公开(公告)号：KR1020080044486A

公开(公告)日：2008-05-21

申请号：KR1020060113404

申请日：2006-11-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정재흥 ,  김정민 ,  김순오 ,  박양렬 ,  조계현

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/677 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67265 ,  G05B19/402 ,  G05B2219/37608 ,  G05B2219/40562 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/681

Abstract: An automatic teaching system of a buffer unit in semiconductor manufacturing equipment, and an automatic teaching method are provided to teach a wafer transfer robot when a position of the wafer transfer robot is shifted by using wafer sensors, thereby effectively operating the equipment without causing the system down. An automatic teaching system comprises a wafer stage unit, a wafer sensor unit(42), a sensor value display unit, a transfer robot teaching program input unit, a teaching control unit, and a wafer transfer robot. The wafer stage unit is configured to place a wafer(10) thereon. The wafer sensor unit comprising a plurality of sensors senses a dislocation of the wafer on the wafer stage unit. The sensor value display unit displays a degree of dislocation sensed by the wafer sensor unit. The transfer robot teaching program input unit inputs the value displayed on the sensor value display unit. The teaching control unit controls teaching of the wafer transfer unit according to the value received from the transfer robot teaching program input unit. The wafer transfer robot is taught by the teaching control unit.

Abstract translation: 提供了一种半导体制造设备中的缓冲单元的自动教学系统和自动教学方法，用于通过使用晶片传感器移动晶片传送机器人的位置来教导晶片传送机器人，从而有效地操作设备而不引起系统 下。 一种自动教学系统，包括晶片台单元，晶片传感器单元（42），传感器值显示单元，传送机器人教学程序输入单元，教学控制单元和晶片传送机器人。 晶片台单元配置成在其上放置晶片（10）。 包括多个传感器的晶片传感器单元感测晶片台单元上的晶片的位错。 传感器值显示单元显示由晶片传感器单元感测到的位错程度。 传送机器人教学程序输入单元输入显示在传感器值显示单元上的值。 教学控制单元根据从传送机器人教学程序输入单元接收到的值控制晶片传送单元的教导。 晶片传送机器人由教学控制单元教导。

公开(公告)号：KR1020080043456A

公开(公告)日：2008-05-19

申请号：KR1020060112036

申请日：2006-11-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김순오 ,  박양렬 ,  이승건 ,  정재흥 ,  조계현

IPC: H01L21/02

Abstract: A wafer keeping apparatus of semiconductor device manufacturing equipment is provided to protect a FOUP(Front Opening Unified Pod) by lifting or lowering a shutter, and to prevent a collision between a wafer and a robot. A wafer keeping apparatus of semiconductor device manufacturing equipment comprises an FOUP(Front Opening Unified Pod)(104), a load port(100), and a shutter unit(108). The FOUP is configured to hold wafers to be processed. The load port comprises a plate(102) to allow the FOUP to be located thereon. The shutter unit, driven by a motor, moves up and down to reach the opposite sides of the FOUP located on the plate.

Abstract translation: 提供半导体器件制造设备的晶片保存装置，通过提升或降低快门来保护FOUP（前开口统一荚），并防止晶片与机器人之间的碰撞。 半导体器件制造设备的晶片保存装置包括FOUP（前开口统一荚）（104），负载端口（100）和快门单元（108）。 FOUP被配置为保持要处理的晶片。 装载口包括一个允许FOUP位于其上的板（102）。 由电动机驱动的快门单元上下移动以到达位于板上的FOUP的相对侧。

公开(公告)号：KR100678472B1

公开(公告)日：2007-02-02

申请号：KR1020050006868

申请日：2005-01-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이종재 ,  이승건 ,  이만영 ,  정재흥 ,  박양렬 ,  백균탁 ,  최성국

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67313 ,  H01L21/67034

Abstract: 개시된 웨이퍼 건조장치용 웨이퍼 가이드 및 이를 갖는 반도체 웨이퍼 건조장치에 관한 것으로서 웨이퍼 건조장치용 웨이퍼 가이드는 몸체와 몸체에 마련되는 복수개의 지지대와 지지대에 형성되어 웨이퍼를 지지하는 홈부가 마련된 복수개의 지지돌기와 홈부에서 지지대 외부를 관통하여 홈부의 세정액을 배출시키는 배출홀을 구비함으로써, 이와 같은 웨이퍼 가이드를 채용한 반도체 웨이퍼 건조장치를 통해 웨이퍼 세정시 탈이온수등의 세정액이 홈부에 정체되지 않고 배출홀을 통해 용이하게 배출되도록 하여 웨이퍼를 효율적으로 건조시킬 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020060086053A

公开(公告)日：2006-07-31

申请号：KR1020050006868

申请日：2005-01-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이종재 ,  이승건 ,  이만영 ,  정재흥 ,  박양렬 ,  백균탁 ,  최성국

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67313 ,  H01L21/67034

Abstract: 개시된 웨이퍼 건조장치용 웨이퍼 가이드 및 이를 갖는 반도체 웨이퍼 건조장치에 관한 것으로서 웨이퍼 건조장치용 웨이퍼 가이드는 몸체와 몸체에 마련되는 복수개의 지지대와 지지대에 형성되어 웨이퍼를 지지하는 홈부가 마련된 복수개의 지지돌기와 홈부에서 지지대 외부를 관통하여 홈부의 세정액을 배출시키는 배출홀을 구비함으로써, 이와 같은 웨이퍼 가이드를 채용한 반도체 웨이퍼 건조장치를 통해 웨이퍼 세정시 탈이온수등의 세정액이 홈부에 정체되지 않고 배출홀을 통해 용이하게 배출되도록 하여 웨이퍼를 효율적으로 건조시킬 수 있는 효과가 있다.