公开(公告)号：KR1020090009055A

公开(公告)日：2009-01-22

申请号：KR1020070072492

申请日：2007-07-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김남열 ,  정윤송 ,  정동훈

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L22/12 ,  G01N21/956 ,  G03F7/7065 ,  H01L21/67288

Abstract: The defect inspection method of pattern is provided to reduce the repeated pattern check according to the inspection setting sensitivity. The first test susceptibility for the defect check of pattern is set up(S30a). The first deformity detection parameter according to the first test susceptibility is set up(S31a). The same pattern is scanned and the error signal size of the same pattern is calculated(S34a). The first deformity detection parameter and the error signal size are compared(S35a) and then it is determined whether the pattern has a defect or no. The error signal size of the same pattern and image of the same pattern are stored if the pattern has a defect(S36a).

Abstract translation: 提供图案的缺陷检查方法，以根据检查设置灵敏度减少重复图案检查。 建立了模式缺陷检查的第一个测试敏感性（S30a）。 建立根据第一测试敏感性的第一畸形检测参数（S31a）。 扫描相同的图案，并计算相同图案的误差信号大小（S34a）。 比较第一畸变检测参数和误差信号尺寸（S35a），然后确定图案是否具有缺陷或否。 如果图案有缺陷，则存储相同图案的相同图案和图像的误差信号尺寸（S36a）。