닝 챔버까지 움직이는 시스템이 개시되어 있다.

公开(公告)号：KR101193916B1

公开(公告)日：2012-10-29

申请号：KR1020077021531

申请日：2006-02-24

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 보워링노보트알. ,  한손브존에이.,엠. ,  바이카노프알렉산더엔. ,  코디킨올레 ,  엘쇼프알렉산더아이. ,  파틀로윌리엄엔.

IPC: H05G2/00 ,  H05H1/00

CPC classification number: G03F7/70925 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70916 ,  G21K2201/06 ,  H05G2/001

Abstract: 플라즈마 형성에 의해 발생된 파편으로부터 EUV 광원 플라즈마 생성 챔버 광소자 표면을 보호하기 위한 시스템 및 방법이 개시되어 있다. 본 발명의 하나의 실시예에서, 쉴드가 개시되어 있는데 이것은 광소자와 플라즈마 형성 사이트 사이에서 위치된 적어도 하나의 중공 튜브를 포함하고 있다. 튜브는 파편을 포착하는 한편 비교적 작은 각도로 반사를 통해 튜브의 루멘을 광이 통과하도록 향해 있다. 본 발명의 다른 실시예에서, 쉴드는 쉴드에 퇴적된 파편 재료의 하나 이상의 종을 제거하기에 충분한 온도로 가열되도록 개시되어 있다. 본 발명의 다른 실시예에서, 쉴드가 광원 플라즈마 챔버로부터 쉴드가 청소되는 크리닝 챔버까지 움직이는 시스템이 개시되어 있다.
플라즈마, 파편, EUV 광원, 플라즈마 생성 챔버, 광소자, 쉴드, 플라즈마 형성 사이트, 광 통로

公开(公告)号：KR1020120051740A

公开(公告)日：2012-05-22

申请号：KR1020127007046

申请日：2006-02-24

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 보워링노보트알. ,  한손브존에이.,엠. ,  바이카노프알렉산더엔. ,  코디킨올레 ,  엘쇼프알렉산더아이. ,  파틀로윌리엄엔.

IPC: H05G2/00 ,  H05H1/00

CPC classification number: G03F7/70925 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70916 ,  G21K2201/06 ,  H05G2/001

Abstract: 플라즈마 형성에 의해 발생된 파편으로부터 EUV 광원 플라즈마 생성 챔버 광소자 표면을 보호하기 위한 시스템 및 방법이 개시되어 있다. 본 발명의 하나의 실시예에서, 쉴드가 개시되어 있는데 이것은 광소자와 플라즈마 형성 사이트 사이에서 위치된 적어도 하나의 중공 튜브를 포함하고 있다. 튜브는 파편을 포착하는 한편 비교적 작은 각도로 반사를 통해 튜브의 루멘을 광이 통과하도록 향해 있다. 본 발명의 다른 실시예에서, 쉴드는 쉴드에 퇴적된 파편 재료의 하나 이상의 종을 제거하기에 충분한 온도로 가열되도록 개시되어 있다. 본 발명의 다른 실시예에서, 쉴드가 광원 플라즈마 챔버로부터 쉴드가 청소되는 크리닝 챔버까지 움직이는 시스템이 개시되어 있다.

公开(公告)号：KR1020070110890A

公开(公告)日：2007-11-20

申请号：KR1020077021846

申请日：2006-02-24

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 엘쇼프알렉산더아이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  보워링노보트알.

IPC: H05G2/00

CPC classification number: H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

Abstract: An EUV light source is disclosed that may include a laser source, e.g. CO2 laser, a plasma chamber, and a beam delivery system for passing a laser beam from the laser source into the plasma chamber. Embodiments are disclosed which may include one or more of the following; a bypass line may be provided to establish fluid communication between the plasma chamber and the auxiliary chamber, a focusing optic, e.g. mirror, for focusing the laser beam to a focal spot in the plasma chamber, a steering optic for steering the laser beam focal spot in the plasma chamber, and an optical arrangement for adjusting focal power.

Abstract translation: 公开了一种EUV光源，其可以包括例如激光源。 CO2激光器，等离子体室和用于将激光束从激光源传递到等离子体室中的光束传送系统。 公开了可以包括以下中的一个或多个的实施例; 可以提供旁路管线以建立等离子体室和辅助室之间的流体连通，聚焦光学器件例如。 用于将激光束聚焦到等离子体室中的焦点的反射镜，用于转向等离子体室中的激光束焦斑的转向光学元件，以及用于调整焦度的光学装置。