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公开(公告)号：KR101534053B1
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：KR1020080027436
申请日：2008-03-25
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: B04C3/04
CPC classification number: B04C5/26 , A47L9/1625 , A47L9/1666 , B04C5/02 , B04C5/04 , B04C5/103 , B04C5/185 , B04C7/00 , Y10S55/03
Abstract: 본발명에의한멀티사이클론집진장치는, 제 1 공기유입구를통하여유입된공기중의오물을원심분리하는 1차사이클론유닛; 및상기 1차사이클론유닛의내부에직렬배치되는 2차사이클론유닛;을포함하고, 상기 2차사이클론유닛은, 오물이 1차로분리된상기공기가유입되는제 2 공기유입구를가지는 2차사이클론몸체; 및상기제 2 공기유입구로유입된공기에회전기류를형성하는가이드유닛;을포함하는것을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR1020090102160A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：KR1020080027436
申请日：2008-03-25
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: B04C3/04
CPC classification number: B04C5/26 , A47L9/1625 , A47L9/1666 , B04C5/02 , B04C5/04 , B04C5/103 , B04C5/185 , B04C7/00 , Y10S55/03
Abstract: PURPOSE: A multicyclone dust collector is provided to improve efficiency of collecting minute dust without an increase in its volume by arranging a second cyclone unit within a first cyclone unit. CONSTITUTION: A multicyclone dust collector comprises a first cyclone unit(100) and a second cyclone unit(200). The first cyclone unit centrifuges the impurities included in the air flowing through a first air inlet(111). The second cyclone unit is arranged within the first cyclone unit. The second cyclone unit comprises a second cyclone body(210) and guide unit(230). The second cyclone body has a second air inlet through which the impurity-removed air flows. The guide unit forms air current with the air flowing through the second air inlet.
Abstract translation: 目的：提供多气流集尘器，以通过在第一旋风单元内布置第二旋风单元来提高收集微粉尘的效率，而不会增加其体积。 构成：多气流集尘器包括第一旋风单元（100）和第二旋风单元（200）。 第一旋风单元离心流过第一空气入口（111）的空气中包含的杂质。 第二旋风单元布置在第一旋风单元内。 第二旋风单元包括第二旋风主体（210）和引导单元（230）。 第二旋风体具有第二空气入口，杂质去除的空气通过第二空气入口流过。 引导单元与流过第二进气口的空气形成气流。
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公开(公告)号：KR1020000019933A
公开(公告)日：2000-04-15
申请号：KR1019980038291
申请日：1998-09-16
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 안성수
IPC: H01L21/20
Abstract: PURPOSE: A sputtering apparatus for manufacturing a semiconductor device is provided to minimize time loss by improving the thermal efficiency in heating a wafer by using a heater block. CONSTITUTION: A sputtering apparatus for manufacturing a semiconductor device comprising a clamp fixing a wafer in a heater block capable of heating the wafer to reflow a metal layer formed on the wafer, further comprises a cap on a clamp to cap the upper surface of the wafer fixed in the clamp. The sputtering apparatus is characterized by a plurality of holes on the cap.
Abstract translation: 目的：提供一种用于制造半导体器件的溅射装置，以通过使用加热器块提高加热晶片的热效率来最小化时间损失。 构成：一种用于制造半导体器件的溅射装置，包括将晶片固定在能够加热晶片以回流形成在晶片上的金属层的加热器块中的夹具，还包括用于盖住晶片的上表面的夹具上的盖 固定在夹具中。 溅射装置的特征在于盖上有多个孔。
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公开(公告)号：KR1019990058610A
公开(公告)日：1999-07-15
申请号：KR1019970078752
申请日：1997-12-30
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 안성수
IPC: F16B37/14
Abstract: 본 발명은 공기통로를 측면에 형성하여 파티클의 발생을 방지하게 하는 반도체 공정챔버의 아킹방지용 나사 켑에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체 공정챔버의 아킹방지용 나사 켑은, 진공상태로 플라즈마가 형성되는 공정챔버의 내벽에 형성된 암나사홀에 나사조임되는 나사가 아킹(Arcking)현상을 발생시키는 것을 방지하도록 몸체가 상기 나사의 머리부를 감싸는 형상으로 형성되고, 상기 몸체의 상면과 측면이 밀폐되며, 내부에 나사머리가 삽입되는 중공부가 형성되고, 하면이 개방된 형태로 제작되는 절연재질의 반도체 공정챔버의 아킹방지용 나사 켑(Cap)에 있어서, 상기 중공부에 고진공압이 형성되는 것을 방지하여 켑의 해체가 용이하도록 상기 측면에 상기 중공부와 연결되는 측면공기통로를 형성하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 파티클의 발생을 방지하여 웨이퍼 수율을 향상시키고, 제품의 내구성을 증가시키게 하는 효과를 갖는다.-
公开(公告)号：KR1019990048105A
公开(公告)日：1999-07-05
申请号：KR1019970066718
申请日：1997-12-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/00
Abstract: 본 발명은 웨이퍼의 플랫존을 기준으로 정렬하기 위하여 웨이퍼와 접촉하여 회전하는 가이드롤러에 발생된 정전기를 외부로 흘려보낼 수 있는 가이드롤러를 갖는 반도체장치 제조용 웨이퍼 정렬장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체장치 제조용 웨이퍼 정렬장치는, 웨이퍼(2)들을 수납하는 카셋트가 얹혀지는 카셋트받침대(1)와, 상기 카셋트내의 웨이퍼(2)와 접촉하면서 회전하는 가이드롤러(4) 및 가이드롤러(4)에 의하여 회전되어 정렬된 웨이퍼(2)들을 받쳐주는 웨이퍼받침대(3)를 포함하여 구성되며, 상기 가이드롤러(4)가 탄소섬유로 보강된 폴리에테르로 이루어진다.
따라서, 웨이퍼(2)와 마찰하면서 회전하는 가이드롤러(4)가 낮은 표면비저항을 갖도록 함으로써 정전기의 표면에서의 누적을 방지하여 정전기의 누적에 따른 파티클의 집적이나 누적된 정전기의 방전에 의한 웨이퍼(2) 표면의 침식 등을 예방하여 반도체장치의 수율을 높여 생산성을 증대시키는 효과가 있다.-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020150057147A
公开(公告)日：2015-05-28
申请号：KR1020130140115
申请日：2013-11-18
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L27/115
CPC classification number: H01L29/7889 , H01L27/11517 , H01L27/11563 , H01L27/1157 , H01L27/11575 , H01L27/11582 , H01L29/7926 , H01L27/115
Abstract: 본발명의일 실시예에따른메모리장치는, 기판의상면에수직하는방향으로연장되는채널영역, 상기채널영역과인접하도록상기기판상에적층되며, 각각일 방향으로연장되어패드영역을제공하는복수의게이트전극층, 및상기패드영역에서상기복수의게이트전극층각각에연결되는복수의컨택플러그를포함하고, 상기복수의게이트전극층은제1 및제2 게이트전극층을포함하며, 상기복수의컨택플러그중 적어도하나는, 상기제1 게이트전극층을관통하여상기제2 게이트전극층과전기적으로연결되며, 상기제1 게이트전극층과전기적으로절연된다.
Abstract translation: 根据本发明的实施例的存储器件包括沿垂直于衬底的上表面的方向延伸的沟道区域; 层叠在基板上以与沟道区相邻并且在一个方向上分别延伸以提供焊盘区域的多个栅极电极层; 以及连接到所述焊盘区域上的多个栅极电极层中的每一个上的多个接触插塞，其中所述多个栅极电极层包括第一和第二栅电极层，并且所述多个接触插塞中的至少一个穿过所述第一栅电极层， 与第二栅电极层连接，并与第一栅电极层电绝缘。
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公开(公告)号：KR1020100070048A
公开(公告)日：2010-06-25
申请号：KR1020080128639
申请日：2008-12-17
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04N5/23293 , G02B7/105 , H04N5/23245
Abstract: PURPOSE: An electronic view finder including an eye-detection sensor and a digital photographing apparatus comprising the same are provided to automatically convert a finder mode and a display mode by measuring a distance between a user and a finder with a distance sensor. CONSTITUTION: A finder unit(110) comprises a first display part, an eyepiece, and a finder window. A distance measuring unit(120) measures a distance between the finder unit and a user. A first control unit(140) processes the input signal of the distance measuring unit for controlling the operation of the finder unit. The distance measuring unit includes a distance sensor which is arranged around the finder window.
Abstract translation: 目的：提供包括眼睛检测传感器和包括其的数字摄影装置的电子取景器，以通过用距离传感器测量用户和取景器之间的距离来自动转换取景器模式和显示模式。 构成：取景器单元（110）包括第一显示部分，目镜和取景器窗口。 距离测量单元（120）测量取景器单元和用户之间的距离。 第一控制单元（140）处理距离测量单元的输入信号，以控制取景器单元的操作。 距离测量单元包括位于取景器窗口周围的距离传感器。
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公开(公告)号：KR100257901B1
公开(公告)日：2000-06-01
申请号：KR1019970066718
申请日：1997-12-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H01L21/68
Abstract: PURPOSE: An apparatus for aligning a wafer in semiconductor manufacturing equipment is provided to transfer generated electric static electricity to the outside by using a guide roller. CONSTITUTION: An apparatus for aligning a wafer in semiconductor manufacturing equipment comprises a cassette support plate(1), a guide roller(4), and a wafer support plate(3). The cassette support plate(1) loads a cassette for loading and unloading wafers(2). The guide roller(4) is rotated by being contacted with wafers(2) within the cassette. The wafer support plate(3) is rotated by being contacted with the guide roller(4). The wafer support plate(3) supports aligned wafers(2). The guide roller(4) is formed with polyether including a carbon fiber.
Abstract translation: 目的：提供一种用于对准半导体制造设备中的晶片的装置，以通过使用导辊将产生的电静电转移到外部。 构成：用于在半导体制造设备中对准晶片的装置包括盒支撑板（1），导辊（4）和晶片支撑板（3）。 盒支撑板（1）装载用于装载和卸载晶片（2）的盒。 引导辊（4）通过与盒内的晶片（2）接触而旋转。 晶片支撑板（3）通过与引导辊（4）接触而旋转。 晶片支撑板（3）支撑对准的晶片（2）。 引导辊（4）由具有碳纤维的聚醚构成。
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公开(公告)号：KR101813513B1
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：KR1020110126460
申请日：2011-11-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/8247 , H01L27/115
CPC classification number: H01L29/7883 , H01L21/7682 , H01L27/11521 , H01L29/42324 , H01L29/42364 , H01L29/66825 , H01L29/7881
Abstract: 반도체소자의제조방법에있어서, 기판상에터널절연막을형성한다. 터널절연막상에복수의게이트패턴들을형성한다. 게이트패턴의측벽및 상기터널절연막상에캐핑막패턴을형성한다. 게이트패턴및 캐핑막패턴에의해커버되지않는터널절연막부분을식각하여터널절연막패턴을형성한다. 기판상에게이트패턴, 캐핑막패턴및 터널절연막패턴을커버하며인접하는캐핑막패턴들사이에서에어갭(air gap)을포함하는절연막을형성한다. 인접하는캐핑막패턴들사이의터널절연막부분을식각함으로써, 에어갭이형성될수 있는공간을늘릴수 있다.
Abstract translation: 在制造半导体器件的方法中，隧道绝缘膜形成在衬底上。 由此在隧道绝缘膜上形成多个栅极图案。 盖图案形成在栅极图案的侧壁上和隧道绝缘膜上。 蚀刻未被栅极图案和盖膜图案覆盖的隧道绝缘膜部分以形成隧道绝缘膜图案。 形成覆盖基板上的栅极图案，覆盖膜图案和隧道绝缘膜图案并且包括相邻覆盖膜图案之间的空气间隙的绝缘膜。 通过蚀刻相邻覆盖膜图案之间的隧道绝缘膜的部分，可以增加可以形成气隙的空间。
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公开(公告)号：KR1020010026998A
公开(公告)日：2001-04-06
申请号：KR1019990038547
申请日：1999-09-10
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 안성수
IPC: H01L21/20
Abstract: PURPOSE: A sputtering equipment for depositing metal is provided to control a lifting phenomenon of a collimator and to prevent a particle from being generated inside a chamber, by preventing the collimator from being transformed by a difference of thermal stress between the center portion of the collimator and an outer portion of the collimator. CONSTITUTION: A chamber(11) has a gas inlet and a gas outlet. A wafer is mounted on a substrate which is installed in a lower portion inside the chamber. A metal target is installed in an upper portion inside the chamber, composed of metal to evaporate. A ratio frequency(RF) power supply unit supplies RF power to the metal target. A supporting unit(19) is fixed on an inner wall of the chamber, projected by a right angle to the inner wall of the chamber. A core ring(21) is installed on the supporting unit, having an opening in its center and a groove inside. An edge of a collimator(18) contacts the groove formed in the core ring, wherein the collimator is so formed that charged metal ions(20) can move toward the wafer through a plurality of holes formed in the center of the collimator.
Abstract translation: 目的：提供一种用于沉积金属的溅射设备，用于控制准直器的提升现象，并防止准直仪中心部分之间的热应力差异导致准直器的变形，从而防止在室内产生颗粒 和准直器的外部部分。 构成：室（11）具有气体入口和气体出口。 将晶片安装在基板上，该基板安装在室内的下部。 金属靶安装在室内的上部，由金属组成以蒸发。 比率频率（RF）电源单元向金属目标提供RF功率。 支撑单元（19）固定在室的内壁上，与室的内壁成直角地突出。 芯环（21）安装在支撑单元上，其中心具有开口，内部具有凹槽。 准直器（18）的边缘接触形成在芯环中的凹槽，其中准直器形成为使得带电的金属离子（20）可以通过形成在准直器的中心的多个孔朝向晶片移动。
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