公开(公告)号：KR100765144B1

公开(公告)日：2007-10-15

申请号：KR1020010058842

申请日：2001-09-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이봉우 ,  남효학 ,  김형열

IPC: G02F1/1337

Abstract: 배향홈 형성용 러빙 설비가 도시되어 있다. 스테이지에 이송암이 직접 로딩/언로딩 되는 이송암 삽입홈을 형성하여, 배향홈이 형성될 기판을 기판이 안착되는 스테이지로 로딩 및 배향홈이 형성된 기판을 스테이지로부터 언로딩 하는 과정에서 이송암의 불연속적인 작동을 배제하여 기판 이송 시간을 크게 단축시킨다. 이로써, 기판에 배향홈을 형성하는 러빙 설비의 생산성을 크게 향상시킬 수 있는 효과를 갖는다.
러빙 설비, 배향홈, 이송암

公开(公告)号：KR100445634B1

公开(公告)日：2004-08-25

申请号：KR1020020004777

申请日：2002-01-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 백순기 ,  김형열

IPC: H01L21/304

CPC classification number: B24B55/02 ,  B24B37/04

Abstract: A chemical mechanical polishing (CMP) apparatus includes a polishing pad, a platen, and a cleaning apparatus which provides a cleaning fluid for cleaning the polishing head. The cleaning apparatus includes a shaft located outside a periphery of the polishing pad, and an arm mounted to the shaft and extending over the polishing pad such that a bottom surface of the arm confronts the polishing surface of the polishing pad. Further, a cleaning fluid path is defined in the arm along a length of the arm, and first drop holes are defined in the arm which are fluidly connected to the cleaning fluid path and which drop cleaning fluid onto the polishing surface of the polishing pad.

Abstract translation: 化学机械抛光（CMP）设备包括抛光垫，台板和提供用于清洁抛光头的清洁液的清洁设备。 清洁设备包括位于抛光垫外围的轴，以及安装到轴上并延伸在抛光垫上的臂，该臂的底表面面对抛光垫的抛光表面。 此外，沿着臂的长度在臂中限定清洁流体路径，并且在臂中限定第一下降孔，其与清洁流体路径流体连接并且将清洁流体滴落到抛光垫的抛光表面上。

公开(公告)号：KR1020030034808A

公开(公告)日：2003-05-09

申请号：KR1020010066552

申请日：2001-10-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이봉우 ,  남효학 ,  김형열

IPC: G02F1/1333

Abstract: PURPOSE: A method for forming an assembly substrate in manufacturing a liquid crystal display device is provided to minimize temperature deviation between an upper plate and a lower plate, thereby preventing the upper plate and the lower plate from bending by thermal transformation, and preventing misalignment of the assembly substrate. CONSTITUTION: An upper substrate including color filters and a lower substrate including thin film transistors are formed(S10). A light-curing sealant is interposed at a seal line area of the lower plate(S12). The upper substrate and the lower substrate are arranged to face each other(S14). Light of which infrared wavelength is interrupted is irradiated to a top surface of the upper plate(S16). The upper substrate and the lower substrate are bonded together(S18). A liquid crystal layer is formed between the upper substrate and the lower substrate(S20).

Abstract translation: 目的：提供一种在制造液晶显示装置中形成组装基板的方法，以使上板和下板之间的温度偏差最小化，从而防止上板和下板通过热转换而弯曲，并且防止 组装衬底。 构成：形成包括滤色器的上基板和包括薄膜晶体管的下基板（S10）。 在下板的密封线区域插入光固化密封剂（S12）。 上基板和下基板被布置成彼此面对（S14）。 将红外线波长中断的光照射到上板的顶面（S16）。 上基板和下基板接合在一起（S18）。 在上基板和下基板之间形成液晶层（S20）。

公开(公告)号：KR1020030030630A

公开(公告)日：2003-04-18

申请号：KR1020010062853

申请日：2001-10-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김태봉 ,  김형열

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: A planarization apparatus for a semiconductor wafer is provided to prevent contaminations of the wafer by removing the slurry fume due to the high pressure DI injection. CONSTITUTION: A planarization apparatus for planarizing a wafer has a table(22), and polishing stations(25a,25b,25c) are installed at the bottom(23) of the table(22). Head members(70a,70b,70c,70d) are placed on the polishing stations(25a,25b,25c) with a plurality of carrier heads(100). A cleaning member is provided between the polishing station neighbors(25a,25b,25c). The cleaning member has the first cleaner for cleaning the polishing station, a second cleaner for cleaning the carrier head and the entire surface of the wafer fitted to the carrier, and a third cleaner for cleaning the bottom(23) of the table(22). The cleaning member has a body with the cleaners, and the first cleaner is formed with a plurality of nozzles formed at the lateral side of the body.

Abstract translation: 目的：提供一种用于半导体晶片的平面化装置，以通过从高压DI注入中除去浆料烟雾来防止晶片的污染。 构成：用于平坦化晶片的平面化装置具有工作台（22），并且抛光台（25a，25b，25c）安装在工作台（22）的底部（23）处。 头部件（70a，70b，70c，70d）用多个承载头（100）放置在抛光台（25a，25b，25c）上。 清洁部件设置在研磨台邻近部分（25a，25b，25c）之间。 清洁构件具有用于清洁抛光站的第一清洁器，用于清洁载体头部的第二清洁器和装配到载体的晶片的整个表面，以及用于清洁工作台（22）的底部（23）的第三清洁器， 。 清洁构件具有带有清洁器的主体，并且第一清洁器形成有形成在主体的侧面的多个喷嘴。

公开(公告)号：KR100767360B1

公开(公告)日：2007-10-17

申请号：KR1020010006968

申请日：2001-02-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이봉우 ,  남효학 ,  김형열

IPC: G02F1/1339

Abstract: 본 발명의 따른 액정 표시 장치용 스페이서 챔버는 내부에 반응실을 가지고 있는 챔버, 챔버 내부의 상단에 부착되어 있으며 액정 표시 장치에 포함되는 두 기판의 간격을 균일하게 유지하기 위해 기판의 상부에 스페이서를 산포하기 위한 스페이서 산포 노즐, 스페이서 산포시 기판을 지지하는 지지대 및 챔버의 안쪽에 설치되어 있으며 챔버의 안쪽 벽면에 붙어 있는 스페이서를 분무를 통하여 제거하기 위한 분무기를 포함한다.
스페이서, 분무기, 액정, 노즐

公开(公告)号：KR1020020022863A

公开(公告)日：2002-03-28

申请号：KR1020000055394

申请日：2000-09-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김형열 ,  조찬형 ,  최철환 ,  이민우 ,  장성환

IPC: H01L21/205

Abstract: PURPOSE: A shower head for fabricating a semiconductor is provided to decrease the number of particles dropped to a wafer, by performing an embossing process regarding the surface of a spraying plate for spraying metallic gas so that the surface area where the metallic gas is attached is increased. CONSTITUTION: A shower head body has a buffer space part to which process gas is induced. A spraying plate(23) sprays the process gas in the buffer space part, installed on the bottom surface of the shower head body. The surface of the spraying plate becomes rough to increase the surface area to which the metallic gas is attached. The surface of the spraying plate is embossed.

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造半导体的喷头，通过对用于喷射金属气体的喷涂板的表面进行压花加工，使得附着有金属气体的表面积为 增加。 构成：淋浴头本体具有产生工艺气体的缓冲空间部分。 喷洒板（23）喷射缓冲空间部分中的处理气体，安装在淋浴头本体的底面上。 喷涂板的表面变得粗糙以增加金属气体附着的表面积。 喷涂板的表面被压花。

公开(公告)号：KR1020060090045A

公开(公告)日：2006-08-10

申请号：KR1020050011241

申请日：2005-02-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김형열

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67742 ,  B25J11/0095 ,  B25J15/0616 ,  B25J19/063 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/141

Abstract: 반도체 웨이퍼를 상부 면에 안착시켜 이송하기 위한 이송용 로봇의 블레이드가 개시된다. 그러한 이송용 로봇의 블레이드는 상기 반도체 웨이퍼를 흡착시키기 위한 진공 생성부와, 상기 블레이드의 내부를 관통하여 형성되며 일단은 상부로 노출되고, 다른 일단은 상기 진공 생성부에 연결된 진공 홀과, 상기 블레이드의 외부에 설치되어지며 외력이 작용하는 경우에 이를 감지하여 상기 로봇의 작동을 중지시키기 위한 신호를 생성하는 충돌 방지부를 구비한다. 그리하여, 로봇 자체의 결함 또는 로트 포트의 스테이지나 카세트의 문제에 기인하여 반도체 웨이퍼나 공정 설비의 외벽과 충돌함으로 인하여 반도체 웨이퍼가 파손되는 문제를 감소 또는 최소화하는 효과가 있다.
로봇, 블레이드, 구동스톱부, 반도체 제조 장비

公开(公告)号：KR100541821B1

公开(公告)日：2006-01-11

申请号：KR1020040071967

申请日：2004-09-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김형열 ,  김성환

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/304

Abstract: 본 발명은 반도체 소자 제조공정에서 웨이퍼표면에 형성된 금속층을 폴링싱할 때 패드컨디셔너의 오동작을 감지하는 기술이다.
폴리싱장치에서 웨이퍼를 폴리싱할 때 콘디셔너패드의 오동작을 감지하여 웨이퍼의 렌지 및 균일도의 불량발생을 방지하기 위한 폴리싱장치의 패드컨디셔너 오동작 감지장치는, 폴리싱패드를 콘디셔닝하는 콘디셔너 패드; 상기 폴리싱패드를 콘디셔닝할 수 있도록 콘디셔너패드를 고정시키는 콘디셔너헤드; 상기 콘디셔너 헤드를 회전시키기 위한 모터; 상기 모터로 공급되는 모터구동 전류를 측정하는 전류센서; 상기 전류센서로부터 측정한 전류값을 디지털 신호로 변환하는 A/D변환기; 상기 A/D변환기로부터 변환된 디지털 전류값을 이더넷(Ethernet) 통신으로 전송하도록 인터페이싱하는 통신부; 상기 통신부를 통해 전송되어온 디지털 전류값을 받아 미리 설정되어 있는 제1 및 제2 기준값과 비교하여 상기 모터의 구동 유무를 판별하는 PC; 상기 PC로부터 상기 모터의 구동유무 판별신호를 받아 상기 모터가 구동되지 않을 시 인터록신호를 발생하여 CMP공정을 중지시키는 동시에 알람출력 제어신호를 출력하는 메인콘트롤러를 포함한다.
웨이퍼 폴리싱, 폴리싱패드 연마

Abstract translation: 本发明涉及一种用于在半导体器件制造过程中轮询形成在晶片表面上的金属层时检测衬垫修整器的故障的技术。

公开(公告)号：KR1020050110717A

公开(公告)日：2005-11-23

申请号：KR1020040035058

申请日：2004-05-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김형열

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67259 ,  B24B37/04

Abstract: 본 발명은 화학적 물리적 연마 장치의 웨이퍼 스테이션에 관한 것으로, 웨이퍼가 슬립(slip)에 의해 로드락 핀에 경사지게 탑재되는 것을 방지하고, 웨이퍼 스테이션에서 웨이퍼를 센터링하기 위해서, 베이스와; 상기 베이스 위에 고정 설치되며, 탑재될 웨이퍼의 외측면보다는 안쪽에 설치된 다수개의 로드락 핀과; 상기 로드락 핀들에 탑재될 웨이퍼의 외측에 설치되며, 상기 로드락 핀들에 탑재된 웨이퍼의 외측면에 동시에 밀착되면서 상기 웨이퍼 위치를 센터링하는 가이드 핀;을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학적 물리적 연마 장치의 웨이퍼 스테이션을 제공한다. 그리고 본 발명에 따른 웨이퍼 스테이션은, 웨이퍼가 탑재되는 베이스의 중심 부분에 설치되어 웨이퍼의 탑재 여부를 감지하는 제 1 센서와, 가이드 핀에 근접하게 설치되어 가이드 핀의 이동에 따른 웨이퍼의 센터링이 정확히 이루어졌는 지의 여부를 감지하는 제 2 센서를 더 포함한다.

公开(公告)号：KR1020030072663A

公开(公告)日：2003-09-19

申请号：KR1020020011791

申请日：2002-03-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김형열

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: An apparatus for polishing a wafer is provided to be capable of stably carrying out a polishing process by preventing particles from being adsorbed and fixed at a detector sensor by installing a high pressure air supply part at a bracket. CONSTITUTION: An apparatus for polishing a wafer is provided with a polishing head and a detector sensor(30) connected to the polishing head through a bracket for sensing a wafer deviated from a retaining ring of the polishing head. At this time, the bracket includes a high temperature air supply part(50) having a nozzle(51), wherein the nozzle is located for facing a head part(31) of the detector sensor. Preferably, one end of the bracket is connected to one side of the polishing head, the detector sensor is loaded at the outer end portion of the bracket, and the air supply part is loaded at the inner portion of the bracket corresponding to the detector sensor.

Abstract translation: 目的：提供一种用于抛光晶片的装置，通过在支架上安装高压空气供应部件，能够通过防止颗粒被吸附并固定在检测器传感器上，从而稳定地进行抛光处理。 构成：用于抛光晶片的装置设置有通过支架连接到抛光头的抛光头和检测器传感器（30），用于感测从抛光头的保持环偏离的晶片。 此时，支架包括具有喷嘴（51）的高温空气供应部（50），其中喷嘴位于检测器传感器的头部（31）。 优选地，支架的一端连接到抛光头的一侧，检测器传感器被装载在支架的外端部分，并且空气供应部分被装载在对应于检测器传感器的支架的内部 。