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公开(公告)号：KR101922023B1
公开(公告)日：2018-11-26
申请号：KR1020120016868
申请日：2012-02-20
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G06F3/0484 , G06F3/1454 , H04L67/08
Abstract: 본발명의실시예에따른디스플레이장치는, 디스플레이부와; 디스플레이부에영상이표시되게처리하는영상처리부와; 컨텐츠데이터가저장된적어도하나의제1외부장치및 컨텐츠데이터를처리가능한어플리케이션이저장된적어도하나의제2외부장치와각각통신하는통신부와; 제1외부장치및 제2외부장치와통신하여컨텐츠데이터및 어플리케이션에각각대응하는유아이영상이디스플레이부에표시되도록영상처리부를제어하고, 유아이영상을통하여어플리케이션에의한컨텐츠데이터의처리수행을제어하는제어부를포함하는것을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR1019970052099A
公开(公告)日：1997-07-29
申请号：KR1019950050058
申请日：1995-12-14
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/22
Abstract: 본 발명은 반도체 소자 제조용 종형 확산로의 연소 장치에 관한 것으로, 내부에 탑재된 다수의 웨이퍼에 반응 가스를 침적시키는 반응관과, 상기 반응관의 외면에 수직으로 부착 설치되어 유입되는 가스를 연소시켜 반응관 내부로 공급하는 연소 수단과, 상기 연소 수단 위에 소정의 공간을 두고 밀봉 설치되어 연소 수단을 보호하는 보호 수단으로 이루어진 것을 특징으로 하여 외부에 별도의 연소 장치를 부가 설치하지 않고도 반응관의 온도를 연소에 필요한 조건으로 충족시킬 수 있다.
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公开(公告)号：KR101804236B1
公开(公告)日：2018-01-10
申请号：KR1020110033900
申请日：2011-04-12
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04N21/43
CPC classification number: H04N21/482 , H04N21/42204 , H04N21/4383
Abstract: 채널재핑방법이개시된다. 본채널재핑방법은각 장르별로계층적으로구분되는복수의채널그룹들중에서선택된채널그룹을그룹재핑대상범주로설정하는단계및 채널을재핑하기위한재핑명령이입력되면현재채널이속한채널그룹내의다음채널로재핑하고, 채널그룹을재핑하기위한그룹재핑명령이입력되면그룹재핑대상범주내에포함된다른채널그룹내의채널로재핑하는단계를포함하며, 다른채널그룹은, 각장르내에서의최상위계층또는상기최상위계층에속하는하위계층에해당하는채널그룹이다.
Abstract translation: 公开了一种信道跳跃方法。 然后内分层当输入jaeping命令所选通道组从多个信道组到jaeping步骤和信道组到组jaeping目标类别每个类型的通道jaeping法分离属于信道的当前信道组 当输入用于跳转频道组的组跳转命令时，跳转到包括在组跳转目的地类别中的另一频道组中的频道， 并且是属于最高层的下层的通道组。
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公开(公告)号：KR1020120116263A
公开(公告)日：2012-10-22
申请号：KR1020110033900
申请日：2011-04-12
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04N21/43
CPC classification number: H04N21/482 , H04N21/42204 , H04N21/4383 , H04N21/43
Abstract: PURPOSE: A channel zapping method and a broadcasting receiving apparatus applying the same are provided to select a channel group of hierarchically classified channel groups and to selectively view a channel of the selected channel group. CONSTITUTION: A broadcasting receiving apparatus sets up a selected channel group as a group zapping target range(S810). If a channel zapping command is inputted, the broadcasting receiving apparatus performs zapping to the next channel within a channel group which a current channel belongs to(S820,S830). If a channel group zapping command is inputted, the broadcasting receiving apparatus performs zapping to the channel within the other channel group(S840,S850). [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S810) Setting a selected channel group from a plurality of channel groups hierarchically divided by kinds as a group zapping target range; (S820) Channel zapping command is input?; (S830) Zapping to the next channel within a channel group which a current channel belongs to; (S840) Group zapping command is input?; (S850) Zapping to the channel within other channel group
Abstract translation: 目的：提供一种频道切换方法和应用该频道切换方法的广播接收装置，以选择分级分组的频道组的频道组并选择性地观看所选频道组的频道。 构成：广播接收装置将所选择的频道组设置为群组切换目标范围（S810）。 如果输入了频道切换命令，则广播接收装置对当前频道所属的频道组内的下一个频道进行切换（S820，S830）。 如果输入了频道组切换命令，则广播接收装置对其他频道组内的频道进行切换（S840，S850）。 （附图标记）（AA）开始; （BB）结束; （S810）将由种类分层划分的多个信道组中的所选信道组设置为组切换目标范围; （S820）输入通道跳频命令; （S830）将当前频道所属的频道组内的下一频道切换到; （S840）输入组切换命令; （S850）切换到其他通道组内的通道
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020120083090A
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：KR1020110004542
申请日：2011-01-17
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G06F17/30 , G06F3/0481 , G06F3/0486 , H04N21/431
CPC classification number: G06F17/30017 , G06F17/30053 , G06F3/04817 , G06F3/0486 , G06F17/30038 , H04N21/431
Abstract: PURPOSE: A method for providing a playlist, a remote controller, and a multimedia system are provided to manage different kinds of contents using a list. CONSTITUTION: A remote controller displays a plurality of different kinds of contents lists in the first area of a screen(S810). If the different kinds of contents are selected from a plurality of contents lists, the remote controller collects the selected different kinds of contents(S820,S830). The remote controller generates a play list including play information about the collected different kinds of contents(S840). The remote controller displays the playlist.
Abstract translation: 目的：提供一种用于提供播放列表，遥控器和多媒体系统的方法，以使用列表来管理不同种类的内容。 构成：遥控器在屏幕的第一区域显示多种不同种类的内容列表（S810）。 如果从多个内容列表中选择不同种类的内容，则遥控器收集所选择的不同种类的内容（S820，S830）。 遥控器产生播放列表，其中包括关于所收集的不同内容的播放信息（S840）。 遥控器显示播放列表。
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公开(公告)号：KR1020050116737A
公开(公告)日：2005-12-13
申请号：KR1020040041965
申请日：2004-06-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/205 , H01L21/02
CPC classification number: C23C16/4412
Abstract: 반도체 제조설비는 소정의 공정이 진행되는 공정챔버와, 공정챔버의 일측에 설치되어 공정챔버의 내부를 소정의 진공상태로 유지시키는 진공펌프와, 공정챔버와 진공펌프를 연결하는 진공라인과, 진공라인에 설치되어 배기가스를 쿨링시키는 적어도 하나의 쿨링유닛 및 진공라인에 추가로 설치되어 배기가스에 포함된 공정잔여물을 필터링하는 적어도 하나의 포집유닛을 포함한다.
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公开(公告)号：KR100297718B1
公开(公告)日：2001-10-19
申请号：KR1019980041864
申请日：1998-10-07
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 안재홍
IPC: H01L21/205
Abstract: 분리형 구조를 갖는 화학기상증착 장치의 히터에 관하여 개시된다. 화학기상증착 장치의 히터는: 열을 발생시키는 코일과, 상기 코일을 감싸고 있는 보호카바와, 상기 코일에 외부의 전원을 연결하기 위한 단자를 구비하는 복수의 히터유니트; 상기 복수의 히터유니트를 다단으로 결합하기 위한 것으로, 상기 보호카바의 외측에 부착되는 고정부재와 상호 대응하는 상기 고정부재를 체결하는 체결수단을 구비하는 히터유니트 결합수단; 및 상기 히터유니트의 상호 접촉부를 통한 열손실을 방지하기 위한 단열수단으로서 실리카 울;을 포함하여, 다단으로 분리/결합이 가능하도록 된 것을 특징으로 한다. 따라서, 코일의 일부분에 이상이 있을 경우 히터 전체를 교체하지 않고 일부의 히터유니트만을 분리하여 교체할 수 있으므로 유지·보수가 간편하고 비용을 절감할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020010019989A
公开(公告)日：2001-03-15
申请号：KR1019990036671
申请日：1999-08-31
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/20
Abstract: PURPOSE: An apparatus for supplying reaction gas in a semiconductor process chamber is provided to increase surface uniformity of a wafer, by uniformly supplying the reaction gas to the surface of the wafer so that the reaction gas deposited on the wafer can be uniformly distributed. CONSTITUTION: A susceptor(40) is installed to be capable of elevating so that a wafer(50) can be settled in an inner center of a process chamber(20). A plurality of gas inducing pipes(62,64) are vertically installed on a circumference of the susceptor to induce reaction gas into the chamber. A gas circulation pipe(66) of a ring type is horizontally coupled to the respective portions of the gas inducing pipes to uniformly supply the reaction gas to the surface of the wafer. A gas exhaust pipe(14) is installed downward in a side of the process chamber to exhaust gas after reaction.
Abstract translation: 目的：提供一种用于在半导体处理室中提供反应气体的装置，以通过将反应气体均匀地供应到晶片的表面以使沉积在晶片上的反应气体能够均匀地分布来提高晶片的表面均匀性。 构成：基座（40）安装成能够升高，使得晶片（50）可以沉降在处理室（20）的内部中心。 多个气体诱导管（62,64）垂直地安装在基座的圆周上，以将反应气体引入室中。 环形气体循环管（66）水平地联接到气体诱导管的各个部分，以将反应气体均匀地供应到晶片的表面。 排气管（14）向下设置在处理室的侧面以在反应后排出废气。
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