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公开(公告)号：KR1019970063389A
公开(公告)日：1997-09-12
申请号：KR1019960005409
申请日：1996-02-29
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/00
Abstract: 웨이퍼 반전장치가 없으면서도 전면의 오염을 줄이면서 반도체 웨이퍼의 후면을 가공할 수 있는 가공방법 및 그 방법에 적합한 웨이퍼 후면 연삭장치에 관한 것이다.
본 발명의 반도체 웨이퍼 후면 가공방법은 웨이퍼의 후면이 아래로 향하면서 드러나도록 상부 척에 고정하고 그 하부에서 상기 웨이퍼의 후면을 가공하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 반도체 웨이퍼 후면 연삭장치는 상부에 위치하며 웨피어 후면이 아래로 드러나도록 웨이퍼 전면과 밀착되어 웨이퍼를 고정하는 척, 상기 척 하부에 연마부가 위로 향하도록 설치되며 모터의 회전에 따라 회전하는 연마휠, 상기 척의 하부 측방에서 웨이퍼 후면으로 분사액을 분사할 수 있는 분사노즐을 구비하여 이루어 진다.
가공설비에서 웨피어 반전장치가 불필요하므로 설비의 단순화와 설치공간의 축소를 이룰 수 있으며, 웨이퍼 전면의 오염위험을 감소시키는 효과를 얻을 수 있다.-
公开(公告)号：KR1019950021203A
公开(公告)日：1995-07-26
申请号：KR1019930032281
申请日：1993-12-31
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/308
Abstract: 웨이퍼가 부착된 마스킹 필름을 원활하고 정확하게, 필름을 절단할 위치까지 상기 웨이퍼를 정확하게 위치시키기 위한 마스킹 필름의 부착방법 및 이에 사용되는 장치가 개시되어 있다. 상하부 접착로울러에 마스킹 필름과 웨이퍼를 통과시켜 마스킹 필름과 웨이퍼를 접착시키고, 웨이퍼가 상기 접착로울러를 완전히 통과하면, 상기 상부 접착로울러를 상부로 이동시켜 상기 웨이퍼가 접착된 마스킹 필름이 하부 구조물에 접착되지 않도록 하부 구조물로 부터 상기 마스킹필름을 격리시킨다. 상기 마스킹 필름과 하부 구조물과의 일정거리를 유지시키면서 상기 마스킹필름을 절단 위치로 이송시킨 후, 상기 마스킹 필름을 상기 절단 위치에서 상기 웨이퍼의 형상을 따라서 절단한다. 웨이퍼의 자중에 의하여 마스킹 필름이 늘어지게 되어 마스킹 필름이 절단 테이블에 붙는 것을 방지한다. 따라서 웨이퍼를 마스킹 필름의 절단 위치에 정확하게 위치시킬 수 있어 절단칼에 의해 웨이퍼가 손상되는 것을 방지한다.
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公开(公告)号：KR100144877B1
公开(公告)日：1998-08-17
申请号：KR1019950022943
申请日：1995-07-28
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/263
Abstract: 자외선 조사장치가 개시되어 있다. 본 발명은 웨이퍼를 자외선 조사장치에 로딩(loading)시키거나 자외선 조사장치로부터 언로딩(unloading)시키기 위하여 수평이동시킬 수 있음은 물론, 웨이퍼의 중심과 웨이퍼를 회전시키기 위한 동력원의 중심축을 일치시키지 않음으로써 동력원을 동작시킬 때 웨이퍼의 중심이 원을 그리면서 선회시킬 수 있는 웨이퍼 전송수단을 제공한다.
본 발명에 의하면, 웨이퍼에 자외선 조사시 웨이퍼를 선회시킴과 동시에 직진시킬 수 있어 자외선이 웨이퍼 표면 전체에 균일하게 조사된다. 이는, 접착제에 의해 보호용테이프가 앞면에 부착된 웨이퍼를 백그라인딩(back grinding)한 후, 보호용테이프를 제거하기 위한 자외선 조사시 접착제 전체가 균일한 화학반응을 일으키도록 한다. 따라서, 보호용테이프를 용이하게 제거할 수 있다.-
公开(公告)号：KR100144876B1
公开(公告)日：1998-08-17
申请号：KR1019950022944
申请日：1995-07-28
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 자외선 조사장치가 개시되어 있다. 본 발명은 챔버 내에 성치된 광원, 앞면에 보호용테이프가 접착된 웨이퍼를 이동시키기 위하여 상기 광원의 하부에 설치된 웨이퍼 전송수단, 및 상기 웨이퍼 전송수단 부분에 상기 광원으로부터 발생되는 자외선을 집중시키기 위하여 상기 광원을 둘러싸도록 설치된 반사경을 포함하는 자외선 조사장치에 있어서, 상기 웨이퍼 전송수단은 히터가 내장되어 자외선 조사가 완료된 웨이퍼에 열을 가할 수 있는 테이블과 상기 보호용 테이프가 제거된 웨이퍼를 상기 테이블의 정해진 위치에 정렬시킬 수 있는 수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 자외선 조사가 왼료된 웨이퍼의 온도를 서서이 낮출 수 있어 웨이퍼 앞면에 부착된 보호용테이프를 웨이퍼로부터 쉽게 분리할 수 있다. 또한, 보호용 테이프가 제거된 웨이퍼를 정해진 위치에 정렬시킬수 있어 웨이퍼를 캐리어에 로딩(loading)할 때 웨이퍼가 손상되는 것을 방지할 수 있다.-
公开(公告)号：KR1019970008312A
公开(公告)日：1997-02-24
申请号：KR1019950020640
申请日：1995-07-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: 자외선 조사장치가 개시되어 있다. 본 발명은 챔버 내에 설치되어 자외선을 발생시키는 자외선 램프, 상기 자외선 램프의 하부에 웨이퍼를 지지하면서 이동시키기 위하여 설치된 진공 척, 및 상기 진공 척 부분에 자외선을 집중시키기 위하여 상기 자외선 램프를 둘러싸도록 설치된 반사경을 포함하는 자외선 조사장치에 있어서, 상기 진공 척 양 옆에 각각 온도조절이 가능한 히팅 블록(heating block)을 구비하는 것을 특징으로 하는 자외선 조사장치를 제공한다.
본 발명에 의하면, 웨이퍼를 지지하는 척 양 옆에 온도 조절이 가능한 히팅 블록을 설치함으로써, 척에 의해 지지되는 웨이퍼 주위의 온도를 일정하게 유지시킬 수 있다. 따라서, 웨이퍼의 앞면에 부착된 보호용테이프에 자외선을 조사할 때 보호용테이프의 접착제를 최적조건에서 화학반응시킬 수 있어 보호용테이프를 용이하게 제거시킬 수 있다.-
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公开(公告)号：KR100237821B1
公开(公告)日：2000-01-15
申请号：KR1019960005409
申请日：1996-02-29
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/00
Abstract: 웨이퍼 반전장치가 없으면서도 전면의 오염을 줄이면서 반도체 웨이퍼의 후면을 가공할 수 있는 가공방법 및 그 방법에 적합한 웨이퍼 후면 연삭장치에 관한 것이다.
본 발명의 반도체 웨이퍼 후면 가공방법은 웨이퍼의 후면이 아래로 향하면서 드러나도록 상부 척에 고정하고 그 하부에서 상기 웨이퍼의 후면을 가공하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 반도체 웨이퍼 후면 연삭장치는 상부에 위치하며 웨이퍼 후면이 아래로 드러나도록 웨이퍼 전면과 밀착되어 웨이퍼를 고정하는 척, 상기 척 하부에 연마부가 위로 향하도록 설치되며 모터의 회전에 따라 회전하는 연마휠, 상기 척의 하부 측방에서 웨이퍼 후면으로 분사액을 분사할 수 있는 분사노즐을 구비하여 이루어진다.
가공설비에서 웨이퍼 반전장치가 불필요하므로 설비의 단순화와 설치공간의 축소를 이룰 수 있으며, 웨이퍼 전면의 오염위험을 감소시키는 효과를 얻을 수 있다.-
公开(公告)号：KR100151074B1
公开(公告)日：1998-12-01
申请号：KR1019950020640
申请日：1995-07-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: 자외선 조사장치가 개시되어 있다. 본 발명은 챔버 내에 설치되어 자외선을 발생시키는 자외선 램프, 상기 자외선 램프의 하부에 웨이퍼를 지지하면서 이동시키기 위하여 설치된 진공 척, 및 상기 진공 척 부분에 자외선을 집중시키기 위하여 상기 자외선 램프를 둘러싸도록 설치된 반사경을 포함하는 자외선 조사장치에 있어서, 상기 진공 척 양 옆에 각각 온도조절이 가능한 히팅 블록(heating block)을 구비하는 것을 특징으로 하는 자외선 조사장치를 제공한다.
본 발명에 의하면, 웨이퍼를 지지하는 척 양 옆에 온도 조절이 가능한 히팅 블록을 설치함으로써, 척에 의해 지지되는 웨이퍼 주위의 온도를 일정하게 유지시킬 수 있다. 따라서, 웨이퍼의 앞면에 부착된 보호용테이프에 자외선을 조사할 때 보호용테이프의 접착제를 최적조건에서 화학반응시킬 수 있어 보호용테이프를 용이하게 제거시킬 수 있다.-
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公开(公告)号：KR1019990068950A
公开(公告)日：1999-09-06
申请号：KR1019980002897
申请日：1998-02-03
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: 선행 공정을 종료한 웨이퍼를 프로세서 챔버에 로딩하여 가공한 다음, 공정이 종료된 웨이퍼를 로봇 암에 의하여 언로딩 챔버로 배출할 때, 프로세서 챔버로부터 부식성 및 유독성이 강한 반응 가스가 웨이퍼와 함께 언로딩 챔버로 배출되어 언로딩 챔버의 오염 및 언로딩 챔버 내부의 인쇄회로기판이 부식되는 것을 방지하기 위하여 잔류하고 있는 반응가스를 외부로 강제 배 기시키는 배기 시스템이 개시되고 있다.
본 발명에 의하면 선행 공정을 종료한 웨이퍼를 다수 적재하고 있는 웨이퍼 카세트가 로딩되는 제 1 로드락 챔버와, 제 1 로드락 챔버로부터 웨이퍼를 다시 로딩 받아 반도체 제조 공정을 수행하는 프로세서 챔버와, 프로세서 챔버로부터 공정이 종료된 웨이퍼를 로딩 받는 웨이퍼 카세트가 설치되는 제 2 로드락 챔버를 포함하며, 제 2 로드락 챔버에는 프로세서 챔버로부터 공정이 종료된 웨이퍼에 함유되어 있는 반응가스를 탈 웨이퍼 시키는 불활성가스 분사부와, 불활성가스 및 반응가스의 혼합기와, 프로세서 챔버로부터 제 2 로드락 챔버로 누설된 반응가스를 배 기시키기 위한 잔류가스 배기부를 포함하는 것을 특징으로 한다.-
公开(公告)号：KR100168350B1
公开(公告)日：1999-02-01
申请号：KR1019950020641
申请日：1995-07-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: 자외선 조사장치가 개시되어 있다. 본 발명은 챔버 내에 설치된 광원세트지지대, 상기 광원세트지지대와 연결된 광원, 상기 광원의 하부에 설치되어 웨이퍼를 지지하는 진공 척(chuck), 및 상기 광원으로부터 발생되는 빛을 상기 진공 척 부분에 집중시키기 위하여 상기 광원을 둘러싸면서 설치된 반사경을 포함하는 자외선 조사장치에 있어서, 상기 챔버와 상기 광원세트지지대 사이에 설치되어 상기 광원세트지지대를 상/하로 이동시키는 제1 수단; 및 상기 광원세트지지대와 상기 광원 사이에 설치되어 상기 광원을 상/하로 이동시키는 제2 수단을 구비하여, 상기 제1 수단 및 상기 제2 수단으로 상기 광원을 원하는 높이에 위치시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 자외선 조사장치를 제공한다.
본 발명에 의하면, 광원과 웨이퍼 사이의 거리를 적절히 조절할 수 있어, 웨이퍼에 조사되는 자외선의 양을 조절할 수 있다. 따라서, 접착제에 의하여 보호용테이프가 접착된 웨이퍼를 백그라인딩(back grinding)한 후, 보호용테이프를 제거하기 위한 자외선 조사시 최적조건을 제공함으로써 보호용테이프의 제거를 용이하게 할 수 있다.
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