公开(公告)号：KR101576109B1

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：KR1020127007614

申请日：2010-08-24

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 성낙근 ,  라로빅이반비. ,  패럴니겔알. ,  라팍로버트제이. ,  벤딕조셉제이.

IPC: H01S3/13

CPC classification number: G03F7/70575 ,  G03F7/70525

Abstract: 광빔의스펙트럼속성을제어하는방법은, 광빔을웨이퍼상에패턴을생성하도록구성된리소그래피노출장치로지향시키는단계; 상기광빔의스펙트럼속성을나타내는정보를수신하는단계; 상기리소그래피노출장치의광학이미징조건을나타내는정보를수신하는단계; 상기수신된스펙트럼속성정보와상기수신된광학이미징조건정보에기초하여상기광빔의특성값을추정하는단계; 상기추정된광빔특성값이타겟광빔의특성값과매칭하는지를판정하는단계; 및상기추정된광빔특성값이상기타겟광빔특성값과매칭하지않는것으로판정되면, 상기광빔의상기스펙트럼속성을조정하는단계;를포함한다.

公开(公告)号：KR1020120080181A

公开(公告)日：2012-07-16

申请号：KR1020127007614

申请日：2010-08-24

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 성낙근 ,  라로빅이반비. ,  패럴니겔알. ,  라팍로버트제이. ,  벤딕조셉제이.

IPC: H01S3/13

CPC classification number: G03F7/70575 ,  G03F7/70525

Abstract: 광빔의 스펙트럼 속성을 제어하는 방법은, 광빔을 웨이퍼 상에 패턴을 생성하도록 구성된 리소그래피 노출 장치로 지향시키는 단계; 상기 광빔의 스펙트럼 속성을 나타내는 정보를 수신하는 단계; 상기 리소그래피 노출 장치의 광학 이미징 조건을 나타내는 정보를 수신하는 단계; 상기 수신된 스펙트럼 속성 정보와 상기 수신된 광학 이미징 조건 정보에 기초하여 상기 광빔의 특성 값을 추정하는 단계; 상기 추정된 광빔 특성 값이 타겟 광빔의 특성 값과 매칭하는지를 판정하는 단계; 및 상기 추정된 광빔 특성 값이 상기 타겟 광빔 특성 값과 매칭하지 않는것으로 판정되면, 상기 광빔의 상기 스펙트럼 속성을 조정하는 단계;를 포함한다.