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公开(公告)号：KR1020150131893A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：KR1020140060487
申请日：2014-05-20
Applicant: 삼성전자주식회사 , 더 리전트 오브 더 유니버시티 오브 캘리포니아
IPC: H01L21/288 , H01L21/28 , H01L21/20
Abstract: 전기장을이용한박막증착장치및 박막증착방법이개시된다. 개시된박막증착장치는, 제1 기판과, 상기제1 기판상에 2차원형태로배열되며각각이전압제어가가능하도록마련되는복수의전극과, 상기전극들상에마련되는것으로, 대전된나노입자들이분산된수용액;을포함하며, 상기전극들각각에소정전압을인가하여상기전극들중 적어도일부에상기대전된나노입자들을선택적으로증착함으로써박막을형성한다.
Abstract translation: 提供了一种使用电场的薄膜沉积设备和薄膜沉积方法。 薄膜沉积装置包括：第一基板; 在第一基板上的2D布置中的多个电极，其电压可以被控制; 以及提供在电极上并且其中分布有带电的纳米粒子的溶液，其中通过独立地向每个电极施加预定电压，将带电的纳米颗粒选择性地沉积在电极的至少一部分上。
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公开(公告)号：KR1020060083569A
公开(公告)日：2006-07-21
申请号：KR1020050004436
申请日：2005-01-18
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 송영준
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67288 , H01L21/67046 , H01L21/67051
Abstract: 본 발명은 스핀 스크러버에 관한 것으로서, 즉 본 발명은 카세트 스테이지와 스크러빙 공정 유닛 및 인덱서 유닛으로 구비한 스핀 스크러버에 있어서, 상기 인덱서 유닛(30)의 리프트 어셈블리(32)에서 승강 플레이트(32a)에 각각 회전 가능하게 축고정되고, 상기 승강 플레이트(32a) 저부로 돌출되는 하단부간은 벨트(120)에 의해 연결되도록 한 복수의 기판 회전수단(100)과; 상기 기판 회전수단(100)들의 하단부를 연동시키도록 연결한 상기 벨트(120)에 구동축(210)이 연결되도록 하여 상기 벨트(120)를 구동시키도록 상기 승강 플레이트(32a)의 일측 저면에 고정 장착되는 벨트 구동수단(200)과; 상기 승강 플레이트(32a)와 연동하는 승강 지지대(32b)에 일단이 회전 가능하게 구비되면서 타단에는 상기 복수의 기판 회전수단(100)들 상부에 얹혀지게 되는 기판(W)의 에지부 일측에서 상기 기판(W)의 에지부 손상 정도를 검출하는 센서(311)가 장착되도록 한 감지부(310)를 구비하는 브로큰 감지수단(300)과; 상기 벨트 구동수단(200)의 구동 및 상기 브로큰 감지수단(300)에서 검출된 신호를 설정값과 비교하여 기판(W)의 불량 여부를 판정하고, 판정 신호를 메인 컨트롤러에 전달하는 제어수단(400)으로 이루어지는 구성이 특징이다.
스핀 스크러버, 인덱서 유닛, 리프트 어셈블리, 기판 에지Abstract translation: 本发明涉及一种自旋洗涤器，即，本发明涉及一种自旋洗涤器包括盒阶段和洗涤处理单元和一个索引单元，分度器单元30的升降组件32中，每个举升板（32A） 多个基板旋转装置（100），其可旋转地固定到升降板（32a）的下端并且通过带（120）连接到下端部分; 驱动轴210连接到连接到基板旋转装置100的下端的带120，使得带120固定地安装在升降板32a的下表面上 皮带传动装置（200）和; 并且，基板W的一端旋转自如地安装在与升降板32a联动的升降支承台32b上，并且基板W的另一端从基板W的边缘的一侧抬起， （300）具有用于安装传感器（311）的传感部分（310），所述传感器用于检测对晶片（W）的边缘的损伤程度; （400），用于将由中断的检测装置（300）检测到的信号与设定值进行比较，以确定衬底（W）是否有缺陷并将确定信号发送到主控制器 ）它的特征在于包括一个配置。
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公开(公告)号：KR100665845B1
公开(公告)日：2007-01-09
申请号：KR1020050004436
申请日：2005-01-18
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 송영준
IPC: H01L21/304
Abstract: 본 발명은 스핀 스크러버에 관한 것으로서, 즉 본 발명은 카세트 스테이지와 스크러빙 공정 유닛 및 인덱서 유닛으로 구비한 스핀 스크러버에 있어서, 상기 인덱서 유닛(30)의 리프트 어셈블리(32)에서 승강 플레이트(32a)에 각각 회전 가능하게 축고정되고, 상기 승강 플레이트(32a) 저부로 돌출되는 하단부간은 벨트(120)에 의해 연결되도록 한 복수의 기판 회전수단(100)과; 상기 기판 회전수단(100)들의 하단부를 연동시키도록 연결한 상기 벨트(120)에 구동축(210)이 연결되도록 하여 상기 벨트(120)를 구동시키도록 상기 승강 플레이트(32a)의 일측 저면에 고정 장착되는 벨트 구동수단(200)과; 상기 승강 플레이트(32a)와 연동하는 승강 지지대(32b)에 일단이 회전 가능하게 구비되면서 타단에는 상기 복수의 기판 회전수단(100)들 상부에 얹혀지게 되는 기판(W)의 에지부 일측에서 상기 기판(W)의 에지부 손상 정도를 검출하는 센서(311)가 장착되도록 한 감지부(310)를 구비하는 브로큰 감지수단(300)과; 상기 벨트 구동수단(200)의 구동 및 상기 브로큰 감지수단(300)에서 검출된 신호를 설정값과 비교하여 기판(W)의 불량 여부를 판정하고, 판정 신호를 메인 컨트롤러에 전달하는 제어수단(400)으로 이루어지는 구성이 특징이다.
스핀 스크러버, 인덱서 유닛, 리프트 어셈블리, 기판 에지-
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公开(公告)号：KR1020050096448A
公开(公告)日：2005-10-06
申请号：KR1020040021657
申请日：2004-03-30
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 송영준
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/02 , H01L21/67005 , H01L21/67196
Abstract: 본 발명은 반도체 설비에 사용되는 동력 전달 장치에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 모터 샤프트와 풀리의 연결 구조를 개선한 반도체 설비에 사용되는 동력 전달 장치에 관한 것으로, 본 발명의 반도체 설비에서 사용되는 동력 전달 장치는 구동수단에 연결되는 샤프트; 상기 샤프트가 끼워지는 구멍을 갖는 풀리를 포함하되; 상기 샤프트는 상기 풀리에 끼워지는 부분의 가장자리가 사각형으로 이루어지며, 상기 풀리의 구멍은 상기 샤프트의 사각형 부분이 끼워지도록 사각형의 구멍으로 이루어진다.
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公开(公告)号：KR1020050095331A
公开(公告)日：2005-09-29
申请号：KR1020040020689
申请日：2004-03-26
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 송영준
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67057 , H01L21/67126
Abstract: 본 발명은 습식 세정 장치에 관한 것으로, 복수개의 세정조를 포함하는 습식 세정 장치에 있어서, 상기 복수개의 세정조 사이에 위치하는 셔터와; 상기 복수개의 세정조를 격리시키도록 상기 셔터를 앞/뒤 방향으로 이동시키는 구동장치를 포함하는 것을 특징으로 한다. 상기 셔터는 그 하단부에 결합된 물받이부를 더 포함할 수 있다. 또는, 상기 셔터는 앞/뒤 방향으로 접힐 수 있는 블라인드 방식의 셔터일 수 있다. 본 발명에 의하면, 케미컬의 침투를 원천적으로 차단하여 구동장치 및 각종의 부품들의 부식을 방지함으로써 습식 세정 장치의 수명이 연장된다.
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公开(公告)号：KR1020050058144A
公开(公告)日：2005-06-16
申请号：KR1020030090398
申请日：2003-12-11
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 송영준
IPC: H01L21/304
Abstract: 반도체 제조용 스핀 스크러버장치는 베이스플레이트와; 베이스플레이트의 상측에 설치되어 웨이퍼를 회전가능하게 지지하는 회전척과; 웨이퍼의 상면으로 소정의 세정수를 공급하는 분사노즐; 및 웨이퍼의 상면의 파티클을 제거하는 브러쉬가 복수개가 마련된 브러쉬세정수단을 포함한다. 여기서, 브러쉬 세정수단은 브러쉬를 그 단부에 각각 장착시키며 회전척이 설치된 부분과 회전척의 외측 위치로 반복 이동하도록 설치된 브러쉬 암과; 브러쉬 암을 승·하강시켜 브러쉬와 웨이퍼와의 간격을 조절하는 승하강구동부와; 승하강구동부를 제어하는 제어부를 포함하는 것이 바람직하다.
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公开(公告)号：KR1020050022588A
公开(公告)日：2005-03-08
申请号：KR1020030059414
申请日：2003-08-27
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 송영준
IPC: H01L21/68
Abstract: PURPOSE: A cleaning unit for an apparatus to align wafer flat zone is provided to prevent the contamination of a wafer by removing particles from a driving roller using a member spraying clean gas. CONSTITUTION: An apparatus for aligning wafer flat zone includes a driving roller and a member spraying clean gas. The driving roller(30) is used for aligning flat zones of wafers(W) of a cassette(20). The member(60) spraying clean gas is used for removing particles from the driving roller. A plurality of nozzles(61) are formed on the spraying member along the length direction.
Abstract translation: 目的：提供用于对准晶片平坦区域的装置的清洁单元，以通过使用喷涂清洁气体的构件从驱动辊中除去颗粒来防止晶片的污染。 构成：用于对准晶片平坦区域的装置包括驱动辊和喷射清洁气体的构件。 驱动辊（30）用于对准盒（20）的晶片（W）的平坦区域。 喷涂清洁气体的构件（60）用于从驱动辊中除去颗粒。 沿着长度方向在喷涂部件上形成多个喷嘴（61）。
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公开(公告)号：KR1020040054293A
公开(公告)日：2004-06-25
申请号：KR1020020081314
申请日：2002-12-18
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/302
Abstract: PURPOSE: A measurement tank system of a wet station is provided to measure the exhaust of chemicals through an excess exhaust line by using a flowmeter. CONSTITUTION: A measurement tank system(30) of a wet station is provided with a measurement tank(32) for storing chemicals, a supply line(37) for supplying the chemicals exhausted from an equipment tank to the measurement tank, and a plurality of check sensors for checking the flow rate of chemicals. The measurement tank system further includes an excess exhaust line(31) installed in the measurement tank to a predetermined height through its one end portion and prolonged to the outside from the bottom of the measurement tank through its the other end portion for exhausting the chemicals over-supplied to the measurement tank, and a flowmeter(35) installed at the outer portion of the measurement tank on the excess exhaust line.
Abstract translation: 目的：提供湿站的测量罐系统，通过使用流量计通过多余的排气管线来测量化学品的排放。 构成：湿站的测量罐系统（30）设置有用于存储化学品的测量罐（32），用于将从设备箱排出的化学品供给到测量罐的供应管线（37）和多个 检查传感器以检查化学品的流量。 测量罐系统还包括通过其一端部安装在测量罐中的预定高度的多余的排气管线（31），并通过其另一端部从测量罐的底部延伸到外部，以排出化学物质 - 配置在测量罐上，以及安装在过量排气管线上的测量罐外部的流量计（35）。
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