公开(公告)号：WO2023008744A1

公开(公告)日：2023-02-02

申请号：PCT/KR2022/008740

申请日：2022-06-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김종환 ,  김기원 ,  김숙경 ,  김명선 ,  김창민 ,  송학훈

IPC: G06F1/16 ,  H04R1/28

Abstract: 다양한 실시 예에 따른 전자 장치(300)는, 메인 바디(320); 상기 메인 바디 상에 배치되는 인쇄 회로 기판(321); 상기 인쇄 회로 기판에 연결되는 마이크로폰 바디(3221)와, 상기 마이크로폰 바디에 연결되는 진동판(3222)을 포함하는 마이크로폰(322); 상기 메인 바디에 관통 형성되고, 상기 진동판이 위치한 공간과 상기 전자 장치의 외부 공간을 연통시키는 메인 음향 덕트(325); 및 상기 메인 바디에 관통 형성되고, 상기 전자 장치의 외부 공간과 상기 메인 음향 덕트를 연통시키는 보조 음향 덕트(326)를 포함할 수 있다. 그 외에도 다양한 실시 예들이 가능하다.

公开(公告)号：KR1020030003549A

公开(公告)日：2003-01-10

申请号：KR1020010039454

申请日：2001-07-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김창민

IPC: H01L21/205

Abstract: PURPOSE: An apparatus of chemical vapor deposition for processing semiconductor is provided to measure a position and state of a shower head and protect the shower head from defects and powders in a cleaning process. CONSTITUTION: The apparatus of chemical vapor deposition comprises a process chamber(10) for chemical reaction, a shower head(30) for injecting a gas onto a wafer, a gas inlet(20) for gas supply, a heat block(40), a cover(50) of the shower head, a measuring unit(60) for the state of the shower head.

Abstract translation: 目的：提供一种用于处理半导体的化学气相沉积装置，用于测量淋浴头的位置和状态，并在清洁过程中保护淋浴喷头免受缺陷和粉末的影响。 构成：化学气相沉积装置包括用于化学反应的处理室（10），用于将气体喷射到晶片上的喷头（30），用于气体供应的气体入口（20），热块（40）， 淋浴喷头的盖（50），用于喷淋头状态的测量单元（60）。

公开(公告)号：KR1020020037861A

公开(公告)日：2002-05-23

申请号：KR1020000067784

申请日：2000-11-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김창민 ,  임전식

IPC: H01L21/3065

Abstract: PURPOSE: A plasma apparatus having a view port is provided to make an operator easily inspect a wafer from the outside of a process chamber when a problem occurs in the plasma apparatus having a plurality of shower heads, by installing the view port to guarantee the sight of the inside of the chamber. CONSTITUTION: The plasma apparatus(10) uses the process chamber(20) in which the plurality of shower heads are installed. The first view port(60) is installed in one side of the process chamber. The second view port(70) is installed in the other side of the process chamber so that the second view port is opposite to the first view port.

Abstract translation: 目的：提供具有视口的等离子体装置，以便在具有多个喷淋头的等离子体装置中出现问题时，操作者可以容易地从处理室的外部检查晶片，通过安装视口以保证视线 的室内。 构成：等离子体装置（10）使用安装有多个喷淋头的处理室（20）。 第一视图端口（60）安装在处理室的一侧。 第二视图端口（70）安装在处理室的另一侧，使得第二视图端口与第一视图端口相对。

公开(公告)号：KR1020060126215A

公开(公告)日：2006-12-07

申请号：KR1020050047947

申请日：2005-06-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강민수 ,  김창민 ,  이상현

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/02

CPC classification number: C23C16/4401 ,  C23C16/4412

Abstract: An exhaust line of a chemical vapor deposition apparatus is provided to prevent degradation of valves by rapidly exhausting a powder generated from the exhaust line. A vacuum pump(16) is installed on an exhaust line(14) connected to an exhaust outlet(12) of a process chamber(10). A first valve(18) and a second valve(20) are provided at the exhaust line. The exhaust line(14) connects the exhaust outlet of the process chamber to the vacuum pump to exhaust residual gas in the process chamber. An inclined section(22) is arranged between an end of the exhaust line and the first valve, and inclined with a predetermined angle centering the exhaust outlet. Therefore, a powder is rapidly exhausted.

Abstract translation: 提供化学气相沉积设备的排气管线，以通过快速排出从排气管线产生的粉末来防止阀门的劣化。 真空泵（16）安装在连接到处理室（10）的排气出口（12）的排气管（14）上。 第一阀（18）和第二阀（20）设置在排气管线处。 排气管线（14）将处理室的排气出口连接到真空泵以排出处理室中的残余气体。 在排气管路的一端和第一阀之间配置有倾斜部（22），以排气口为中心的规定角度倾斜。 因此，粉末迅速耗尽。

公开(公告)号：KR1020030072507A

公开(公告)日：2003-09-15

申请号：KR1020020011376

申请日：2002-03-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김창민 ,  김용갑 ,  조규태

IPC: H01L21/205

Abstract: PURPOSE: A CVD(Chemical Vapor Deposition) apparatus is provided to exchange easily a feedthrough by dividing the feedthrough for grounding a process chamber into two parts and combining the divided parts to each other. CONSTITUTION: A CVD apparatus includes a process chamber, a bottom plate, a heater block, and a feedthrough. The feedthrough is divided into a heater block connection portion(160) and a power connection portion(170). The heater block connection portion(160) includes a head portion(162) and a bar-shaped body(164). The head portion(162) is connected to a side of the heater block through a flexible strap. A combination portion(166) is formed at an end portion of the bar-shaped body(164) opposite to the bottom plate. The power connection portion(170) includes an insertion groove(172) and a male screw thread(176). The combination portion(166) is combined with the insertion groove(172). The male screw thread(176) is combined with a power source portion.

Abstract translation: 目的：提供一种CVD（化学气相沉积）装置，用于通过分配馈通将操作室接地分成两部分并将分割的部件彼此组合来容易地进行馈通。 构成：CVD装置包括处理室，底板，加热器块和馈通。 馈通分为加热块连接部分（160）和电源连接部分（170）。 加热器块连接部分（160）包括头部（162）和棒状体（164）。 头部（162）通过柔性带连接到加热块的一侧。 组合部分（166）形成在与底板相对的杆形体（164）的端部处。 电源连接部分（170）包括插入槽（172）和外螺纹（176）。 组合部分（166）与插入槽（172）组合。 外螺纹（176）与电源部组合。

公开(公告)号：KR1020040012057A

公开(公告)日：2004-02-11

申请号：KR1020020045414

申请日：2002-07-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김경태 ,  김창민 ,  조규태

IPC: H01L21/205

Abstract: PURPOSE: Semiconductor fabricating equipment is provided to easily replace and repair only a part of a spindle shaft when a fail occurs in the spindle shaft by including the spindle shaft capable of being separated into upper and lower portions. CONSTITUTION: A wafer is placed on a wafer loading unit. A radio frequency(RF) power and reaction gas are supplied to a process chamber to deposit a thin film of a predetermined thickness on the wafer. A spindle unit(310) is included in the process chamber to rotate the wafer according to a process progression. A wafer transfer robot is installed in a load lock chamber to transfer the wafer of the wafer loading unit to the spindle unit of the process chamber. The wafer is placed on a spindle fork(315). A drive motor(390) generates rotation force to rotate the spindle fork. The spindle shaft(330) delivers the rotation force of the drive motor to the spindle fork. A connection member(320) connects the spindle shaft with the spindle fork. The spindle shaft can be separated into a spindle fork connection part and a motor connection part so as to be selectively analyzed and disassembled.

Abstract translation: 目的：提供半导体制造设备，用于通过包括能够分离成上部和下部的主轴来在主轴中发生故障时容易地更换和修理主轴的一部分。 构成：将晶片放置在晶片装载单元上。 将射频（RF）功率和反应气体供应到处理室以在晶片上沉积预定厚度的薄膜。 主轴单元（310）包括在处理室中，以根据过程进程旋转晶片。 晶片传送机器人安装在负载锁定室中，以将晶片装载单元的晶片传送到处理室的主轴单元。 将晶片放置在心轴叉（315）上。 驱动马达（390）产生旋转力以旋转主轴叉。 主轴（330）将驱动电动机的旋转力传递到主轴叉。 连接构件（320）将主轴与主轴叉连接。 主轴可以分为主轴叉连接部和马达连接部，以便选择性地分析和拆卸。

公开(公告)号：KR1020030038099A

公开(公告)日：2003-05-16

申请号：KR1020010069517

申请日：2001-11-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조규태 ,  김창민

IPC: H01L21/00

Abstract: PURPOSE: A semiconductor wafer processing apparatus having an improved chamber wall is provided to be capable of improving the efficiency of maintenance by dividing the chamber wall into two parts. CONSTITUTION: A cylindrical chamber wall(20) is opened at the top and bottom. The cylindrical chamber wall(20) is capable of being divided to two parts(21,23). Connecting protrusion parts(21a,23a) are located at both ends of the divided chamber wall parts, respectively. Connection holes(21a',23a') are located at the connecting protrusion parts(21a,23a), respectively. At this time, the divided chamber wall parts are connected by using a connection bolt(25) and a nut(27) through the connection holes(21a',23a') of the connecting protrusion parts(21a,23a). That is, the connection bolt(25) pierces through the connection holes(21a',23a') and the nut(27) is then screwed along the connection bolt(25). Preferably, a sealing member(24) is inserted and installed between the divided chamber wall parts.

Abstract translation: 目的：提供具有改进的室壁的半导体晶片处理装置，以便通过将室壁分成两部分来提高维护效率。 构成：圆柱形腔壁（20）在顶部和底部开口。 圆柱形室壁（20）能够分成两部分（21,23）。 连接突起部分（21a，23a）分别位于分隔室壁部分的两端。 连接孔（21a'，23a'）分别位于连接突出部分（21a，23a）处。 此时，通过连接突起部（21a，23a）的连接孔（21a'，23a'），使用连接螺栓（25）和螺母（27）将分隔室壁部分连接起来。 也就是说，连接螺栓（25）穿过连接孔（21a'，23a'），螺母（27）沿连接螺栓（25）拧紧。 优选地，密封构件（24）插入并安装在分隔室壁部分之间。

公开(公告)号：KR100885917B1

公开(公告)日：2009-02-26

申请号：KR1020070026255

申请日：2007-03-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김창민 ,  이재철 ,  김종선

IPC: H04N5/208 ,  G09G5/28 ,  G09G5/30 ,  H04N7/01

CPC classification number: G09G3/2051

Abstract: 본 발명은 디더링 시스템 및 디더링 방법에 관한 것으로서, 특히 저계조 시스템이 표현할 수 있는 데이터 비트의 물리적인 한계로 발생하는 오차를 전 구간에 걸쳐 넓게 분산시킬 수 있는 디더링 시스템 및 디더링 방법에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 디더링 시스템은, 선형 변환기, 디더 데이터 생성기, 가산기, 및 시프터를 구비한다. 상기 선형 변환기는, 상기 M비트 입력 데이터를 소정의 기울기를 갖는 선형 함수를 이용하여 선형 변환하여 M비트 변환 데이터를 생성하여 출력한다. 상기 디더 데이터 생성기는, (MN)비트 디더 데이터를 생성하여 출력한다. 상기 가산기는, 상기 M비트 변환 데이터와 상기 (MN)비트 디더 데이터를 가산하여 M비트 보정 데이터를 생성하여 출력한다. 상기 시프터는, 상기 M비트 보정 데이터의 하위 (MN)비트를 절단하여 상기 N비트 출력 데이터를 생성하여 출력한다.
이로 인해, 룩 업 테이블을 이용하지 않고도 선형적으로 오차를 전 구간에 분포시킬 수 있으므로, 회로 면적 및 전력 소비를 감소시킬 수 있고, 복수 개의 가산기와 시프터만을 이용하여 선형 변환을 수행하므로 필요한 논리 게이트의 수를 크게 감소시킬 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR100866603B1

公开(公告)日：2008-11-03

申请号：KR1020070000564

申请日：2007-01-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박대진 ,  김종선 ,  이재열 ,  김창민

IPC: G06F9/38 ,  G09G3/20

CPC classification number: G09G5/18 ,  G09G3/20 ,  G09G2310/08 ,  G09G2330/06

Abstract: 디시리얼라이징과 시리얼라이징을 수행하는 데이터 처리 방법 및 데이터 처리 장치가 개시된다. 상기 데이터 처리 방법은 별도의 지시신호를 전송하는 신호선이 필요없이 마스터로부터 발생 된 패킷의 제1 신호패턴과 클락 신호의 제2 신호패턴에 기초하여 상기 패킷의 유효 영상 데이터가 시작되는 시점을 지시하는 지시신호를 발생시키고 지시신호에 의해 인에이블되고 클락신호에 응답하여 시리얼라이즈된 데이터를 디시리얼라이즈 한다. 본 발명에 의하면 신호선이 차지하는 면적을 줄일 수 있고, 상기 신호선에 의해서 발생되는 EMI를 방지할 수 있는 효과가 있다.
패킷, 유효 데이터

公开(公告)号：KR1020080084466A

公开(公告)日：2008-09-19

申请号：KR1020070026255

申请日：2007-03-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김창민 ,  이재철 ,  김종선

IPC: H04N5/208 ,  G09G5/28 ,  G09G5/30 ,  H04N7/01

CPC classification number: G09G3/2051

Abstract: A dithering system for effectively distributing an error by using a linear converter and its method are provided to reduce the number of required logical gates by performing a linear conversion by using only a plurality of adders and a plurality of shifters. A linear converter(310) linearly converts M-bit input data by using a linear function with a certain tilt to generate M-bit conversion data. A dither data generator(320) generates (M-N) bit dither data and outputs the same. An adder(330) adds the M-bit conversion data and the (M-N) bit dither data to generate and output M-bit correction data. A shifter(340) truncates lower (M-N) bits of the M-bit correction data to generate and output N-bit output data. The linear function has a y intercept having the same tilt as that of the linear function. The linear converter includes only a plurality of adders and a plurality of shifters.

Abstract translation: 提供了通过使用线性转换器及其方法来有效地分配误差的抖动系统，以通过仅使用多个加法器和多个移位器执行线性转换来减少所需逻辑门的数量。 线性转换器（310）通过使用具有一定倾斜度的线性函数对M位输入数据进行线性转换，以产生M位转换数据。 抖动数据生成器（320）产生（M-N）位抖动数据并输出。 加法器（330）将M比特转换数据和（M-N）比特抖动数据相加以产生和输出M比特校正数据。 移位器（340）截断M位校正数据的下（M-N）位以产生并输出N位输出数据。 线性函数具有与线性函数相同倾斜的y截距。 线性转换器仅包括多个加法器和多个移位器。