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公开(公告)号：KR1020090132206A
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：KR1020080058359
申请日：2008-06-20
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사 , 재단법인서울대학교산학협력재단
CPC classification number: H01L51/5008 , H01L51/0032 , H01L51/428 , H01L51/5056 , H01L51/5072 , H01L51/5092
Abstract: PURPOSE: A luminous device and a manufacturing method thereof are provided to form a surface fine structure such as a micro structure on a substrate, thereby forming the luminous device without chemical treatment. CONSTITUTION: A micro structure(30') has an uneven shape of micro size on a substrate(20). A first electrode(40) is formed on the micro structure for shape copying of the micro structure. An active layer(50) is formed on the first electrode for shape copying of the first electrode. A second electrode(60) is formed on the active layer for shape copying of the active layer. The micro structure is formed on the substrate through an imprint process. The micro structure includes a hardening high polymer.
Abstract translation: 目的：提供发光装置及其制造方法，以在基板上形成诸如微结构的表面精细结构，从而在不进行化学处理的情况下形成发光装置。 构成：微结构（30'）在衬底（20）上具有微小尺寸的不均匀形状。 第一电极（40）形成在微结构上用于微结构的形状复制。 在第一电极上形成有源层（50），用于第一电极的形状复制。 在活性层上形成第二电极（60），用于有源层的形状复制。 微结构通过压印工艺在衬底上形成。 微结构包括硬化高分子聚合物。
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公开(公告)号：KR100948856B1
公开(公告)日：2010-03-22
申请号：KR1020080058359
申请日：2008-06-20
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사 , 재단법인서울대학교산학협력재단
Abstract: 본 발명은 기판 상에 마이크로 크기의 요철 형상을 구비한 마이크로 구조체; 상기 마이크로 구조체의 형상이 복제되도록 상기 마이크로 구조체 상에 형성된 제1전극; 상기 제1전극의 형상이 복제되도록 상기 제1전극 상에 형성된 활성층; 및 상기 활성층의 형상이 복제되도록 상기 활성층 상에 형성된 제2전극;을 포함하는 발광 소자를 제공한다.
Abstract translation: 本发明涉及在基底上具有微米级凹凸形状的微结构; 在微结构上形成第一电极以复制微结构的形状; 形成在第一电极上的有源层使得第一电极的形状被复制; 并且在有源层上形成第二电极，使得有源层的形状被复制。
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公开(公告)号：KR101326127B1
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：KR1020070089959
申请日：2007-09-05
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사 , 재단법인서울대학교산학협력재단
IPC: H01L21/027 , G03F7/00
CPC classification number: H01L51/0004 , B05D1/32 , B05D5/00 , B05D5/08 , B05D7/56 , H01L27/3211 , Y02E10/549 , Y10T428/31504
Abstract: 본 발명은 기판 위에 제1 소수성 박막을 형성하는 단계, 상기 제1 소수성 박막의 일부를 제거하여 제1 친수성 영역을 형성하는 단계, 상기 기판의 전면에 제1 유기 용액을 도포하고 상기 제1 친수성 영역에 선택적으로 젖게 하는 단계, 상기 제1 유기 용액을 건조하여 상기 제1 친수성 영역에 제1 유기 박막 패턴을 형성하는 단계, 상기 제1 유기 박막 패턴 위에 제2 소수성 박막을 형성하는 단계, 상기 기판의 전면에 제2 유기 용액을 도포하고 선택적으로 젖게 하는 단계, 그리고 상기 제2 유기 용액을 건조하여 제2 유기 박막 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 패턴 어레이 형성 방법에 관한 것이다.
친수성, 소수성, 젖음성(wettability), 패턴 어레이, 유기 소자-
公开(公告)号：KR1020090024962A
公开(公告)日：2009-03-10
申请号：KR1020070089959
申请日：2007-09-05
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사 , 재단법인서울대학교산학협력재단
IPC: H01L21/027 , G03F7/00
CPC classification number: H01L51/0004 , B05D1/32 , B05D5/00 , B05D5/08 , B05D7/56 , H01L27/3211 , Y02E10/549 , Y10T428/31504 , G03F7/0002 , H01L51/56
Abstract: A pattern array formation method is provided to prevent the organic thin film pattern from being damaged by the chemical solvent or the plasma in the etching process. A pattern array formation method includes the step of forming the first hydrophobic thin film on a substrate; the step of forming the first hydrophobic region by removing a part of the first hydrophobic thin film; the step of coating the first organic solution onto the front of substrate; the step of selectively wetting the substrate in the first hydrophobic region; the step of forming the first organic layer pattern in the first hydrophobic region by drying the first organic solution; the step of forming the second hydrophobic thin film on the first organic layer pattern; the step of coating the second organic solution onto the front of substrate and selectively wetting; the step of forming the second organic layer pattern by drying the second organic solution.
Abstract translation: 提供了图案阵列形成方法，以防止在蚀刻工艺中有机薄膜图案被化学溶剂或等离子体损坏。 图案阵列形成方法包括在基板上形成第一疏水性薄膜的工序; 通过除去第一疏水性薄膜的一部分形成第一疏水性区域的步骤; 将第一有机溶液涂布在基材的前面的步骤; 在第一疏水区域中选择性润湿衬底的步骤; 通过干燥第一有机溶液在第一疏水区域中形成第一有机层图案的步骤; 在第一有机层图案上形成第二疏水性薄膜的步骤; 将第二有机溶液涂布在基材的前面并选择性润湿的步骤; 通过干燥第二有机溶液形成第二有机层图案的步骤。
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