公开(公告)号：KR102254033B1

公开(公告)日：2021-05-20

申请号：KR1020140072337

申请日：2014-06-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 서동민 ,  박장익

IPC: H01L21/66

Abstract: 광학측정방법에있어서, 계측설비를통해기판상의구조물로부터반사된광을검출하여원시스펙트럼을획득한다. 공정변화에민감한파장대역에서의상기원시스펙트럼을분석하여상기기판에수행된실제공정의공정변화를결정한다. 상기공정변화에기초하여결정된상기계측설비의스펙트럼오프셋에따라상기원시스펙트럼을교정한다.

公开(公告)号：KR1020160027851A

公开(公告)日：2016-03-10

申请号：KR1020140116479

申请日：2014-09-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 서동민 ,  박장익

IPC: H01L21/66 ,  G01N21/00

CPC classification number: G01B11/065 ,  G01B2210/56 ,  G01N21/211 ,  G01N2021/213

Abstract: 광학측정방법에있어서, 타원분광기를통해패턴상에박막을형성하기위한증착공정을수행하기전과후의상기패턴으로부터반사된광을검출하여제1 스펙트럼및 제2 스펙트럼을각각획득한다. 상기제1 스펙트럼및 상기제2 스펙트럼사이의스큐(skew) 스펙트럼을획득한다. 상기스큐스펙트럼을푸리에변환하여상기패턴상에형성된박막의두께를산출한다.

Abstract translation: 在光学测量方法中，通过在椭圆偏振仪上通过检测在图案上形成薄膜的沉积工艺之前和之后的图案反射的光分别获得第一光谱和第二光谱。 在第一光谱和第二光谱之间获得偏斜光谱。 对偏斜光谱执行傅里叶变换操作，以计算图案上的薄膜的厚度。

公开(公告)号：KR1020150143162A

公开(公告)日：2015-12-23

申请号：KR1020140072337

申请日：2014-06-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 서동민 ,  박장익

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G01N21/211 ,  G01N2021/213

Abstract: 광학측정방법에있어서, 계측설비를통해기판상의구조물로부터반사된광을검출하여원시스펙트럼을획득한다. 공정변화에민감한파장대역에서의상기원시스펙트럼을분석하여상기기판에수행된실제공정의공정변화를결정한다. 상기공정변화에기초하여결정된상기계측설비의스펙트럼오프셋에따라상기원시스펙트럼을교정한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种光学测量方法。 该方法包括：通过测量装置检测从衬底上的结构反射的光来获得原始光谱; 通过分析对过程变化敏感的波长带中的原始谱来确定在衬底上执行的实际过程的过程变化; 并且根据基于过程变化确定的测量装置的频谱偏移校正原始频谱。