公开(公告)号：KR100839350B1

公开(公告)日：2008-06-19

申请号：KR1020060080171

申请日：2006-08-24

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  삼성엔지니어링 주식회사

Inventor： 정인호 ,  황재동 ,  은성광 ,  최병문 ,  김선필 ,  허등윤

IPC: C02F1/44 ,  C02F1/20 ,  C02F1/66 ,  C02F1/76 ,  C02F9/00 ,  C02F1/42 ,  C02F103/34

CPC classification number: C02F1/441 ,  C02F1/20 ,  C02F1/66 ,  C02F1/76 ,  C02F9/00 ,  C02F2001/425 ,  C02F2103/346 ,  C02F2209/06 ,  C02F2303/04 ,  C02F2303/185

Abstract: 폐수 재활용 방법에 따르면, 폐수로부터 경도(hardness)를 제거한다. 상기 폐수로부터 가스를 제거한다. 그런 다음, 상기 폐수로부터 고효율 역삼투압 방식(high efficiency reverse osmosis)으로 염(salt)과 유기탄소(organic carbon)를 제거한다. 따라서, 반도체 폐수를 재활용하여 반도체 공정용 공업용수로 사용할 수 있게 되므로, 반도체 장치의 제조단가를 줄임과 아울러 반도체 폐수로 인한 환경오염도 해소될 수 있다.

公开(公告)号：KR1020050062983A

公开(公告)日：2005-06-28

申请号：KR1020030094001

申请日：2003-12-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 함창열 ,  김선필

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 반도체 소자의 제조에 이용되는 초순수 제조 장치에 관한 것으로, 본 발명의 초순수 제조 장치는 외부로부터 공급수가 공급되는 공급수 배관; 상기 공급수 배관에 연결되는 그리고 다수의 수지 보틀들을 포함하는 폴리셔 유닛부들; 상기 폴리셔 유닛부들에 연결되는 생산수 배관; 상기 공급수 배관과 상기 생산수 배관을 직접 연결하는 바이패스 배관; 및 상기 폴리셔 유닛부의 전단과 후단에 설치되는 제1밸브들을 포함한다. 이러한 구성을 갖는 본 발명은 폴리셔 수지 보틀 교체 및 박테리아 살균 목적으로 정기적으로 시행하고 있는 과산화수소 세정 작업시 발생되는 초순수 품질 오염 및 업무 로스를 최소화할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020030063819A

公开(公告)日：2003-07-31

申请号：KR1020020004151

申请日：2002-01-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김선필 ,  최승걸

IPC: C02F1/44

CPC classification number: B01D65/10 ,  B01D61/022 ,  B01D61/12 ,  B01D65/02 ,  B01D2321/00 ,  C02F1/441

Abstract: PURPOSE: Provided are an apparatus for manufacturing deionized water, the apparatus having a reverse osmosis filtration test vessel, and a method for using the same apparatus. CONSTITUTION: The apparatus comprises a water supply pipe(11), a reverse osmosis vessel(13) connected to the water supply pipe(11), a reverse osmosis filtration test vessel(15) connected to the water supply pipe(11), a water discharge pipe(23) connected to the reverse osmosis vessel(13) and the reverse osmosis filtration test vessel(15) for discharging deionized water, and a concentrated water discharge pipe(25) connected to the reverse osmosis vessel(13) and the reverse osmosis filtration test vessel(15) for discharging concentrated water. The method comprises the steps of supplying raw water to a reverse osmosis vessel and a reverse osmosis filtration test vessel; adjusting water pressure supplied to the reverse osmosis vessel and the reverse osmosis filtration test vessel; detecting pressures and flow rates of deionized water and concentrated water output from the reverse osmosis vessel and the reverse osmosis filtration test vessel; comparing pressures and flow rate of deionized water and concentrated water output from the reverse osmosis vessel and the reverse osmosis filtration test vessel; adjusting pressure and flow rate of the raw water supplied to the reverse osmosis vessel and the reverse osmosis filtration test vessel or replacing reverse osmosis filter in the reverse osmosis vessel when the compared values are out of predetermined range; and detecting water quality of the deionized water when the compared value is in predetermined range; and supplying the deionized water to user and discharging the concentrated water if the water quality is satisfied.

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造去离子水的设备，该设备具有反渗透过滤测试容器，以及使用该设备的方法。 构成：该装置包括供水管（11），与供水管（11）连接的反渗透容器（13），与供水管（11）连接的反渗透过滤试验容器（15） 连接到反渗透容器（13）的排水管（23）和用于排出去离子水的反渗透过滤试验容器（15）和连接到反渗透容器（13）的浓缩排水管（25）和 用于排出浓缩水的反渗透过滤试验容器（15）。 该方法包括向反渗透容器和反渗透过滤试验容器提供原水的步骤; 调整供应给反渗透容器和反渗透过滤试验容器的水压; 检测反渗透容器和反渗透过滤试验容器中去离子水和浓缩水输出的压力和流量; 比较去离子水的压力和流量以及来自反渗透容器和反渗透过滤试验容器的浓缩水输出量; 当比较值超出预定范围时，调整供给反渗透容器和反渗透过滤试验容器的原水的压力和流量，或者在反渗透容器中代替反渗透滤池; 并且当所述比较值在预定范围内时，检测去离子水的水质; 并且如果满足水质，将去离子水供应给用户并排出浓缩水。

公开(公告)号：KR100614643B1

公开(公告)日：2006-08-22

申请号：KR1020030094001

申请日：2003-12-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 함창열 ,  김선필

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 반도체 소자의 제조에 이용되는 초순수 제조 장치에 관한 것으로, 본 발명의 초순수 제조 장치는 외부로부터 공급수가 공급되는 공급수 배관; 상기 공급수 배관에 연결되는 그리고 다수의 수지 보틀들을 포함하는 폴리셔 유닛부들; 상기 폴리셔 유닛부들에 연결되는 생산수 배관; 상기 공급수 배관과 상기 생산수 배관을 직접 연결하는 바이패스 배관; 및 상기 폴리셔 유닛부의 전단과 후단에 설치되는 제1밸브들을 포함한다. 이러한 구성을 갖는 본 발명은 폴리셔 수지 보틀 교체 및 박테리아 살균 목적으로 정기적으로 시행하고 있는 과산화수소 세정 작업시 발생되는 초순수 품질 오염 및 업무 로스를 최소화할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020030006545A

公开(公告)日：2003-01-23

申请号：KR1020010042358

申请日：2001-07-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최승걸 ,  김선필

IPC: C02F1/28

Abstract: PURPOSE: An apparatus and a method for manufacturing ultra pure water used in semiconductor rinsing are provided to improve removal efficiency of TOC (total organic carbon) by controlling concentration of hydrogen ions of inlet water to the acidic range. CONSTITUTION: The apparatus for manufacturing ultra pure water comprises an activated carbon tower(10) in which activated carbon(11) is filled; an inlet water line(20) for supplying inlet water into the activated carbon tower; a treated water line(30) which is connected to the activated carbon tower, and from which ultra pure water manufactured as the inlet water supplied from the inlet water line is passing through the activated carbon tower is discharged; and an acidic water line(40) which is connected to the inlet water line to supply acidic water for activating the inlet water, wherein concentration of hydrogen ions of the acidic water is 2 to 7 while concentration of hydrogen ions of the inlet water is 3 to 7. In a method for manufacturing ultra pure water by passing inlet water through activated carbon, the method for manufacturing the ultra pure water comprises the process of acidizing the concentration of hydrogen ions of the inlet water by supplying acidic water to the inlet water.

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造半导体冲洗中使用的超纯水的设备和方法，以通过将入口水的氢离子浓度控制在酸性范围来提高TOC（总有机碳）的去除效率。 构成：用于制造超纯水的装置包括填充活性炭（11）的活性炭塔（10） 入口水线（20），用于将入口水供应到所述活性炭塔中; 与活性炭塔连接的被处理水管线（30），从入口水管路供给的入口水所制造的超纯水通过活性炭塔排出; 和酸性水线（40），其连接到入口水线以提供用于活化入口水的酸性水，其中酸性水的氢离子浓度为2至7，而入口水的氢离子浓度为3 在通过使入口水通过活性炭制造超纯水的方法中，超纯水的制造方法包括通过向入口水供给酸性水来酸化入口水的氢离子的浓度的方法。

公开(公告)号：KR1020020046974A

公开(公告)日：2002-06-21

申请号：KR1020010078492

申请日：2001-12-12

Applicant: 노무라 마이크로 싸이언스 가부시키가이샤 ,  주식회사 노무라코리아 ,  삼성전자주식회사

Inventor： 김선필 ,  다케우치히데오 ,  정광호

IPC: G01N27/02

Abstract: PURPOSE: An impurity detection apparatus and method is provided to reduce number of detectors and impurity detection time, while achieving an in-advance prevention against water contamination. CONSTITUTION: An impurity detection apparatus comprises an ultraviolet oxidation unit(11) serving as an ultraviolet radiation unit for radiating ultraviolet ray to the water containing one of organic material or peroxide; a resistivity meter(12) serving as an electrical conductivity measuring unit for measuring the conductivity or resistivity of the water where the ultraviolet ray is radiated; and a dissolved oxygen meter(13) serving as a dissolved oxygen measuring unit for measuring dissolved oxygen of the water where the ultraviolet ray is radiated. An impurity detection method comprises a first step of decomposing the organic material and peroxide contained in the water, by radiating ultraviolet ray; a second step of measuring conductivity or resistivity of the water where the ultraviolet ray is radiated; and a third step of measuring dissolved oxygen of the water where the ultraviolet ray is radiated.

Abstract translation: 目的：提供一种杂质检测装置和方法，以减少检测器的数量和杂质检测时间，同时实现预防水污染的预防。 构成：杂质检测装置包括紫外线氧化装置（11），其用作紫外线辐射装置，用于向含有有机材料或过氧化物的水辐射紫外线; 用作电导率测量单元的电阻率计（12），用于测量辐射紫外线的水的导电性或电阻率; 以及作为溶解氧测定单元的溶解氧计（13），用于测量照射紫外线的水的溶解氧。 杂质检测方法包括通过辐射紫外线分解有机材料和包含在水中的过氧化物的第一步骤; 测量紫外线辐射的水的导电性或电阻率的第二步骤; 以及测量照射紫外线的水的溶解氧的第三步骤。

公开(公告)号：KR100689693B1

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：KR1020000078331

申请日：2000-12-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최승걸 ,  김선필

IPC: C02F9/02

Abstract: 본 발명은 원수를 전처리한 후 활성탄 처리 및 이온교환수지 처리를 포함하는 1차 순수 제조단계를 거친 다음, 2차 순수 제조단계를 거쳐 초순수를 제조하는 방법에서 1차 순수제조단계에 있어서 활성탄 처리는 산처리된 활성탄을 사용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 초순수의 제조방법에 관한 것으로서, 이와같이 산처리된 활성탄을 적용하는 경우 활성탄을 교체함에 따라 발생되는 처리수 및 유기폐수의 TOC(Total Organic Carbon) 증가를 효과적으로 억제하여 회수수의 사용비율을 증가시킴은 물론 궁극적으로 반도체 제품의 불량율을 낮출 수 있는 효과를 얻을 수 있다.

초순수*활성탄*산도*TOC

公开(公告)号：KR100249310B1

公开(公告)日：2000-03-15

申请号：KR1019970011903

申请日：1997-03-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김선필 ,  이상구 ,  오윤철 ,  김승언

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 반도체 제조용 탈이온수제조설비 및 그 관리방법에 관한 것이다.
본 발명은, 기 여과된 용수중에 포함되어 있는 이온을 제거하기 위한 이온교환수지가 충전된 이온교환장치를 포함하는 반도체 제조용 탈이온수제조설비 및 그 관리방법에 있어서, 상기 이온교환수지를 통과하는 용수를 인출하기 위한 용수 인출수단과 상기 이온교환수지 자체를 인출하기 위한 이온교환수지 인출수단이 상기 이온교환장치의 저면부로부터 소정의 높이의 상기 이온교환장치에 쌍을 이루며 설치되어 상기 각 인출수단을 통해서 인출되는 용수 및 이온교환수지를 각각 분석하도록 하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 이온교환수지 및 이온교환수지를 통과하는 용수 등의 분석을 통하여 분석데이터의 신뢰도를 개선시켜 이온교환장치의 효율적인 관리가 이루어져 반도체장치의 생산성이 향상되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019980075660A

公开(公告)日：1998-11-16

申请号：KR1019970011903

申请日：1997-03-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김선필 ,  이상구 ,  오윤철 ,  김승언

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 반도체 제조용 탈이온수제조설비 및 그 관리방법에 관한 것이다.
본 발명은, 기 여과된 용수중에 포함되어 있는 이온을 제거하기 위한 이온교환수지가 충전된 이온교환장치를 포함하는 반도체 제조용 탈이온수제조설비 및 그 관리방법에 있어서, 상기 이온교환수지를 통과하는 용수 및 상기 이온교환수지 자체를 인출하기 위한 인출수단이 상기 이온교환장치의 소정의 높이에 위치하도록 상기 이온교환장치를 관통시켜 외벽에서 인출하여 분석을 수행토록 하는 것으로 이루어진다.
따라서, 소정의 각 높이에서 인출한 이온교환수지 및 이온교환수지를 통과하는 용수 등의 분석을 통하여 분석데이터의 신뢰도를 개선시켜 이온교환장치의 효율적인 관리가 이루어짐으로 인해 생산성이 향상되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR100462897B1

公开(公告)日：2004-12-18

申请号：KR1020030003809

申请日：2003-01-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김선필 ,  강혁 ,  신호수 ,  유호정 ,  함창열

IPC: C02F1/44

Abstract: PURPOSE: Provided are an ultra-pure water manufacturing device and a method for manufacturing ultra-pure water by using the same which recover treated water to a raw water supplying tank or automatically control the discharge amount of the supplied treated water and concentrated water when the salt removing rate is abnormal compared to the reference value. CONSTITUTION: The device(1) comprises a pre-treating filter(7) primarily filtering fine particles contained in raw water supplied from a raw water supplying tank(3), a first reverse osmotic membrane device(11) removing salts contained in the water filtered through the pre-treating filter, a second reverse osmotic membrane device(13) removing salts contained in the concentrated water separated by the first reverse osmotic membrane device, a salt removing rate tester(19) installed on a treated water supply line(15) to check the salt removing rate of the treated water, a treated water supply valve(21) equipped at the treated water supply line to switch on and off the treated water supply line, a return valve(25) opening and closing a return line(23) connected from the treated water supply line between the treated water supply valve and the second reverse osmotic membrane device to the raw water supply tank, a concentrated water control valve(29) equipped at a concentrated water discharge line(27) where the concentrated water separated by the second reverse osmotic membrane device passes through and a controller(31) comparing data regarding the salt removing rate checked by the salt removing rate tester to generate an opening and closing signal of the treated water supply valve, return valve and concentrated water control valve.

Abstract translation: 本发明提供一种超纯水制造装置以及使用该超纯水制造装置的超纯水的制造方法，该超纯水制造装置以及超纯水的制造方法， 与参考值相比，除盐率异常。 本发明的装置（1）包括：预处理过滤器（7），主要过滤从原水供应罐（3）供应的原水中含有的细颗粒;第一反渗透膜装置（11），去除水中含有的盐 通过预处理过滤器过滤，第二反渗透膜装置（13）去除包含在由第一反渗透膜装置分离的浓缩水中的盐，安装在处理过的供水管线（15）上的除盐率测试器（19） ），检查处理水的除盐率;处理水供给阀（21），其设置在处理水供给管路上以接通和关闭处理过的供水管路;返回阀（25），其打开和关闭返回管路 （23），其从被处理水供给管路与第二反渗透膜装置之间的被处理水供给管路与原水供给槽连接;浓水控制阀（29），其以浓水排出 其中由第二反渗透膜装置分离的浓缩水通过的管线（27）和控制器（31）比较关于由除盐率检测器检查的除盐率的数据，以产生处理过的供水的开启和关闭信号 阀门，回流阀和浓水控制阀。