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公开(公告)号：KR1020160108665A
公开(公告)日：2016-09-20
申请号：KR1020150030548
申请日：2015-03-04
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사 , 성균관대학교산학협력단
CPC classification number: H01L51/5253 , C23C16/455 , C23C16/45525 , C23C16/45565 , H01L27/3244 , H01L51/5256 , H01L51/5259 , H01L51/56 , H01L2251/303 , H01L27/3274 , H01L27/3262 , H01L51/5237 , H01L2924/01013 , H01L2924/0103 , H01L2924/0104 , H01L2924/01072
Abstract: 본발명은표시장치, 표시장치의제조장치및 표시장치의제조방법을개시한다. 본발명은, 기판과, 상기기판상에형성되는표시부와, 상기표시부상에형성되는박막봉지층을포함하고, 상기박막봉지층은무기층을포함하고, 상기무기층은, 알루미늄, 아연, 지르코늄및 하프늄중 적어도 2개이상으로형성된복합산화물을포함하는제1 서브무기층을포함한다.
Abstract translation: 本发明提供一种显示装置及其制造装置及其制造方法。 本发明包括基板，形成在基板上的显示单元和形成在显示单元上的薄膜封装层，其中薄膜封装层包括无机层，无机层包括第一亚无机层，其具有 由铝，锌，锆和铪中的两种以上形成的复合氧化物。
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公开(公告)号：KR1020160093814A
公开(公告)日：2016-08-09
申请号：KR1020150014589
申请日：2015-01-29
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사
IPC: G02F1/13 , G02F1/1333
CPC classification number: H01L51/56 , C23C16/4412 , C23C16/45551 , C23C16/45563 , C23C16/54 , H01L51/0097 , H01L51/5253 , H01L51/5256 , G02F1/1303 , G02F1/1333 , G02F2001/1316
Abstract: 본발명은표시장치의제조장치및 표시장치의제조방법을개시한다. 챔버와, 상기챔버내부에배치되며, 유기층을성막하는제1 노즐유닛과, 상기챔버내부에상기제1 노즐유닛과제1 방향으로나란하게배치되며, 무기층을성막하는제2 노즐유닛및 상기제1 노즐유닛의외측또는상기제2 노즐유닛의외측에형성되어, 상기챔버내부저장된제1 가스를분사하는분사노즐유닛을제공한다.
Abstract translation: 公开了一种显示装置的制造装置及其制造方法。 显示装置的制造装置包括：室; 室内的第一喷嘴单元，其沉积有机层; 第二喷嘴单元，其在第一方向上平行于所述室内的第一喷嘴平行设置，并且沉积无机层; 以及喷嘴单元，其设置在所述第一喷嘴单元的外部或所述第二喷嘴单元的外部，以喷射储存在所述室内的第一气体。 因此，显示装置可以提高耐久性并且在一个位置执行清洁操作。
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公开(公告)号：KR1020170096296A
公开(公告)日：2017-08-24
申请号：KR1020160017498
申请日：2016-02-15
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사
IPC: C23C16/513 , C23C16/455 , H01L21/02 , H01L27/32
Abstract: 본발명에따른일 실시예는, 챔버, 챔버로가스를공급하는가스공급부,및챔버의내부에배치되며, 가스공급부에연결된샤워헤드를포함한다. 여기서, 가스공급부는, 가스가유입되는유입관, 유입관에연결된적어도 2 이상의유출관을포함한다. 또한, 샤워헤드는유출관에연결된다수의주입구를갖는상부플레이트, 및상기상부플레이트와이격되며, 분사구를갖는하부플레이트를포함한다.
Abstract translation: 根据本发明的一个实施例包括腔室，用于向腔室供应气体的气体供应装置以及设置在腔室内并连接到气体供应装置的喷头。 这里，气体供应单元包括引入气体的入口管和连接到入口管的至少两个出口管。 喷头进一步包括具有连接到出口管的多个喷射口的上板以及与上板间隔开并具有喷射口的下板。
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公开(公告)号：KR1020160041158A
公开(公告)日：2016-04-18
申请号：KR1020140134487
申请日：2014-10-06
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사
CPC classification number: C23C16/50 , C23C16/45563 , C23C16/54 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/32752 , H01J37/32899 , H01L51/5256
Abstract: 본발명은표시장치의제조장치및 표시장치의제조방법을개시한다. 본발명은, 챔버와, 상기챔버내부에배치되며, 무기층을성막하는무기층형성노즐부와, 상기챔버내부에배치되며, 상기무기층형성노즐부와인라인형태로배열되어유기층을성막하는유기층형성노즐부와, 상기무기층형성노즐부와상기유기층형성노즐부사이에배치되며, 비활성기체를함유하는퍼지가스를분사하는분리노즐부를포함한다.
Abstract translation: 根据本发明，公开了一种显示装置的制造装置及其方法。 根据本发明，显示装置的制造装置包括：室; 无机层形成喷嘴单元，其布置在所述室中并且构造成形成无机层; 有机层形成喷嘴单元，其布置在所述室中并构造成形成有机层，其中所述有机层形成喷嘴单元与所述无机层形成喷嘴单元成一直线排列; 以及分离喷嘴单元，其布置在无机层形成喷嘴单元和有机层形成喷嘴单元之间，并且构造成喷射含有惰性气体的吹扫气体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101969066B1
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：KR1020120092544
申请日：2012-08-23
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사
IPC: H01L21/205
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公开(公告)号：KR1020160058331A
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：KR1020140158978
申请日：2014-11-14
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사
IPC: H01L21/205
CPC classification number: C23C16/4412 , C23C16/45536 , C23C16/45551 , C23C16/45574 , C23C16/45582 , C23C16/54
Abstract: 본발명의일 실시예에따른박막증착장치는박막이증착되는기판과이격되어상방에위치하며서로이격되어있는복수개의선형노즐부, 상기복수개의선형노즐부가부착되어있는배기판을포함하고, 상기선형노즐부는선형몸체, 상기선형몸체에형성되어있으며제1 반응가스가유입되는한 쌍의제1 반응가스관, 상기한 쌍의제1 반응가스관사이에형성되어있으며상기제1 반응가스와혼합되는제2 반응가스가유입되는제2 반응가스관, 상기제1 반응가스관과상기제2 반응가스관사이에형성되어있으며상기제2 반응가스의흐름을제어하는제어가스가유입되는한 쌍의제어가스관을포함할수 있다.
Abstract translation: 根据本发明实施例的薄膜沉积装置包括与用于沉积薄膜以沉积位于基板上方并彼此分离的基板分离的直线喷嘴部分和附接到基板上的排气板 直线喷嘴零件。 直线喷嘴部分可以包括直线体，一对第一反应气体管，其形成在直线体中并接收第一反应气体;第二反应气体管，形成在第一反应管之间并接收第二反应气体 与第一反应气体混合，形成在第一反应气体管和第二反应气体管之间的一对控制气体管，并且接收用于控制第二反应气体的流动的控制气体。 因此，可以提高层的形成速度，并且可以形成致密化的薄膜。
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公开(公告)号：KR1020150007863A
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：KR1020130082436
申请日：2013-07-12
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사
IPC: H01L51/56 , C23C16/455
Abstract: 본 발명은 증착 공정을 효율적으로 진행할 수 있고 증착막 특성을 용이하게 향상하도록 기판에 증착막을 형성하기 위한 기상 증착 장치에 관한 것으로서, 제1 원료 기체를 공급받도록 하우징의 내부에 형성된 내부 공간, 상기 내부 공간내에 배치되고, 반응 공간을 구비하도록 속이 빈 형태를 갖는 절연 실린더, 상기 내부 공간내에 상기 절연 실린더의 외면에 대응되도록 배치되어 상기 절연 실린더의 반응 공간에서 플라즈마를 발생시키도록 형성된 코일부, 적어도 상기 제1 원료 기체의 라디칼 형태를 포함하는 제1 원료 물질을 상기 기판 방향으로 공급하는 제1 주입부를 포함하는 기상 증착 장치를 제공한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种可以有效地进行沉积工艺并且在衬底上形成沉积膜时容易提高沉积膜特性的气相沉积设备。 气相沉积装置包括形成在壳体中以供应第一源气体的内部空间; 绝缘筒，其布置在内部空间中并具有中空形状以在内部具有反作用空间; 线圈单元，其布置在所述内部空间中以对应于所述绝缘筒的外表面，以在所述绝缘筒的反作用空间中产生等离子体; 以及将至少包含第一原料气体的自由基结构的第一原料注入基板的第一注入单元。
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公开(公告)号：KR1020140025919A
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：KR1020120092544
申请日：2012-08-23
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사
IPC: H01L21/205
CPC classification number: C23C16/50 , C23C16/45519 , C23C16/45536 , C23C16/45551
Abstract: The present invention relates to a vapor deposition device comprising a first region having a first injection part injecting a first material; and a second region having a second injection part injecting a second material wherein the second injection part includes a plasma generator, a corresponding surface surrounding the plasma generator, and a plasma generating space formed between the plasma generator and the corresponding surface. The distance between the plasma generator and the corresponding surface regularly varies along the outer peripheral surface of the plasma generator. Therefore, a position where plasma is generated is determined in advance to improve the property of a thin film by forming stable volume plasma.
Abstract translation: 本发明涉及一种气相沉积装置，其包括具有注入第一材料的第一注射部分的第一区域; 以及第二区域，其具有注入第二材料的第二注入部分，其中所述第二注入部分包括等离子体发生器，围绕所述等离子体发生器的对应表面以及形成在所述等离子体发生器和所述对应表面之间的等离子体产生空间。 等离子体发生器与对应的表面之间的距离沿等离子体发生器的外周表面规则地变化。 因此，通过形成稳定的体积等离子体，预先确定产生等离子体的位置，以提高薄膜的性能。
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公开(公告)号：KR102111019B1
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：KR1020130082436
申请日：2013-07-12
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , H01L51/56
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