公开(公告)号：KR1019970062452A

公开(公告)日：1997-09-12

申请号：KR1019960004439

申请日：1996-02-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 국정호 ,  허남성

IPC: F16K31/126

Abstract: 본 발명은 벨로즈(bellows)를 갖춘 밸브에 관한 것으로, 본 발명에 따른 밸브는 벨로즈의 하부에 설치된 원판의 상면에 고정되고, 벨로즈 본체를 포위하도록 상기 벨로즈의 직경보다 큰 직경으로 형성되고, 밸브를 개방시키는 개방 위치에 있는 상기 벨로즈 본체의 길이와 동일한 높이를 가지는 원통형 커버와, 상기 원통형 커버의 상부에 상기 원통형 커버의 직경과 동일한 직경으로 형성된 O-링을 포함한다. 본 발명에 의하면, 반도체 제조 장치에 사용되는 밸브의 내부에 설치된 벨로즈의 외벽에 오염 입자가 흡착되는 것을 방지할 수 있으므로, 벨로즈의 수명을 연장시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1019970061640A

公开(公告)日：1997-09-12

申请号：KR1019960003631

申请日：1996-02-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 국정호

IPC: B60R16/02

Abstract: 본 발명은 자동차의 휴즈 모니터링 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 휴즈 박스내의 단선된 휴즈 또는 접촉 불량된 휴즈를 간편하게 모니터링할 수 있는 자동차의 휴즈 모니터링 장치에 관한 것이다. 이를 위한 본 발명은 전원과, 상기 전원에 공통 접속되는 부하부들과, 상기 부하부들을 각각 보호하는 보호부들로 구성한다.

公开(公告)号：KR2019970046626U

公开(公告)日：1997-07-31

申请号：KR2019950046498

申请日：1995-12-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 국정호 ,  김진주

IPC: H01L21/20

Abstract: 본고안은천정내부가보이도록하여이상발생시관리가용이하도록된 반도체소자제조설비의청정실용브라인드천정판에관한것으로, 상기천정판에천정내부를확인할수 있도록적어도하나이상의투시창이형성된구성이다. 따라서본 고안은청정실의천정에투시창이설치되어천정내부를청정실내에서확인할수 있게됨으로써이상발생시이에대한관리가신속하게이루어질수 있고, 관리가용이하여안전성이확보될수 있는효과가있다.

公开(公告)号：KR1019970051967A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950059402

申请日：1995-12-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김윤식 ,  국정호

IPC: H01L21/18

Abstract: 본 발명은 반도체 장치의 제조를 위한 증착, 확산, 결정 성장 공정 등에서 사용되는 반도체 소자 제조장비에 관한 것으로, 반도체 장비의 주요 유닛의 이상 발생 징후를 미연에 감지하여 그에 대한 적절한 조치를 취할 수 있도록 하기 위해 본 발명에 따른 장비는 히터와 펌프로 각각 인가돼는 전류량 및 전력량을 검출하는 전류계 및 전력계(50)와 경보기(60)를 가진다.

公开(公告)号：KR1020000025213A

公开(公告)日：2000-05-06

申请号：KR1019980042203

申请日：1998-10-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 국정호 ,  안준근 ,  전춘병

IPC: G11C7/00

Abstract: PURPOSE: A method for recording and deciphering memory having high reliability is provided to ensure normal data with high reliability, by searching exactly the location of an abnormal data and restoring the abnormal data as normal data at the same time. CONSTITUTION: One data is stored as the same data in more than 2 memory addresses(S1,S2). The same data stored in more than 2 memory addresses are read separately when the data are deciphered(S3). Each of the data is compared mutually whether the data are accorded each other(S4). The data are used with normal process if the result of the comparison is the same. The normal data is selected between normal and abnormal data if the result of the comparison is not the same.

Abstract translation: 目的：提供一种高可靠性记录和解密存储器的方法，通过精确搜索异常数据的位置并同时恢复异常数据作为正常数据，确保高可靠性的正常数据。 构成：一个数据作为相同的数据存储在2个以上的存储器地址（S1，S2）中。 当数据被解密时，分别读取存储在超过2个存储器地址中的相同数据（S3）。 每个数据被相互比较，无论数据是否彼此相符（S4）。 如果比较结果相同，则数据与正常进程一起使用。 如果比较结果不一致，则在正常和异常数据之间选择正常数据。

公开(公告)号：KR1019990038729A

公开(公告)日：1999-06-05

申请号：KR1019970058566

申请日：1997-11-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 국정호 ,  안정수 ,  안신호

IPC: H01L21/66

Abstract: 본 발명은 웨이퍼를 가공하는 반도체 제조 장치 중에서 웨이퍼에 산화막, 침적막 등을 형성시키고 또는 웨이퍼에 열처리 가공(Annealing)을 하는 종형 확산로(Vertical Diffusion Furnace)에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 반응관 내에 삽입되는 웨이퍼의 실제온도에 따라 반응관 내부의 온도를 조절할 수 있는 종형 확산로에 관한 것이며, 이를 위하여 보트의 내부에 삽입된 내부온도 감지장치를 포함하는 온도 조절수단이 구비된 종형 확산로의 구조를 개시하고 또한 상기 온도 조절수단을 보트에 삽입되는 내부온도 감지장치, 반응관의 외부에 형성되는 외부온도 감지장치 및 상기 온도 감지장치들과 연결되며 반응관 외부의 히터를 제어할 수 있는 히터 제어장치를 포함하는 구조로 개시하며, 이러한 구조를 통하여 웨이퍼에 침적막을 형성함으로써 종래 구조� �� 따라 보트의 외부에 고정된 내부온도 감지장치로 인한 오차를 방지하고, 웨이퍼의 실제온도에 맞추어 반응관 내의 온도를 적절하게 조절할 수 있으며 웨이퍼를 가공하여 형성되는 침적막 등의 품질을 향상하여 결과적으로 웨이퍼 제조 공정의 효율을 향상한다.

公开(公告)号：KR1019970077887A

公开(公告)日：1997-12-12

申请号：KR1019960015847

申请日：1996-05-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 류규복 ,  국정호

IPC: H02J9/00

Abstract: 정전 감지부로부터 상용전원의 공급상태를 감지하여 상용 전원이 공급되지 않는 경우에는 자가전원을 공급하고 상용 전원이 공급되는 경우에는 그 상용 전원을 공급하도록 스위칭되는 전원 선택 공급부에 의해 전력을 공급하면서, 설비의 동작 상태를 상태 검출부에 의해 검출하고, 그 검출 상태에 비례한 전력제어신호를 프로세스 제어부에서 출력하여, 프로세스 제어부의 전력제어신호에 비례한 전력을 전력 제어부로부터 각각의 설비에 공급함으로써, 각각의 설비에 일시적으로 전력을 공급할 때 발생되는 전원 다운 현상을 방지함과 더불어 최소의 발전 용량의 자가 전원으로 최대의 설비를 운용할 수 있다.

公开(公告)号：KR2019970046804U

公开(公告)日：1997-07-31

申请号：KR2019950046497

申请日：1995-12-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 국정호

IPC: H01L21/66

Abstract: 본고안은설치시나오픈(Open)시에주변의다른설비가파손될염려가없고작업이용이하도록된 반도체소자제조라인의그레이팅에관한것으로, 사각형상의얇은판형태로형성된그레이팅에있어서, 다른인접한그레이팅과맞닿는변의중앙에적어도하나이상의반원홈을형성하여구성된것이다. 따라서그레이팅의설치및 오픈시에작업이용이하게되어작업성이향상되는것이고, 주변설비와의충돌에의한손상이방지되는효과가있다.

公开(公告)号：KR1020010056959A

公开(公告)日：2001-07-04

申请号：KR1019990058659

申请日：1999-12-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 국정호 ,  류규복

IPC: H01L21/205

Abstract: PURPOSE: An improved residual gas exhaust system of a low pressure chemical vapor deposition chamber is provided to prevent a pressure sensor from being degraded by particles produced during exhaust of a residual gas. CONSTITUTION: The exhaust system includes a reaction chamber(10) admitting a boat(20) containing wafers(22), an exhaust line(30) used as an exhaust path of the residual gas in the reaction chamber(10), the first pressure sensor(42) detecting an exhaust pressure of the residual gas, the second pressure sensor(44) monitoring operation of the first pressure sensor(42), a pressure controller(50) receiving pressure values from the sensors(42,44) and thereby controlling the exhaust pressure, the first flow regulator(70) supplying a nitrogen gas to the exhaust line(30) to compensate for an insufficient exhaust pressure, and a vacuum pump(80) compulsively exhausting the residual gas. In particular, the exhaust system further includes the second flow regulator(90) which supplies a nitrogen or inert gas or air in small amount to prevent the first pressure sensor(42) from being directly exposed to the exhaust gas.

Abstract translation: 目的：提供一种改进的低压化学气相沉积室的残余气体排放系统，以防止压力传感器被排出残留气体时产生的颗粒降解。 构成：排气系统包括允许容纳晶片（22）的船（20）的反应室（10），用作反应室（10）中残留气体的排气路径的排气管线（30），第一压力 传感器（42）检测残留气体的排气压力，第二压力传感器（44）监视第一压力传感器（42）的操作;压力控制器（50），接收来自传感器（42,44）的压力值 控制排气压力，第一流量调节器（70）向排气管线（30）供应氮气以补偿不足的排气压力;以及真空泵（80）强制排出残余气体。 特别地，排气系统还包括第二流量调节器（90），其供应少量的氮气或惰性气体或空气以防止第一压力传感器（42）直接暴露于废气。

公开(公告)号：KR1020000020898A

公开(公告)日：2000-04-15

申请号：KR1019980039694

申请日：1998-09-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 전춘병 ,  국정호

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A wafer transfer apparatus is provided to prevent an external air(11) from being in flowed into the body of the wafer transfer apparatus by blocking a penetration hole of the body. CONSTITUTION: A wafer transfer apparatus(7) prevents the contamination of a wafer(9) by improving the structure of an apparatus for throwing the wafer into an electric furnace or separating the wafer. The wafer transfer apparatus loads the wafer on a front part(7a) of the body and transfers a boat(8) loaded with the semiconductor wafer to the inside of a quartz tube(10) of the electric furnace. Both sides of a back part(7b) of the wafer transfer apparatus are blocked by partition walls(13,14).

Abstract translation: 目的：提供晶片传送装置，以防止外部空气（11）通过阻塞身体的穿透孔而流入晶片传送装置的主体。 构成：晶片传送装置（7）通过改进用于将晶片投入电炉或分离晶片的装置的结构来防止晶片（9）的污染。 晶片传送装置将晶片装载在主体的前部（7a）上，将装载有半导体晶片的舟皿（8）传送到电炉的石英管（10）的内部。 晶片传送装置的后部（7b）的两侧被隔壁（13,14）阻挡。