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公开(公告)号：KR102026742B1
公开(公告)日：2019-09-30
申请号：KR1020130077295
申请日：2013-07-02
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 콥띠야에프세르게이니콜라에비치 , 리얍꼬막심블라디미로비치 , 슈체르바코프알렌산더비아체슬라보비치 , 란초프알렉세이드미트리비치
IPC: G01B11/02
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160108081A
公开(公告)日：2016-09-19
申请号：KR1020150031967
申请日：2015-03-06
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 백찬욱 , 경지수 , 리얍꼬막심블라디미로비치 , 윤영준 , 란초프알렉세이드미트리비치 , 노영근 , 이재숭
CPC classification number: A61B5/7278 , A61B5/0059 , A61B5/021 , A61B5/02416 , A61B5/14552 , A61B5/6803 , A61B5/681 , A61B5/6824 , A61B5/6898 , A61B5/72 , A61B5/7203 , A61B5/7264 , A61B5/742 , A61B2560/0475 , A61B2562/0233 , A61B5/02108 , A61B5/6801
Abstract: 혈압측정장치및 방법이개시된다. 개시된혈압측정장치는, 피검체에광을조사하고, 피검체에의한광의신호변화를검출하는센서부와, 센서부에서검출된신호로부터생체신호를획득하는신호처리부를포함한다. 중앙처리부에서는획득된생체신호로부터메모리에저장되어있는혈압추정알고리즘을이용하여혈압을산출한다.
Abstract translation: 公开了一种血压测定装置及其方法。 血压测量装置包括：传感器单元，被配置为将光照射到待检查对象，并检测待检测对象的光的信号变化; 以及信号处理单元，被配置为从从所述传感器单元检测到的信号获得生物信号。 中央处理单元通过使用从所获得的生物特征信号存储在存储器中的血压估计算法来计算血压。
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公开(公告)号：KR102207926B1
公开(公告)日：2021-01-27
申请号：KR1020140170820
申请日：2014-12-02
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 슈체르바코프알렌산더비아체슬라보비치 , 리얍꼬막심블라디미로비치 , 란초프알렉세이드미트리비치
Abstract: 나노구조체의임계치수를측정하는방법및 장치가개시된다. 개시된나노구조체의임계치수측정방법은, 광축(optical axis)을따라배치되는기준물체(reference object)의다른위치들에서상기기준물체로부터산란된광의기준세기분포들을획득하는단계, 상기기준세기분포들을이용하여기준세기분포어레이들의라이브러리를생성하는단계, 광축을따라배치되는조사대상물체의다른위치들에서복수의스펙트럼영역에대해상기조사대상물체에의해산란된광의세기분포들을결정하는단계, 상기결정된세기분포들을이용하여세기분포어레이를생성하는단계및 상기세기분포어레이와상기기준세기분포어레이들의라이브러리를비교하여상기조사대상물체의임계치수에대한정보를결정하는단계를포함한다.
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公开(公告)号：KR1020160030428A
公开(公告)日：2016-03-18
申请号：KR1020140180497
申请日：2014-12-15
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 슈체르바코프알렉산더비아체슬라보비치 , 란초프알렉세이드미트리비치
IPC: G01N21/45
CPC classification number: G01N21/45 , G01N21/453 , G01N2021/451
Abstract: 물체의하나이상의파라미터를모니터링하는모바일장치용레이저스펙클간섭계시스템과이러한시스템을이용하여물체의하나이상의파라미터를모니터링하는데적절한방법을개시한다. 개시된시스템은스펙클패턴을검출하는데이터입력부와, 보정파라미터의측정결과와, 스펙클패턴을처리한결과와물체의파라미터를연결하는하나이상의모델을저장하기위한메모리부와, 스펙클패턴의검출의최적조건을실시간으로제어함으로써검출하는스펙클패턴을안정화하고, 스펙클패턴과물체의파라미터로스펙클패턴의시간적변화를나타내는시변함수를처리하고, 하나이상의테스트된파라미터를나타내는데이터를형성하는프로세서부를포함한다.
Abstract translation: 公开了一种用于监视对象的一个或多个参数的移动设备的激光散斑干涉测量系统，以及适用于使用该系统监视对象的一个或多个参数的方法。 所公开的系统包括：检测散斑图案的数据输入部分; 用于存储连接校正参数的测量结果的一个或多个模型的存储器部分; 以及通过控制斑纹图案检测的最佳条件来稳定斑纹图案的处理部分，通过斑纹图案和对象的参数处理斑点图案的时间变化的时变功能，以及形成表示一个或多个 测试参数。
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公开(公告)号：KR1020150111817A
公开(公告)日：2015-10-06
申请号：KR1020140170820
申请日：2014-12-02
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 슈체르바코프알렌산더비아체슬라보비치 , 리얍꼬막심블라디미로비치 , 란초프알렉세이드미트리비치
Abstract: 나노구조체의임계치수를측정하는방법및 장치가개시된다. 개시된나노구조체의임계치수측정방법은, 광축(optical axis)을따라배치되는기준물체(reference object)의다른위치들에서상기기준물체로부터산란된광의기준세기분포들을획득하는단계, 상기기준세기분포들을이용하여기준세기분포어레이들의라이브러리를생성하는단계, 광축을따라배치되는조사대상물체의다른위치들에서복수의스펙트럼영역에대해상기조사대상물체에의해산란된광의세기분포들을결정하는단계, 상기결정된세기분포들을이용하여세기분포어레이를생성하는단계및 상기세기분포어레이와상기기준세기분포어레이들의라이브러리를비교하여상기조사대상물체의임계치수에대한정보를결정하는단계를포함한다.
Abstract translation: 公开了一种测量能够使用多光谱图像测量纳米结构的临界尺寸的纳米结构的临界尺寸的方法和装置。 测量纳米结构的临界尺寸的方法包括：从布置在光轴上的参考物体的其它位置获取从参考物体散射的光的参考光强分布的步骤; 使用参考强度分布生成参考强度分布阵列库的步骤; 确定被照射物体相对于在光轴上排列的待照射物体的其他位置的多个光谱域散射的光的强度分布的步骤; 使用所确定的强度分布来生成强度分布阵列的步骤; 以及通过将强度分布阵列与参考强度分布阵列的库进行比较来确定关于被照射物体的临界尺寸的信息的步骤。
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公开(公告)号：KR1020140019733A
公开(公告)日：2014-02-17
申请号：KR1020130077295
申请日：2013-07-02
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 콥띠야에프세르게이니콜라에비치 , 리얍꼬막심블라디미로비치 , 슈체르바코프알렌산더비아체슬라보비치 , 란초프알렉세이드미트리비치
CPC classification number: G01B11/02 , G01B2210/56
Abstract: Disclosed are an optical measurement system for measuring geometrical parameters of a nanoobject, and a method for measuring a critical dimension. The disclosed optical measurement system and the method for measuring a critical dimension are based on defocusing an optical image of a nanostructure while changing the wavelength of scattered radiation in order to rapidly process measurement without mechanically scanning an object being irradiated according to the focus of an illuminating optical system. The optical system includes a defocusing module which has a level dependant on the wavelength of the scattered radiation, besides other elements. In order to achieve an optimal estimation value for the critical dimension of the nanostructure, a set of defocused images which are measured by corresponding to various wavelengths of the scattered radiation is compared with a previously calculated set of images. Based on the evaluation and comparison of a focus metric curve dependant on the wavelengths, one among methods for comparing a measured set and a previously calculated set is described. [Reference numerals] (101) Module which regulates and monitors optical composition and the parameters of lighting conditions; (102) Lighting module; (103) Module which generates an optical image; (104) Module which defocuses at a defocusing level dependant on the wavelength; (105) Module which records a set of images having various defocusing levels; (106) Module which calculates a set of images having various defocusing levels; (107) Module which compares the recorded defocused images with previously calculated images; (108) User interface module; (AA) Hardware; (BB) Software
Abstract translation: 公开了一种用于测量纳米物体的几何参数的光学测量系统以及用于测量临界尺寸的方法。 所公开的光学测量系统和关键尺寸的测量方法基于在改变散射辐射的波长的同时对纳米结构的光学图像进行散焦，以便快速地处理测量，而不是根据照明的焦点机械扫描被照射的物体 光学系统。 光学系统除了其它元件之外还包括散焦模块，该散焦模块具有取决于散射辐射的波长的电平。 为了实现纳米结构的临界尺寸的最佳估计值，将与散射辐射的各种波长相对应的一组散焦图像与先前计算的图像组进行比较。 基于取决于波长的焦点度量曲线的评估和比较，描述了用于比较测量组和先前计算的集合的方法之一。 （附图标记）（101）调节并监视光学组成和照明条件参数的模块; （102）照明模块; （103）生成光学图像的模块; （104）根据波长散焦的散焦模块; （105）记录具有各种散焦水平的一组图像的模块; （106）计算具有各种散焦水平的一组图像的模块; （107）将记录的散焦图像与先前计算的图像进行比较的模块; （108）用户界面模块; （AA）硬件; （BB）软件
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