公开(公告)号：KR1020130067325A

公开(公告)日：2013-06-24

申请号：KR1020110102665

申请日：2011-10-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김성혁 ,  신인균 ,  안범현

IPC: G03F1/62 ,  G03F1/50

CPC classification number: G03F1/64

Abstract: PURPOSE: A pellicle and a photomask structure having the pellicle thereon are provided to disperse pressures applied to the upper surface of the photomask from a frame by forming a buffer zone in the frame. CONSTITUTION: A photomask structure(50) includes a photomask(44) and a pellicle(40). Optical patterns(48) are formed on the upper surface of the photomask. The pellicle covers the upper surface of the photomask with the optical patterns. The pellicle includes a rectangular frame and a buffer zone. The buffer zone divides the lower surface of the frame into a plurality of regions. The buffer zone removes a part of the lower surface, internal surface, and external surface of the frame. The upper surface of the frame remains. The frame includes sides, and the buffer zone is formed on one of the sides.

Abstract translation: 目的：提供防护薄膜组件和其上具有防护薄膜的光掩模结构，以通过在框架中形成缓冲区来分散施加到光掩模的上表面的压力。 构成：光掩模结构（50）包括光掩模（44）和防护薄膜（40）。 光学图案（48）形成在光掩模的上表面上。 防护薄膜组件用光学图案覆盖光掩模的上表面。 防护薄膜组件包括矩形框架和缓冲区域。 缓冲区将框架的下表面划分成多个区域。 缓冲区域去除框架的下表面，内表面和外表面的一部分。 框架的上表面保留。 框架包括侧面，缓冲区形成在其中一侧。

公开(公告)号：KR101642832B1

公开(公告)日：2016-07-27

申请号：KR1020090086670

申请日：2009-09-14

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  주식회사 에프에스티

Inventor： 김정진 ,  안범현 ,  전찬욱 ,  유장동 ,  김승완 ,  김익준 ,  최재혁 ,  이한신

IPC: G03F1/64 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/142 ,  C25D11/024 ,  C25D11/026 ,  C25D11/04 ,  C25D11/06 ,  C25D11/18 ,  G03F1/64 ,  Y10T428/13 ,  Y10T428/1317

Abstract: 이물질발생을억제하고아웃개싱의양이저감된펠리클프레임, 펠리클, 리소그래피장치및 펠리클프레임의제조방법이제공된다. 펠리클프레임은제1 물질층및 상기제1 물질층상에형성된제2 물질층을포함하며, 상기제1 물질층은상기알루미늄을포함하여구성되며, 상기제2 물질층은상기산화알루미늄및 상기전이금속을포함하여구성된다. 펠리클또는리소그래피장치는상기펠리클프레임을포함한다. 상기제 2물질층은습식산화플라즈마또는건식산화플라즈마를사용하여형성한다.

公开(公告)号：KR1020110029005A

公开(公告)日：2011-03-22

申请号：KR1020090086670

申请日：2009-09-14

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  주식회사 에프에스티

Inventor： 김정진 ,  안범현 ,  전찬욱 ,  유장동 ,  김승완 ,  김익준 ,  최재혁 ,  이한신

IPC: G03F1/64 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/142 ,  C25D11/024 ,  C25D11/026 ,  C25D11/04 ,  C25D11/06 ,  C25D11/18 ,  G03F1/64 ,  Y10T428/13 ,  Y10T428/1317 ,  G03F7/70983

Abstract: PURPOSE: A pellicle frame, pellicle, a lithographic apparatus, and a method for manufacturing the pellicle frame are provided to effectively reduce the amount of outgas by implementing a cleaning process with high temperature ultra-pure water. CONSTITUTION: A pellicle frame(19) includes aluminum, an aluminum oxide, and transition metal. The pellicle frame includes a first material layer(11) and a second material layer(12) which is formed on the first material layer. The first material layer includes aluminum. The second material layer includes an aluminum oxide and transition metal. The second material layer is in direct contact with the first material layer. The second material layer is directly exposed around the pellicle frame.

Abstract translation: 目的：提供防护薄膜组件，防护薄膜，光刻设备和防护薄膜组件框架的制造方法，以通过使用高温超纯水进行清洁处理来有效地减少排气量。 构成：防护薄膜组件框架（19）包括铝，氧化铝和过渡金属。 防护薄膜框架包括形成在第一材料层上的第一材料层（11）和第二材料层（12）。 第一材料层包括铝。 第二材料层包括氧化铝和过渡金属。 第二材料层与第一材料层直接接触。 第二材料层直接暴露在防护薄膜框架周围。