公开(公告)号：KR1020010046953A

公开(公告)日：2001-06-15

申请号：KR1019990050934

申请日：1999-11-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김민훈

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A self-diagnosing method of a step-and-repeat aligner is provided to remarkably shorten the time necessary for a self-diagnosis, by supplying a stepper for selectively checking self-diagnosis items necessary for forming a pattern. CONSTITUTION: Self-diagnosis items necessary for forming a pattern are selectively checked so that only the checked items are self-diagnosed. The self-diagnosis items are at least one item selected from a group of magnification, revolution function, X-axis translation, Y-axis translation, X-axis levelling, Y-axis levelling, a focus, a temperature and a pressure.

Abstract translation: 目的：提供步进重复对准器的自我诊断方法，通过提供选择性地检查形成图案所需的自我诊断项目的步进器，显着缩短自我诊断所需的时间。 组成：选择性地检查形成图案所需的自我诊断项目，以便只有被检查的项目被自我诊断。 自诊断项目是从放大倍数，旋转功能，X轴平移，Y轴平移，X轴平整，Y轴平整，焦点，温度和压力组中选择的至少一个项目。

公开(公告)号：KR100183858B1

公开(公告)日：1999-04-15

申请号：KR1019960016959

申请日：1996-05-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김해근 ,  김용수 ,  정주효 ,  김민훈

IPC: H01L21/027

Abstract: 포토레지스트 용기의 입구에 부착되어 이 포토레지스트를 소정의 공정장비로 공급하기 위해 사용되는 캡을 다른 화학약품 용기에도 적용하여 사용할 수 있도록 상기 캡과 화학약품 용기 사이에 개재되는 지그에 대해 기재되어 있다. 본 발명의 반도체용 화학약품의 공급장치는 포토레지스트 용기의 입구부에 부착하여 상기 포토레지스트를 소정의 공정장비로 공급하기 위한 배출구 및 상기 포토레지스트 용기내에 배출압력을 가하기 위한 가압부로 이루어진 캡을 구비하는 반도체용 화학약품의 공급장치에 있어서, 상기 캡을 포토레지스트 용기 이외의 소정의 화학약품 용기에 적용하고자 할 때, 상기 소정의 화학약품 용기와 캡 사이를 연결시켜 주기 위한 지그를 더 구비하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명에 따른 반도체용 화학약품의 공급장치에 의하면, 상기 지그를 사용함으로써 화학약품을 옮겨 담는 과정에서 발생되는 종래의 환경악화나 오염의 문제를 해소할 수 있게 된다. 또한, 종래의 경우에 예컨대 티너를 포토레지스트의 용기에 완전히 옮겨 담기에 앞서 티너를 이용하여 포토레지스트의 용기의 내부를 수차례 세정해야 하는 번거로움이 있었으나 이 또한 해소할 수 있게 된다.

公开(公告)号：KR100164503B1

公开(公告)日：1999-02-01

申请号：KR1019950055688

申请日：1995-12-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 전기현 ,  김용수 ,  박병철 ,  김민훈

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 반도체소자의 제조장비의 라인 시스템에 관한 것으로, 직렬로 배열된 장비의 라인구조를 설비의 관리가 용이하도록 한 반도체 제조장비의 라인 시스템에 관한 것이다.
종래의 사진공정의 작업라인은 수리 및 점검시 파티클의 유입으로 공정불량의 요인으로 작용하여 제품의 품질을 떨어뜨리고, 고장의 발생시 작업시간이 길어져 설비의 가동효율과 수율을 저하시키는 문제점들이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로, 사진공정장비 라인의 배치에서 웨이퍼 이송부와 인터페이스부를 전·후 위치이동이 가능하도록 형성하여 수리 및 점검시 작업공간을 충분히 확보할 수 있도록 하여 라인 내 공조를 안정시키고 작업시간을 줄여 수율을 향상시킬 수 있도록 한 것이다.

公开(公告)号：KR1019970030245A

公开(公告)日：1997-06-26

申请号：KR1019950042509

申请日：1995-11-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김용수 ,  김민훈 ,  박경서 ,  전기현

IPC: H01L21/18

Abstract: 본 발명은 반도체 웨이퍼의 표면에 도포되는 케미컬의 잔량 정도를 확인하기 용이하도록 하는 반도체 제조설비의 케미컬 공급장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체 제조설비의 케미컬 공급장치는 밀폐된 캐니스터 내에 가스를 불어 넣어 가압함으로써 수용된 케미컬 용액을 공정에 공급하는 반도체 제조설비의 케미컬 공급장치에 있어서, 상기 캐니스터 측벽 소정 위체에 캐니스터 내의 내용물을 확인 할 수 있도록 확인창이 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 따르면 폴리아미트 케미컬 용액의 잔량을 쉽게 확인할 수 있으며, 폴리아미드 케미컬 용액의 점도를 유지시킬 수 있을 뿐 아니라 시간에 따른 손실을 줄일 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019970077101A

公开(公告)日：1997-12-12

申请号：KR1019960016959

申请日：1996-05-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김해근 ,  김용수 ,  정주효 ,  김민훈

IPC: H01L21/027

Abstract: 포토레지스트 용기의 입구에 부착되어 이 포토레지스트를 소정의 공정장비로 공급하기 위해 사용되는 캡을 다른 화학약품 용기에도 적용하여 사용할 수 있도록 상기 캡과 화학약품 용기 사이에 개재되는 지그에 대해 기재되어 있다. 본 발명의 반도체용 화학약품의 공급장치는 포토레지스트 용기의 입구부에 부착하여 상기 포토레지스트를 소정의 공정장비로 공급하기 위한 배출구 및 상기 포토레지스트 용기내에 배출압력을 가하기 위한 가압부로 이루어진 캡을 구비하는 반도체용 화학약품의 공급장치에 있어서, 상기 캡을 포토레지스트 용기 이외의 소정의 화학약품 용기에 적용하고자 할 때, 상기 소정의 화학약품 용기와 캡 사이를 연결시켜 주기 위한 지그를 더 구비하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명에 따른 반도체용 화학약품의 공급장치에 의하면, 상기 지그를 사용함으로써 화학약품을 옮겨 담는 과정에서 발생되는 종래의 환경악화나 오염의 문제를 해소할 수 있게 된다. 또한, 종래의 경우에 예컨대 티너를 포토레지스트의 용기에 완전히 옮겨 담기에 앞서 티너를 이용하여 포토레지스트의 용기의 내부를 수차례 세정해야 하는 번거로움이 있었으나 이 또한 해소할 수 있게 된다.

公开(公告)号：KR100166207B1

公开(公告)日：1999-02-18

申请号：KR1019950042509

申请日：1995-11-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김용수 ,  김민훈 ,  박경서 ,  전기현

IPC: H01L21/18

Abstract: 본 발명은 반도체 웨이퍼의 표면에 도포되는 케이컬의 잔량 정도를 확인하기 용이하도록 하는 반도체 제조설비의 케미컬 공급장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체 제조설비의 케미컬 공급장치는 밀폐된 캐니스터내에 가스를 불어 넣어 가압함으로써 수용된 케미컬 용액을 공정에 공급하는 반도체 제조설비의 케미컬 공급장치에 있어서, 캐니스터 측벽 소정 위치에 캐니스터 내의 내용물을 확인할 수 있도록 확인창이 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 따르면 폴리이미드 케미컬 용액의 잔량을 쉽게 확인할 수 있으며, 폴리이미드 케미컬 용액의 점도를 유지시킬 수 있을 뿐 아니라 시간에 따른 손실을 줄일 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019970051886A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950055688

申请日：1995-12-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 전기현 ,  김용수 ,  박병철 ,  김민훈

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 반도체소자의 제조장비의 라인 시스템에 관한 것으로, 직렬로 배열된 장비의 라인구조를 설비의 관리가 용이하도록 한 반도체 제조장비의 라인 시스템에 관한 것이다.
종래의 사진공정의 작업라인은 수리 및 점검시 파티클의 유입으로 공정불량의 요인으로 작용하여 제품의 품질을 떨어뜨리고, 고장의 발생시 작업시간이 길어져 설비의 가동효율과 수율을 저하시키는 문제점들이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로, 사진공정장비 라인의 배치에서 웨이퍼 이송부와 인터페이스부를 전·후 위치이동이 가능하도록 형성하여 수리 및 점검시 작업공간을 충분히 확보할 수 있도록 하여 라인 내 공조를 안정시키고 작업시간을 줄여 수율을 향상시킬 수 있도록 한 것이다.

公开(公告)号：KR1019990028014A

公开(公告)日：1999-04-15

申请号：KR1019970050553

申请日：1997-09-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 전기현 ,  김민훈

IPC: H01L21/312

Abstract: 본 발명은 반도체 장치에 관한 것으로, 특히 배기량을 향상시킬 수 있는 폴리이미드 공정을 위한 반도체 장치에 관한 것이다. 후드는 폴리이미드 공정을 위한 베이크 오븐 상단에 설치되어 있다. 두 개의 배출 덕트는 후드에 설치되어 있다. 모터 팬은 냄새 및 열을 강제 배기시키기 위하여 배출 덕트에 설치되어 있다. 라인 배출 공조 시스템은 모터 팬에 연결되어 있다.