公开(公告)号：KR100763332B1

公开(公告)日：2007-10-04

申请号：KR1020060015335

申请日：2006-02-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최덕규

IPC: H01L21/304

CPC classification number: G03F7/3021 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715

Abstract: 본 발명은 나이프에지링 및 이를 갖는 반도체 현상설비, 반도체 현상설비의 웨이퍼 저면 세정방법을 제공한다. 상기 나이프에지링은 내측벽과 외측벽이 형성되며, 일정 폭의 상면이 형성되고, 상기 외측벽에 다단의 경사부가 형성되는 몸체 및 상기 몸체를 관통하며, 흡입구가 상기 경사부에 위치하는 복수개의 배출홀을 구비한다. 또한, 본 발명은 상기 나이프에지링을 갖는 반도체 현상설비를 제공한다. 그리고, 상기 반도체 현상설비의 웨이퍼 저면 세정방법은 웨이퍼의 상면에 현상액을 공급하고, 상기 웨이퍼의 저면부에 세정액을 분사하며, 이어, 상기 웨이퍼의 에지부 저면부에 잔류되는 상기 현상액과 상기 세정액을 상기 웨이퍼의 저면과 인접되어 배치되는 나이프에지링의 외측벽에 형성된 경사부를 통해 가이드하여 상기 경사부에 형성된 복수개의 배출홀로 유입시켜 외부로 배출시킨다.

公开(公告)号：KR1020050109099A

公开(公告)日：2005-11-17

申请号：KR1020040033847

申请日：2004-05-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최덕규

IPC: H01L21/32

CPC classification number: G03F7/162 ,  H01L21/6715

Abstract: 본 발명은 반도체용 스핀 코터의 보울에 관한 것으로, 유지보수 작업 시 보울의 조립 불량으로 인해 스핀 코팅 공정에서 보울의 조립 상태가 틀어지는 것을 억제하기 위해서, 하부 컵 위에 상부 컵을 탑재한 이후에 하부 컵과 상부 컵을 결합할 수 있는 탈착기가 하부 컵과 상부 컵의 경계에 다수개가 설치된 반도체용 스핀 코터의 보울을 제공한다. 그리고 본 발명에 따른 보울은 하부 컵과 상부 컵의 경계에 설치되어 하부 컵에서 하부 컵이 이탈하는 지의 여부를 감지하는 센서를 더 포함한다.

公开(公告)号：KR1020040070498A

公开(公告)日：2004-08-11

申请号：KR1020030006578

申请日：2003-02-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 서용원 ,  최덕규

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A DI water supply apparatus for semiconductor fabrication equipment is provided to refill easily constant temperature water and reduce the downtime of the semiconductor fabrication equipment by using constant temperature water of a buffer tank in a cleaning mode. CONSTITUTION: A buffer tank(120) is used for storing constant temperature water of a constant temperature water supply unit(110) through a constant temperature water tube. A temperature controller unit(130) receives the constant temperature water from the buffer tank. The temperature of the constant temperature water is controlled by the temperature controller unit. A supply line is used for supplying the temperature-controlled constant temperature water to the semiconductor fabrication equipment. A control unit supplies the constant temperature water to the temperature controller unit through the constant temperature water tube and the buffer in a normal mode. In addition, the control unit supplies the constant temperature water of the buffer tank to the temperature control unit in a cleaning mode.

Abstract translation: 目的：提供一种用于半导体制造设备的自来水供应装置，以清洁模式使用缓冲罐的恒温水来重新填充容易恒温的水并减少半导体制造设备的停机时间。 构成：缓冲罐（120）用于通过恒温水管储存恒温供水单元（110）的恒温水。 温度控制器单元（130）从缓冲罐接收恒温水。 恒温水的温度由温度控制器控制。 供应管线用于向半导体制造设备供应温度控制的恒温水。 控制单元通过恒温水管和缓冲器以恒定模式将恒温水供应到温度控制器单元。 此外，控制单元以清洁模式将缓冲罐的恒温水供给温度控制单元。

公开(公告)号：KR1020020091664A

公开(公告)日：2002-12-06

申请号：KR1020010030530

申请日：2001-05-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최덕규 ,  엄호성

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A coating apparatus used for semiconductor fabrication is provided to increase productivity of a semiconductor device by reducing the exchange number of a bowl portion for preventing a stacking phenomenon of particles. CONSTITUTION: A chuck portion(200) supports and rotates a wafer(100). The chuck portion is induced into a bowl portion(300). An injection portion is induced to an upper portion of the chuck portion(200). A drain hole(400) is formed at a bottom of the bowl portion(300) in order to drain photoresist. An isolation portion(600) is formed at the bottom of the bowl portion(300) in order to drain smoothly the photoresist. A drain path is formed on the bottom of the bowl portion(300). An inner cup portion(700) is installed in the inside of the bowl portion(300). An outer cup portion(800) is installed at an upper end of a sidewall of the bowl portion(300). An exhaust hole is installed at the bottom of the bowl portion(300). A cleaning injection portion(900) removes particles from a back face of the inner cup portion(700) or the bottom of the bowl portion(300) by injecting a cleaning solution.

Abstract translation: 目的：提供用于半导体制造的涂布装置，通过减少用于防止颗粒堆积现象的碗部分的交换数来提高半导体装置的生产率。 构成：卡盘部分（200）支撑并旋转晶片（100）。 卡盘部分被诱导成碗部分（300）。 注入部分被引导到卡盘部分（200）的上部。 为了排出光致抗蚀剂，在碗部（300）的底部形成排水孔（400）。 在碗部（300）的底部形成有隔离部（600），以平滑地排出光致抗蚀剂。 排水路径形成在碗部（300）的底部。 内杯部（700）安装在碗部（300）的内部。 外杯部（800）安装在碗部（300）的侧壁的上端。 排气孔安装在碗部（300）的底部。 清洁注入部（900）通过注入清洗液从内杯部（700）的背面或碗部（300）的底部去除粒子。

公开(公告)号：KR1020000025063A

公开(公告)日：2000-05-06

申请号：KR1019980041983

申请日：1998-10-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최덕규 ,  시석기

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: An apparatus for transporting a wafer in semiconductor photo process is provided to enable the work to be performed in an appropriate position during baking and reduces the flow of the wafer although a cylinder is deteriorated. CONSTITUTION: An apparatus for transporting a wafter in semiconductor photo process prevents the flow of a wafer(WF). The apparatus comprises: a hollow part(28) to which a wire can be inserted; a number of guides(26) having a sloped plane(26c) on which the edge of the wafer can ride down. A thin film profile patterned on the wafer by hardening a photoresist uniformly can be obtained. The guide is fabricated with a ceramic and has a heat resistance as to the heat ranging from about 100 to 500 deg.C.

Abstract translation: 目的：提供一种用于在半导体照相工艺中传输晶片的设备，以使得能够在烘烤期间在适当的位置进行工作，并且尽管圆筒劣化而减小了晶片的流动。 构成：用于在半导体照相工艺中传输散片的装置防止晶片（WF）的流动。 该装置包括：可插入导线的中空部分（28）; 具有倾斜平面（26c）的多个引导件（26），其上晶片的边缘可以在其上行驶。 可以获得通过均匀地硬化光致抗蚀剂而在晶片上图案化的薄膜轮廓。 引导件用陶瓷制成，并具有约100至500摄氏度的热量的耐热性。

公开(公告)号：KR1019990065267A

公开(公告)日：1999-08-05

申请号：KR1019980000482

申请日：1998-01-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박순종 ,  최덕규 ,  김선옥

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 웨이퍼를 이동시키는 이동수단으로 사용되는 반도체장치 제조용 튀저에 관한 것이다.
본 발명은, 진공에 의해서 웨이퍼를 흡착할 수 있는 팁과 상기 팁과 연결되어 진공라인을 통해서 공급되는 진공을 상기 팁에 공급하는 몸체와 상기 진공을 단속할 수 있는 손잡이가 상기 몸체 일측에 구비되는 반도체장치 제조용 튀저에 있어서, 상기 팁은 상기 웨이퍼 표면을 확대할 수 있는 투명재질로 형성되고, 상기 팁의 진공의 유무를 확인할 수 있는 진공확인수단이 구비됨을 특징으로 한다.
따라서, 작업자가 팁 하부의 웨이퍼 표면의 스크래치, 파티클의 존재유무 등을 용이하게 육안으로 확인할 수 있고, 여러 가지 원인에 의해서 튀저의 진공라인에 의해서 리크가 발생되는 것을 확인할 수 있으므로 웨이퍼를 이동하는 과정에 웨이퍼가 깨지는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019980066026A

公开(公告)日：1998-10-15

申请号：KR1019970001328

申请日：1997-01-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최덕규 ,  한승교 ,  홍석종

IPC: G06T1/00

Abstract: 본 발명은 용기에 바코드를 부착시켜서 이를 광학적으로 인식함으로써 케미컬을 수용한 용기의 교체가 정확한 지 확인하는 반도체 제조용 케미컬 공급 장치, 그리고 이에 적용되는 케미컬과 그의 수용용기 관리 방법 및 케미컬인 포토레지스트, 제조회사 및 교체현황 등과 같은 데이터를 데이터베이스에 저장한 후 통합적인 관리 기능을 수행하는 컴퓨터를 이용한 포토레지스트 및 그에 연관된 데이터 관리 방법에 관한 것으로서, 용기의 바코드를 광학적으로 스캐닝하여 교체되는 용기가 올바른 것인지 판단하도록 구성되어 있으며, 데이터베이스부에 저장되는 데이터를 효율적으로 관리하기 위한 다양한 모드를 지원하도록 구성되어 있다.
따라서, 케미컬 교체 에러로 인한 공정불량의 발생이 방지되어 생산성 및 수율이 극대화되고, 포토레지스트와 같은 케미컬의 교체관리가 자동으로 이루어지므로 작업성이 향상되며, 시스템의 다기능화 및 데이터의 통합관리 및 통계적관리가 수행되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020070082450A

公开(公告)日：2007-08-21

申请号：KR1020060015335

申请日：2006-02-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최덕규

IPC: H01L21/304

CPC classification number: G03F7/3021 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715

Abstract: A knife edge ring, semiconductor developing equipment having the same, and a method for cleaning a wafer bottom in the semiconductor developing equipment are provided to prevent a bad pattern from being formed on an upper surface of a wafer edge in a baking process. A body(110) has an inner side wall, an outer side wall, and a top surface having a width, in which a multi-stage inclined portion(113) is formed on the outer side wall. Plural discharge holes(111) penetrate the body, and each of the discharge holes has an inlet positioned along the inclined portion. The inlet has a cross section area larger than that of the discharge hole. A bottom surface of the body is positioned at an obtuse angle to an inclined portion.

Abstract translation: 提供了一种刀刃环，具有该刀刃环的半导体显影设备和用于在半导体显影设备中清洁晶片底部的方法，以防止在烘烤过程中在晶片边缘的上表面上形成不良图案。 本体（110）具有内侧壁，外侧壁和具有宽度的顶面，多侧倾斜部（113）形成在外侧壁上。 多个排放孔（111）穿透主体，并且每个排出孔具有沿着倾斜部分定位的入口。 入口的横截面积大于排放孔的横截面面积。 主体的底表面与倾斜部分成钝角。

公开(公告)号：KR1020070021802A

公开(公告)日：2007-02-23

申请号：KR1020050076436

申请日：2005-08-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김수환 ,  최덕규

IPC: H01L21/68 ,  B65G43/00

CPC classification number: H01L21/67742 ,  B25J11/0095 ,  B25J19/021 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/141

Abstract: 웨이퍼 이송용 로봇암을 제공한다. 상기 웨이퍼 이송용 로봇암은 외부로부터 동력을 제공받아 구동하며, 웨이퍼가 안착되는 안착부가 마련된 몸체 및 상기 웨이퍼의 안착상태를 감지하여, 상기 몸체의 구동을 제어하는 웨이퍼 안착 모니터링부를 구비한다.

公开(公告)号：KR1020050023169A

公开(公告)日：2005-03-09

申请号：KR1020030059640

申请日：2003-08-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조영준 ,  최덕규

IPC: H01L23/42

Abstract: PURPOSE: A temperature humidity controller is provided to sense short circuit or disconnection in case of a trouble using a detector such as a current detector. CONSTITUTION: A temperature humidity controller includes a detector and a display device. The detector is installed for detecting whether a line supplying energy to a thermoelectric refrigerating device is short-circuited or disconnected. A short-circuit or disconnection state of the line detected by the detector is displayed to the outside by the display device. The detector is further installed for detecting whether a line supplying energy to a heater is short-circuited or disconnected.

Abstract translation: 目的：提供温度湿度控制器，以便在使用诸如电流检测器的检测器出现故障的情况下感测短路或断开。 构成：温湿度控制器包括检测器和显示装置。 检测器被安装用于检测向热电冷冻装置供应能量的管线是短路还是断开。 由检测器检测到的线的短路或断开状态由显示装置显示到外部。 进一步安装检测器，用于检测向加热器供电的线路是短路还是断开。