公开(公告)号：KR1020050041593A

公开(公告)日：2005-05-04

申请号：KR1020030076813

申请日：2003-10-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송효준 ,  하상록 ,  이성호

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명의 실시예에 따른 공기 청정 시스템을 구성하는 환풍구에는, 환풍구 속 망 및 겉 망과 그 사이에 필터가 구성되어 있으며, 이들을 결합시켜주는 조임 나사를 더 포함한다. 구체적으로, 라이브러리 내부에서 전체 설비 내부로의 공기 순환 통로가 되는 환풍구에는 환풍구의 크기보다 조금 넓은 환풍구 속 망이 환풍구를 덮고 있다. 그 상부에는, 환풍구 전체를 덮는 필터가 놓이며, 필터 상부에 필터를 완전히 덮는 넓이의 환풍구 겉 망이 필터를 감싸도록 속 망과 함께 맞물려 있다. 또한, 환풍구 속 망과 겉 망을 라이브러리 외측에 고정시키기 위한 수단으로 조임 나사가 각 모서리 마다 결착되어 있다. 여기서, 속 망과 겉 망은 스테인리스(Stainless) 재질이며, 필터는 0.1 마이크로 미터 이상의 파티클을 걸러내는 헤파 필터(HEPA filter)인 것이 바람직하다.

公开(公告)号：KR1020040048599A

公开(公告)日：2004-06-10

申请号：KR1020020076517

申请日：2002-12-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 하상록 ,  송효준

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A semiconductor device manufacturing apparatus having a wafer centering correction system and a wafer centering method are provided to be capable of precisely aligning the first center of a rotating spin chuck and the second center of a wafer for improving productivity. CONSTITUTION: A semiconductor device manufacturing apparatus(101) is provided with a spin chuck(105) for supporting a wafer(102), a main controller, an arm for transferring the wafer to the spin chuck, and a wafer centering system. At this time, the wafer centering system includes a CCD(Charge Coupled Device) light emitting device(103) for irradiating light through each pixel of a two-dimensional array and a CCD light receiving device(104) opposite to the CCD light emitting device.

Abstract translation: 目的：提供一种具有晶片定心校正系统和晶片定心方法的半导体器件制造设备，以能够精确地对准旋转旋转卡盘的第一中心和晶片的第二中心，以提高生产率。 构成：半导体器件制造装置（101）具有用于支撑晶片（102）的旋转卡盘（105），主控制器，用于将晶片转移到旋转卡盘的臂和晶片定心系统。 此时，晶片定心系统包括用于将光照射到二维阵列的每个像素的CCD（电荷耦合器件）发光器件（103）和与CCD发光器件相对的CCD光接收器件（104） 。

公开(公告)号：KR100660542B1

公开(公告)日：2006-12-26

申请号：KR1020040096300

申请日：2004-11-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김병갑 ,  송효준

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 광원의 광도변화나 광원의 수명에 의해 발생되는 문제를 미연에 방지할 수 있도록 개선한 반도체 제조용 오버레이 계측설비에 관한 것이다. 본 발명의 반도체 제조용 오버레이 계측설비는 광원과, 상기 광원으로부터 나온 빔을 투과 및 반사시켜 제1 및 제2경로로 진행시키는 빔스플리터; 상기 빔스플리터를 투과한 제1경로의 빔을 반사시켜 상기 빔스플리터에 다시 입사시키는 기준미러; 상기 빔스플리터를 반사한 제2경로의 빔이 입사된 후 오버레이 측정 패턴에서 반사되어 상기 빔스플리터에 다시 입사되는 웨이퍼 스테이지; 상기 빔스플리터에 재입사되어 반사된 제1경로의 빔과, 상기 웨이퍼의 오버레이 측정 패턴에서 재반사된 후에 상기 빔스플리터에 재입사되어 투과된 제2경로의 빔을 촬상하는 오버레이 계측부; 상기 광원과 상기 빔스플리터 사이에 설치되어 상기 광원의 빔 세기를 조절하기 위한 필터부를 포함한다.

公开(公告)号：KR1020040102630A

公开(公告)日：2004-12-08

申请号：KR1020030034152

申请日：2003-05-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 서범석 ,  하상록 ,  송효준 ,  이상훈 ,  김이권

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A spin coater is provided to prevent a rinse solution and a photoresist from rebounding on and infiltrating a wafer by using a rinse drain unit. CONSTITUTION: A spin coater comprises a wafer chuck(220) for holding a wafer, a driving unit(230,240) for rotating the wafer, a photoresist supply unit, and a wafer rinse unit(271,272,273) for rinsing an edge and a rear surfaces of the wafer by spraying a rinse solution on the wafer. The apparatus further comprises an exterior barrier(210) surrounding the edge of the wafer, an interior barrier(290) surrounding the space under the wafer, an exhaust unit(250,260) connected to the interior barrier, and a rinse drain unit(280). The exterior barrier prevents the photoresist and the rinse solution from flying away due to the centrifugal force of the rotating wafer. The interior barrier is used to gather the photoresist and the rinse solution which are bumped against the exterior barrier and flow down. The exhausting unit exhausts the photoresist, the rinse solution and dust particles floating around the interior barrier. The rinse drain unit compulsorily sucks and exhausts the photoresist and the rinse solution which are floating over the wafer.

Abstract translation: 目的：提供旋涂机，以防止冲洗溶液和光致抗蚀剂通过使用冲洗排放单元反弹并渗透晶片。 构成：旋转涂布机包括用于保持晶片的晶片卡盘（220），用于旋转晶片的驱动单元（230,240），光致抗蚀剂供应单元和晶片冲洗单元（271,272,273），用于冲洗晶片的边缘和背面 该晶片通过在晶片上喷洒冲洗溶液。 所述设备还包括围绕所述晶片边缘的外部屏障（210），围绕所述晶片下方空间的内部屏障（290），连接到所述内部屏障的排气单元（250,260）和冲洗排出单元（280） 。 外部屏障防止光致抗蚀剂和冲洗溶液由于旋转晶片的离心力而飞离。 内部屏障用于聚集光刻胶和冲洗溶液，其冲击外部屏障并向下流动。 排气单元排出光致抗蚀剂，漂洗溶液和悬浮在内部屏障周围的灰尘颗粒。 冲洗排水装置强制吸入和排出漂浮在晶片上的光致抗蚀剂和漂洗溶液。

公开(公告)号：KR1020040013829A

公开(公告)日：2004-02-14

申请号：KR1020020046916

申请日：2002-08-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 하상록 ,  김병갑 ,  송효준 ,  김길용

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A wafer carrier apparatus for spinner equipment having an improved arm transfer unit is provided to prevent the generation of particles caused by the frictional force by using a magnetic levitation method. CONSTITUTION: A wafer carrier apparatus for spinner equipment having an improved arm transfer unit includes an indexer, a coater, a developer, an interface, and arm. The indexer is used for loading and unloading a wafer. The coater is used for coating a surface of the wafer. The developer is used for developing an exposed wafer. The interface is used for performing an interaction with an exposure device. The arm is used for loading the wafer to each other or unloading the wafer from each part. The arm is transferred by a magnetic levitation transfer unit(10).

Abstract translation: 目的：提供一种用于具有改进的臂转移单元的旋转设备的晶片载带装置，以防止通过使用磁悬浮法产生由摩擦力引起的颗粒。 构成：具有改进的臂转移单元的旋转器设备的晶片载体装置包括分度器，涂布机，显影剂，界面和臂。 分度器用于装载和卸载晶片。 涂布机用于涂覆晶片的表面。 显影剂用于显影曝光的晶片。 该界面用于执行与曝光设备的交互。 该臂用于将晶片彼此加载或从每个部件卸载晶片。 臂由磁悬浮转移单元（10）转移。

公开(公告)号：KR100558479B1

公开(公告)日：2006-03-07

申请号：KR1020030034152

申请日：2003-05-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 서범석 ,  하상록 ,  송효준 ,  이상훈 ,  김이권

IPC: H01L21/027

Abstract: 반도체 제조용 스핀 코터를 제공한다. 이 반도체 제조용 스핀 코터는 웨이퍼가 안착되며 웨이퍼를 흡착고정하는 웨이퍼 척과, 웨이퍼 척에 고정된 웨이퍼를 회전시키는 구동유닛과, 웨이퍼 상에 포토레지스트를 공급해주는 포토레지스트 공급유닛과, 웨이퍼에 소정 린스액을 분사하여 웨이퍼의 가장자리면과 웨이퍼의 뒷면을 세척해주는 웨이퍼 린스유닛과, 회전되는 웨이퍼의 원심력에 의해 포토레지스트와 린스액이 외부로 비산하는 것을 방지해주도록 웨이퍼의 가장자리부를 에워싸게 설치되는 외측바울과, 웨이퍼의 하부를 커버하도록 설치되며 외측바울에 부딪친 다음 하측으로 흐르는 포토레지스트와 린스액을 모아주는 내측바울과, 내측바울에 연통되도록 설치되며 내측바울에 모인 포토레지스트와 린스액 및 내측바울 주변에서 부유되는 분진을 외부로 배출시켜주는 배출유닛 및, 웨이퍼의 일측면에 설치되며 웨이퍼 상에서 원심력에 의해 비산되어지는 포토레지스트와 린스액을 강제흡입하여 외부로 배출시켜주는 린스 드레인유닛을 포함한다.
스핀 코터

公开(公告)号：KR1020040094120A

公开(公告)日：2004-11-09

申请号：KR1020030028077

申请日：2003-05-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송효준

IPC: H01L21/302

Abstract: PURPOSE: An apparatus for removing particles of a substrate is provided to securely remove the particles by detecting the particles generating in the surface of the substrate and by inspecting whether the particles are eliminated. CONSTITUTION: A main body(510) is so installed to be capable of being transferred by a transfer unit. A scan light source(521) irradiates inspection light, installed in the main body and transferring at a predetermined angle with the surface of the substrate. A recognition unit(522) recognizes the light source irradiated to the substrate to provide position information of the particles. A particle inspection unit(520) includes the scan light source and the recognition unit. A gas injection unit(531) injects gas to the particles attached to the surface of the substrate. A vacuum exhaust unit(532) exhausts the particles blown by the gas, confronting the gas injection unit. A particle removing unit(530) is composed of the gas injection unit and the vacuum exhaust unit. A control unit receives a detection signal of the particle inspection unit and outputs an operation signal to the transfer unit and the particle removing unit.

Abstract translation: 目的：提供一种用于去除基板颗粒的装置，通过检测在基板表面产生的颗粒并检查颗粒是否被去除来可靠地去除颗粒。 构成：主体（510）被安装成能够通过传送单元传送。 扫描光源（521）照射安装在主体中的检查光并以与基板的表面成一定角度的方式传送。 识别单元（522）识别照射到基板的光源以提供颗粒的位置信息。 粒子检查单元（520）包括扫描光源和识别单元。 气体注入单元（531）将气体注入附着在基板表面上的颗粒。 真空排气单元（532）排出由气体吹出的颗粒，面对气体注入单元。 颗粒去除单元（530）由气体注入单元和真空排气单元构成。 控制单元接收粒子检测单元的检测信号，并向运送单元和粒子去除单元输出运算信号。

公开(公告)号：KR1020060057212A

公开(公告)日：2006-05-26

申请号：KR1020040096300

申请日：2004-11-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김병갑 ,  송효준

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G01N21/956 ,  G03F7/70633 ,  H01L22/12

Abstract: 본 발명은 광원의 광도변화나 광원의 수명에 의해 발생되는 문제를 미연에 방지할 수 있도록 개선한 반도체 제조용 오버레이 계측설비에 관한 것이다. 본 발명의 반도체 제조용 오버레이 계측설비는 광원과, 상기 광원으로부터 나온 빔을 투과 및 반사시켜 제1 및 제2경로로 진행시키는 빔스플리터; 상기 빔스플리터를 투과한 제1경로의 빔을 반사시켜 상기 빔스플리터에 다시 입사시키는 기준미러; 상기 빔스플리터를 반사한 제2경로의 빔이 입사된 후 오버레이 측정 패턴에서 반사되어 상기 빔스플리터에 다시 입사되는 웨이퍼 스테이지; 상기 빔스플리터에 재입사되어 반사된 제1경로의 빔과, 상기 웨이퍼의 오버레이 측정 패턴에서 재반사된 후에 상기 빔스플리터에 재입사되어 투과된 제2경로의 빔을 촬상하는 오버레이 계측부; 상기 광원과 상기 빔스플리터 사이에 설치되어 상기 광원의 빔 세기를 조절하기 위한 필터부를 포함한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种半导体制造设施重叠测量改进，以避免因预先在光源或光源的亮度的变化的寿命的问题。 半导体通过透射和反射从所述光源和所述光源的光束分离器，进行到第一和第二路径发射的光束制造本发明的重叠测量系统; 参考反射镜，用于反射通过分束器传输的第一路径的光束并再次进入光束入射分束器; 由分束器反射入射在第二路径的光束后晶片级由重叠测量图案反射，再次入射到光束分离器; 覆盖用于成像光束的光束和所述第一路径的是重新入射到分束器反射，所述第二路径被重新入射在由测量晶片的重叠测量图案的反射后重新分束器传输; 以及安装在光源和分束器之间的滤光单元，用于调节光源的光束强度。

公开(公告)号：KR1020050112884A

公开(公告)日：2005-12-01

申请号：KR1020040038320

申请日：2004-05-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송효준

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/16 ,  H01L21/6715

Abstract: 반도체 포토 공정에서 포토레지스트 분사노즐의 효과적인 클리닝이 가능한 코팅 장치를 제공한다. 반도체 포토 공정용 코팅 장치는 포토레지스트 코팅 작업 시 웨이퍼에 포토레지스트를 분사하는 분사노즐, 코팅 작업을 수행하지 않는 동안 분사노즐을 대기시키는 대기 유니트 및 대기 유니트 내에 분사노즐과 대향하도록 설치되어 분사노즐 팁 말단에 응고된 포토레지스트를 제거하는 클리너를 공급하는 클리닝노즐을 포함한다.

公开(公告)号：KR1020040067567A

公开(公告)日：2004-07-30

申请号：KR1020030004755

申请日：2003-01-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 하상록 ,  송효준 ,  김이권

IPC: G03F7/16

Abstract: PURPOSE: Provided is a photoresist coating apparatus for the manufacture of a semiconductor, which simplifies constitutional elements and reduces processing steps to improve the work efficiency and to reduce the manufacturing cost. CONSTITUTION: The photoresist coating apparatus comprises: a coating unit(200) for carrying out coating of a photoresist on a wafer(70); a gathering tank(232) disposed inside of the coating unit(200) for gathering residual photoresist after the coating step; a drain line(220) connected to the gathering tank(232) at one end thereof for discharging the gathered photoresist; and storage tanks(242,244) connected to the other end of the drain line(220) for storing the photoresist discharged from the drain line(220). In the photoresist coating apparatus, a plurality of storage tanks(242,244) are provided to the number corresponding to the kinds of the photoresist used in the coating step. The drain line(220) is branched into each storage tank(242,244), wherein the branching point of the drain line is equipped with a changeover valve(260) for changing a path.

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造半导体的光致抗蚀剂涂覆装置，其简化结构元件并减少加工步骤以提高工作效率并降低制造成本。 构成：光致抗蚀剂涂覆装置包括：涂覆单元（200），用于在晶片（70）上进行光致抗蚀剂的涂覆; 设置在所述涂布单元（200）内部的用于在所述涂布步骤之后聚集残留光致抗蚀剂的聚集槽（232） 排出管线（220），其在其一端连接到收集罐（232），用于排出聚集的光致抗蚀剂; 以及连接到排水管线（220）的另一端的储存罐（242,244），用于存储从排水管线（220）排放的光致抗蚀剂。 在光致抗蚀剂涂布装置中，在与涂布步骤中使用的光致抗蚀剂的种类相对应的数量上设置有多个储罐（242,244）。 排水管线（220）分支到每个储罐（242,244）中，其中排水管线的分支点配备有用于改变路径的转换阀（260）。