公开(公告)号：KR1020080044486A

公开(公告)日：2008-05-21

申请号：KR1020060113404

申请日：2006-11-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정재흥 ,  김정민 ,  김순오 ,  박양렬 ,  조계현

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/677 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67265 ,  G05B19/402 ,  G05B2219/37608 ,  G05B2219/40562 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/681

Abstract: An automatic teaching system of a buffer unit in semiconductor manufacturing equipment, and an automatic teaching method are provided to teach a wafer transfer robot when a position of the wafer transfer robot is shifted by using wafer sensors, thereby effectively operating the equipment without causing the system down. An automatic teaching system comprises a wafer stage unit, a wafer sensor unit(42), a sensor value display unit, a transfer robot teaching program input unit, a teaching control unit, and a wafer transfer robot. The wafer stage unit is configured to place a wafer(10) thereon. The wafer sensor unit comprising a plurality of sensors senses a dislocation of the wafer on the wafer stage unit. The sensor value display unit displays a degree of dislocation sensed by the wafer sensor unit. The transfer robot teaching program input unit inputs the value displayed on the sensor value display unit. The teaching control unit controls teaching of the wafer transfer unit according to the value received from the transfer robot teaching program input unit. The wafer transfer robot is taught by the teaching control unit.

Abstract translation: 提供了一种半导体制造设备中的缓冲单元的自动教学系统和自动教学方法，用于通过使用晶片传感器移动晶片传送机器人的位置来教导晶片传送机器人，从而有效地操作设备而不引起系统 下。 一种自动教学系统，包括晶片台单元，晶片传感器单元（42），传感器值显示单元，传送机器人教学程序输入单元，教学控制单元和晶片传送机器人。 晶片台单元配置成在其上放置晶片（10）。 包括多个传感器的晶片传感器单元感测晶片台单元上的晶片的位错。 传感器值显示单元显示由晶片传感器单元感测到的位错程度。 传送机器人教学程序输入单元输入显示在传感器值显示单元上的值。 教学控制单元根据从传送机器人教学程序输入单元接收到的值控制晶片传送单元的教导。 晶片传送机器人由教学控制单元教导。

公开(公告)号：KR1020050076118A

公开(公告)日：2005-07-26

申请号：KR1020040003930

申请日：2004-01-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정재흥 ,  이만영 ,  최성국

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67742 ,  B25J11/0095 ,  B25J19/021 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/141

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 이송 로봇 및 이를 이용한 반도체 제조 설비에 관한 것으로, 본 발명의 웨이퍼 이송 로봇은, 웨이퍼 측면을 홀딩하여 웨이퍼 장착 위치를 고정시키는 홀딩 각도가 큰 웨이퍼 가이드를 가지며, 상기 웨이퍼 가이드는 웨이퍼 끝단 측면을 감지하는 센서를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 반도체 제조 설비는, 상기 설비로 웨이퍼를 제공하는 로더 포트부와; 상기 로더 포트부로부터 제공된 웨이퍼를 이송하는 웨이퍼 이송 로봇을 가지는 인덱스부와; 상기 인덱스부로부터 이송된 웨이퍼를 회전시켜 세정하는 스핀부와; 상기 스핀부에서 세정된 웨이퍼를 가열하고 냉각시키는 베이크부를 포함하며, 상기 웨이퍼 이송 로봇은, 웨이퍼가 놓여지는 블레이드와; 상기 블레이드와 결합되어 상기 블레이드를 이동시키는 아암과; 상기 블레이드에 놓여지는 웨이퍼의 측면을 각각 홀딩하는 2개의 가이드 부재를 가지는 웨이퍼 가이드와; 상기 웨이퍼 가이드에 일체형으로 결합되어 상기 2개의 가이드 부재 사이에 위치하는 웨이퍼의 끝단 측면을 감지하는 발광부와 수광부로 이루어진 센서를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 정위치에서 약간이라도 벗어난 웨이퍼의 안착 상태를 정확히 감지할 수 있고 웨이퍼를 안정적으로 장착할 수 있어 웨이퍼 파손 위험이 줄어든다.

公开(公告)号：KR1020080043456A

公开(公告)日：2008-05-19

申请号：KR1020060112036

申请日：2006-11-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김순오 ,  박양렬 ,  이승건 ,  정재흥 ,  조계현

IPC: H01L21/02

Abstract: A wafer keeping apparatus of semiconductor device manufacturing equipment is provided to protect a FOUP(Front Opening Unified Pod) by lifting or lowering a shutter, and to prevent a collision between a wafer and a robot. A wafer keeping apparatus of semiconductor device manufacturing equipment comprises an FOUP(Front Opening Unified Pod)(104), a load port(100), and a shutter unit(108). The FOUP is configured to hold wafers to be processed. The load port comprises a plate(102) to allow the FOUP to be located thereon. The shutter unit, driven by a motor, moves up and down to reach the opposite sides of the FOUP located on the plate.

Abstract translation: 提供半导体器件制造设备的晶片保存装置，通过提升或降低快门来保护FOUP（前开口统一荚），并防止晶片与机器人之间的碰撞。 半导体器件制造设备的晶片保存装置包括FOUP（前开口统一荚）（104），负载端口（100）和快门单元（108）。 FOUP被配置为保持要处理的晶片。 装载口包括一个允许FOUP位于其上的板（102）。 由电动机驱动的快门单元上下移动以到达位于板上的FOUP的相对侧。

公开(公告)号：KR100583728B1

公开(公告)日：2006-05-25

申请号：KR1020040003930

申请日：2004-01-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정재흥 ,  이만영 ,  최성국

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 이송 로봇 및 이를 이용한 반도체 제조 설비에 관한 것으로, 본 발명의 웨이퍼 이송 로봇은, 웨이퍼 측면을 홀딩하여 웨이퍼 장착 위치를 고정시키는 홀딩 각도가 큰 웨이퍼 가이드를 가지며, 상기 웨이퍼 가이드는 웨이퍼 끝단 측면을 감지하는 센서를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 반도체 제조 설비는, 상기 설비로 웨이퍼를 제공하는 로더 포트부와; 상기 로더 포트부로부터 제공된 웨이퍼를 이송하는 웨이퍼 이송 로봇을 가지는 인덱스부와; 상기 인덱스부로부터 이송된 웨이퍼를 회전시켜 세정하는 스핀부와; 상기 스핀부에서 세정된 웨이퍼를 가열하고 냉각시키는 베이크부를 포함하며, 상기 웨이퍼 이송 로봇은, 웨이퍼가 놓여지는 블레이드와; 상기 블레이드와 결합되어 상기 블레이드를 이동시키는 아암과; 상기 블레이드에 놓여지는 웨이퍼의 측면을 각각 홀딩하는 2개의 가이드 부재를 가지는 웨이퍼 가이드와; 상기 웨이퍼 가이드에 일체형으로 결합되어 상기 2개의 가이드 부재 사이에 위치하는 웨이퍼의 끝단 측면을 감지하는 발광부와 수광부로 이루어진 센서를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 정위치에서 약간이라도 벗어난 웨이퍼의 안착 상태를 정확히 감지할 수 있고 웨이퍼를 안정적으로 장착할 수 있어 웨이퍼 파손 위험이 줄어든다.

公开(公告)号：KR1020070080513A

公开(公告)日：2007-08-10

申请号：KR1020060011877

申请日：2006-02-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정재흥 ,  최영철 ,  박연수 ,  송주헌 ,  조민수

IPC: H01L21/02

Abstract: An FOUP(Front Opening Unified Pod) opener is provided to improve the preciseness of door opening/closing processes by driving an opening/closing member using a gear and chain type mechanism. An FOUP opener includes an opening/closing member(110) connected with a door, a transfer screw(124) for moving the opening/closing member, and a driving unit. The driving unit(130) drives the transfer screw. The driving unit is composed of a motor(132), a first gear(134a) rotated by the motor, a second gear, and a chain. The second gear(134b) is connected with the transfer screw. The second gear rotates the transfer screw by using the torque of the first gear. The chain(136) enclose the first and the second gears in order to transfer the torque of the first gear to the second gear.

Abstract translation: 提供了一种FOUP（前开式统一荚）开启装置，通过使用齿轮和链式机构驱动开/关构件来提高门打开/关闭过程的精确度。 FOUP开启器包括与门连接的打开/关闭构件（110），用于移动打开/关闭构件的转印螺钉（124）和驱动单元。 驱动单元（130）驱动转移螺钉。 驱动单元由马达（132），由马达旋转的第一齿轮（134a），第二齿轮和链条构成。 第二齿轮（134b）与转印螺杆连接。 第二齿轮通过使用第一档的扭矩来旋转传递螺杆。 链条（136）围绕第一和第二齿轮，以将第一档位的转矩传递到第二档位。

公开(公告)号：KR100678472B1

公开(公告)日：2007-02-02

申请号：KR1020050006868

申请日：2005-01-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이종재 ,  이승건 ,  이만영 ,  정재흥 ,  박양렬 ,  백균탁 ,  최성국

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67313 ,  H01L21/67034

Abstract: 개시된 웨이퍼 건조장치용 웨이퍼 가이드 및 이를 갖는 반도체 웨이퍼 건조장치에 관한 것으로서 웨이퍼 건조장치용 웨이퍼 가이드는 몸체와 몸체에 마련되는 복수개의 지지대와 지지대에 형성되어 웨이퍼를 지지하는 홈부가 마련된 복수개의 지지돌기와 홈부에서 지지대 외부를 관통하여 홈부의 세정액을 배출시키는 배출홀을 구비함으로써, 이와 같은 웨이퍼 가이드를 채용한 반도체 웨이퍼 건조장치를 통해 웨이퍼 세정시 탈이온수등의 세정액이 홈부에 정체되지 않고 배출홀을 통해 용이하게 배출되도록 하여 웨이퍼를 효율적으로 건조시킬 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020060086053A

公开(公告)日：2006-07-31

申请号：KR1020050006868

申请日：2005-01-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이종재 ,  이승건 ,  이만영 ,  정재흥 ,  박양렬 ,  백균탁 ,  최성국

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67313 ,  H01L21/67034

Abstract: 개시된 웨이퍼 건조장치용 웨이퍼 가이드 및 이를 갖는 반도체 웨이퍼 건조장치에 관한 것으로서 웨이퍼 건조장치용 웨이퍼 가이드는 몸체와 몸체에 마련되는 복수개의 지지대와 지지대에 형성되어 웨이퍼를 지지하는 홈부가 마련된 복수개의 지지돌기와 홈부에서 지지대 외부를 관통하여 홈부의 세정액을 배출시키는 배출홀을 구비함으로써, 이와 같은 웨이퍼 가이드를 채용한 반도체 웨이퍼 건조장치를 통해 웨이퍼 세정시 탈이온수등의 세정액이 홈부에 정체되지 않고 배출홀을 통해 용이하게 배출되도록 하여 웨이퍼를 효율적으로 건조시킬 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020070081031A

公开(公告)日：2007-08-14

申请号：KR1020060012737

申请日：2006-02-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정민 ,  이승건 ,  정재흥 ,  최성국 ,  김순오 ,  박연수

IPC: H01L21/304

Abstract: An apparatus for processing a substrate is provided to maximize dry efficiency by injecting dry gas to the upper part and both lateral surfaces of an inner bath. Substrates are received in a process bath(112). A cleaning solution supply part supplies a cleaning solution, positioned in the lower part of the process bath. A gas supply part injects dry gas to the process bath to remove the moisture remaining on the substrate, including a first gas injection part installed in the upper part of the process chamber and a second gas injection part installed in the lateral part of the process chamber. The first gas injection part can include upper nozzles disposed in parallel with the direction crossing the substrates. The upper nozzles include injection holes for vertically injecting the dry gas downward.

Abstract translation: 提供一种用于处理基底的装置，以通过将干燥气体注入内浴的上部和两个侧表面来使干燥效率最大化。 衬底被接收在处理槽（112）中。 清洁溶液供应部件提供位于处理槽下部的清洁溶液。 气体供给部将干燥气体注入到处理槽中以去除残留在基板上的水分，包括安装在处理室的上部的第一气体注入部分和安装在处理室的侧部的第二气体注入部分 。 第一气体注入部分可以包括与穿过基底的方向平行布置的上部喷嘴。 上喷嘴包括用于将干燥气体向下垂直喷射的喷射孔。