웨이퍼의 라벨링방법
    1.
    发明公开
    웨이퍼의 라벨링방법 无效
    WAFER标签方法

    公开(公告)号:KR1020000025062A

    公开(公告)日:2000-05-06

    申请号:KR1019980041982

    申请日:1998-10-08

    Inventor: 박순종 박대용

    Abstract: PURPOSE: A labeling method of a wafer removes a time loss of various cases occurred in a labeling process, and reduces a time of process for marking a lot number on a wafer. CONSTITUTION: In a photoresist process of a semiconductor, a labeling method deposits(100)a photoresist on a wafer, attaches a labeling part to a lateral part of a reduced projection lens, a light-exposing process of a photoresist and a labeling process are performed at the same time, a developing liquid of a photoresist is jetted(120) on the photoresist. Then, a pattern test is performed(130). If the pattern is normally formed, the photoresist process is terminated(140). Thereby, the labeling method removes a time loss of various cases occurred in a labeling process, and reduces a time of process for marking a lot number on a wafer.

    Abstract translation: 目的:晶片的标记方法消除了标记过程中发生的各种情况的时间损失,并减少了在晶片上标记批号的处理时间。 构成:在半导体的光刻胶工艺中,标记方法在晶片上沉积(100)光致抗蚀剂,将标记部分附着到缩小的投影透镜的侧面部分,光致抗蚀剂的曝光过程和标记过程 同时进行光致抗蚀剂的显影液体(120)的喷射。 然后,执行模式测试(130)。 如果通常形成图案,则终止光致抗蚀剂工艺(140)。 因此,标记方法消除了在标签处理中发生的各种情况的时间损失,并且减少了在晶片上标记批号的处理时间。

    메모리 테스트 시스템의 메모리 테스트 방법
    2.
    发明公开
    메모리 테스트 시스템의 메모리 테스트 방법 无效
    如何在内存测试系统中测试内存

    公开(公告)号:KR1019970023459A

    公开(公告)日:1997-05-30

    申请号:KR1019950037824

    申请日:1995-10-28

    Abstract: 본 발명은 핀 수가 많은 메모리 소자를 테스트할 수 있도록 한 메모리테스트시스템의 메모리 테스트 방법에 관한 것이다.
    본 발명에 따른 메모리테스트시스템의 메모리 테스트 방법은, 메모리 소자의 입출력 핀을 복수로 분할하고 그 분할된 바에 따라 입출력 포매트 테스트부의 포매트를 변형시킴으로써, 각 포매트에 따른 신호를 입출력 포매트 테스트로부터 입출력 핀일렉트로닉스부를 거쳐 디바이스 언더 테스트부로 인가하여 분할된 판별 테스트 동작을 수행하고, 포매트 별로 테스트한 결과를 디바이스 언더 테스트부에서 논리곱하여 테스트 결과를 출력함을 특징으로 한다.
    본 발명에 의하면, 메모리 소자를 테스트함에 있어서 기존의 메모리테스트시스템의 활용도를 증대시킬 수 있는 효과가 있다.

    테스트 설비의 릴레이 인쇄회로기판
    3.
    发明公开
    테스트 설비의 릴레이 인쇄회로기판 无效
    测试设备的继电器印刷电路板

    公开(公告)号:KR1019990054226A

    公开(公告)日:1999-07-15

    申请号:KR1019970074030

    申请日:1997-12-26

    Abstract: 본 발명은 테스트 설비에 관한 것으로, 테스트 설비에 릴레이 PCB를 설치하여 한 개의 IC에 형성된 다수개의 입출력 핀 중 소정개수의 입출력 핀만을 릴레이 PCB에 접속시키고 이들을 시분할 방식으로 테스트함으로써 한번에 많은 수의 IC를 테스트할 수 있어 테스트 비용이 절감될 수 있고 생산성이 향상될 수 있다.

    이중 포트 집적회로 소자의 번-인 검사방법
    4.
    发明公开
    이중 포트 집적회로 소자의 번-인 검사방법 无效
    双端口集成电路器件的老化测试方法

    公开(公告)号:KR1019990025828A

    公开(公告)日:1999-04-06

    申请号:KR1019970047618

    申请日:1997-09-18

    Abstract: 본 발명은 반도체 소자의 번-인 검사방법에 관한 것으로서, 복수의 메모리 셀을 갖는 RAM (Random Access Memory) 영역과, 복수의 데이터 전달 게이트를 갖는 데이터 전달 게이트 영역 및 SAM (Structure Addressed Memory) 영역을 갖는 비디오 메모리나 윈도우 메모리와 같은 이중 포트 집적회로 소자를 저가의 기존 번-인 장비를 사용하여 초기 불량을 검출하기 위하여, RAM 영역의 메모리 셀에 가해지는 전기적 스트레스와 동일한 전기적 스트레스를 데이터 전달 게이트에도 인가한다. 데이터 전달 게이트의 게이트 단자에 데이터 전달 펄스를 순차적으로 인가하면, 전달 게이트에 전기적 스트레스가 가해지며 메모리 셀에 있던 데이터가 SAM 영역으로 전달된다. 전달 게이트에 대한 전기적 스트레스의 인가는 소자를 높은 온도 분위기에서 열적 스트레스를 인가하고 RAM 영역에 전기적 스트레스를 인가한 다음에 행해진다. 따라서, 이중 포트 소자의 신뢰성을 높일 수 있고, 기존 번-인 장비의 사용 효율을 높이고 비용 절감이 가능하다.

    폐액의 자동 배출 시스템

    公开(公告)号:KR1019980021064A

    公开(公告)日:1998-06-25

    申请号:KR1019960039804

    申请日:1996-09-13

    Inventor: 이동원 박대용

    Abstract: 본 발명은 도포 장치에서 사용된 폐액을 자동으로 처리하기 위하여 폐액 배출박스에 있는 수동 밸브를 공기 밸브로 바꾸고, 이것을 제어하는 제어회로를 배출 시스템에 설치한 도포 장치 폐액의 자동 배출 시스템에 관한 것으로서, 본 발명의 구성은 배출된 폐액을 모으기 위한 폐액 배출박스와; 배출되는 폐액이 상한에 도달한 것을 감지하여 배출박스 상한 신호를 출력하는 배출박스 상한 센서와; 공기 개폐 신호를 수신하여, 흡입되는 공기의 양을 조절하는 솔레노이드 밸브와; 흡입된 공기의 압력에 의해, 폐액의 배출을 개폐하는 공기 밸브와; 공기 밸브의 개폐에 의해 폐액 배출박스로부터 배출된 폐액을 충전하는 폐액통과; 폐액통의 설치 유무를 감지하여 폐액통 감지 신호를 출력하는 폐액통 감지 센서와; 폐액통이 충만 되었는지를 감지하는 폐액통 상한 센서와; 폐액통 상한 센서의 출력과 연결되고, 폐액 배출박스의 수위가 일정 수위 이하일 경우에만 배출박스 하한 신호를 출력하는 배출박스 하한 센서와; 배출박스 상한 센서, 폐액통 감지 센서, 배출박스 하한 센서의 출력을 수신하여, 공기 개폐 신호를 출력하고, 제1램프로 자동 배출중인 것을 표시하며, 제2램프로 폐액통 교환 표시를 하는 제어회로로 이루어지고, 본 발명의 효과는 폐액통이 과다 충전되는 것을 방지하여 장비 라인이 멈추는 것을 막고, 생산 라인의 환경을 개선할 수 있다.

    폐액의 자동 배출 시스템
    6.
    发明授权
    폐액의 자동 배출 시스템 失效
    废液自动排放系统

    公开(公告)号:KR100194688B1

    公开(公告)日:1999-06-15

    申请号:KR1019960039804

    申请日:1996-09-13

    Inventor: 이동원 박대용

    Abstract: 본 발명은 도포 장치에서 사용된 폐액을 자동으로 처리하기 위하여 폐액 배출박스에 있는 수동 밸브를 공기 밸브로 바꾸고, 이것을 제어하는 제어회로를 배출 시스템에 설치한 도포 장치 폐액의 자동 배출 시스템에 관한 것으로서, 본 발명의 구성은 배출된 폐액을 모으기 위한 폐액 배출박스와; 배출되는 폐액이 상한에 도달한 것을 감지하여 배출박스 상한 신호를 출력하는 배출박스 상한 센서와; 공기 개폐 신호를 수신하여, 흡입되는 공기의 양을 조절하는 솔레노이드 밸브와; 흡입된 공기의 압력에 의해, 폐액의 배출을 개폐하는 공기 밸브와; 공기 밸브의 개폐에 의해 폐액 배출박스로부터 배출된 폐액을 충전하는 폐액통과; 폐액통의 설치 유무를 감지하여 폐액통 감지 신호를 출력하는 폐액통 감지 센서와; 폐액통이 충만 되었는지를 감지하는 폐액통 상한 센서와; 폐액통 상한 센서의 출력과 연결되고, 폐액 배출박스의 수위가 일정 수위 이하일 경우에만 배출박스 하한 신호를 출력하는 배출박스 하한 센서와; 배출박스 상한 센서, 폐액통 감지 센서, 배출박스 하한 센서의 출력을 수신하여, 공기 개폐 신호를 출력하고, 제1램프로 자동 배출중인 것을 표시하며, 제2램프로 폐액통 교환 표시를 하는 제어회로로 이루어지고, 본 발명의 효과는 폐액통이 과다 충전되는 것을 방지하여 장비 라인이 멈추는 것을 막고, 생산 라인의 환경을 개선할 수 있다.

    현상 장비에서의 약품 공급 장치
    7.
    发明公开
    현상 장비에서의 약품 공급 장치 无效
    显影装置中的药物供给装置

    公开(公告)号:KR1019970016831A

    公开(公告)日:1997-04-28

    申请号:KR1019950030122

    申请日:1995-09-14

    Inventor: 박대용

    Abstract: 본 발명은 현상 장비에서의 약품 공급 장치에 관한 것으로, 반도체 제조 공정에 있어서 웨이퍼 (Wafer)에 감광액(Photoresist)을 현상하기 위해 필요한 약품을 약품 저장 탱크에 자동으로 충전하고 각 트랙에 공급하는 기능을 가지며, 각종 자동 밸브 및 센서가 장착된 약품 저장 탱크등으로 구성된 약품 공급 상자와, 약품 충전과 공급을 자동으로 하기 위하여 상기 약품 공급 상자 내에 있는 각종 자동 밸브를 제어하도록 설계된 밸브 제어 회로로 구성되었으며, 웨이퍼(Wafer)에 감광액(Photoresist)을 현상하기 위해 필요한 약품을 약품 저장 탱크에 자동으로 충전하고 각 트택에 공급해줌으로써, 종래 작업자의 실수에 의한 약품 누출과 약품 충전 작업 시간을 없애고 장비의 다운(Down) 시간과 인력 낭비를 막도록 한 현상 장비에서의 약품 공급 장치에 관한 것이다.

    반도체소자 제조용 린스장치
    8.
    发明公开
    반도체소자 제조용 린스장치 无效
    用于制造半导体器件的冲压装置

    公开(公告)号:KR1020010075992A

    公开(公告)日:2001-08-11

    申请号:KR1020000003223

    申请日:2000-01-24

    Inventor: 최덕규 박대용

    Abstract: PURPOSE: A rinsing apparatus for manufacturing a semiconductor device is provided to prevent a fail in rinsing by spraying a thinner on the target after moving up/down an upper nozzle. CONSTITUTION: The rinsing apparatus for manufacturing the semiconductor device includes a nozzle(24), a nozzle transfer member(42) and a thinner provider. The nozzle includes upper and lower outlets which diffuse thinner on front and rear surface of edge of semiconductor substrate on which a photoresist is formed to rinse the semiconductor substrate. The nozzle transfer member translates the nozzle in the inward direction and outward direction of the semiconductor substrate. The thinner provider supplies the thinner to the nozzle. The nozzle transfer member further includes a cylinder which is coupled with the nozzle and a driver which drives the cylinder. The thinner provide member includes a thinner tank which emits thinner at a predetermined pressure, a supply line which couples the thinner tank and the nozzle and the valve which is implemented on the supply line.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于制造半导体器件的冲洗装置,以防止在向上/向下移动上喷嘴之后在目标上喷洒稀释剂而使冲洗失败。 构成:用于制造半导体器件的冲洗装置包括喷嘴(24),喷嘴传送部件(42)和更薄的供应器。 喷嘴包括在其上形成有光致抗蚀剂的半导体衬底的边缘的前表面和后表面上较薄地扩散的上部和下部出口以冲洗半导体衬底。 喷嘴传送构件使喷嘴沿半导体衬底的向内和向外的方向平移。 更薄的供应商为喷嘴提供更薄的。 喷嘴传送构件还包括与喷嘴连接的气缸和驱动气缸的驱动器。 更薄的提供构件包括在预定压力下发射更薄的更薄的罐,连接更薄的罐和喷嘴的供应管线和在供应管线上实现的阀。

    베이크 장치
    9.
    发明公开
    베이크 장치 无效
    包装设备

    公开(公告)号:KR1020000019347A

    公开(公告)日:2000-04-06

    申请号:KR1019980037383

    申请日:1998-09-10

    Abstract: PURPOSE: A bake apparatus is provided to improve a uniformity of the baking temperature being transport to a wafer by preventing a slide of the wafer. CONSTITUTION: A bake apparatus comprises a chamber(22) for blocking thermal emitting from outsides having a door(30) for moving a wafer(20) and a cover(32) for controlling inter temperature, a driving unit(24) formed in the chamber(22) for holding and rotating the wafer(20), and a heating plate(28) for baking a photoresist film formed on the wafer(20). The driving unit(24) further includes a supporter(34) for supporting the wafer(20), a motor(36) for rotating the supporter(34), and a cylinder(38) connected to the motor(36).

    Abstract translation: 目的:提供一种烘烤装置,以通过防止晶片的滑动来改善传送到晶片的烘烤温度的均匀性。 构成:烘烤装置包括用于阻挡从具有用于移动晶片(20)的门(30)和用于控制中间温度的盖(32))的外部发热的室(22),形成在所述驱动单元 用于保持和旋转晶片(20)的腔室(22);以及用于烘焙形成在晶片(20)上的光致抗蚀剂膜的加热板(28)。 驱动单元(24)还包括用于支撑晶片(20)的支撑件(34),用于旋转支撑件(34)的马达(36)和连接到马达(36)的气缸(38)。

    도포 불량 방지를 위한 도포 장치의 제어 회로
    10.
    发明公开
    도포 불량 방지를 위한 도포 장치의 제어 회로 无效
    用于防止涂层失效的涂层装置的控制电路

    公开(公告)号:KR1019980026050A

    公开(公告)日:1998-07-15

    申请号:KR1019960044374

    申请日:1996-10-07

    Inventor: 이봉철 박대용

    Abstract: 이 발명은 도포 장치의 제어 회로에 관한 것으로서,
    이 발명에 따른 도포 장치의 제어 회로는 코팅 아암이 홈 위치에서 도포 위치로 움직이면서 미리 설정된 시간이 경과한 경우에는 상기 아암이 이동하는 동안 감광액 또는 감광액 및 노멀 부틸 아세테이트의 분사가 이루어지도록 제어함으로써 아암에 잔류하는 감광액에 의한 도포 불량을 방지하기 위한 것이다.

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