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公开(公告)号：KR1019980026062A
公开(公告)日：1998-07-15
申请号：KR1019960044387
申请日：1996-10-07
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
Abstract: 본 발명은 웨이퍼 세정 장치에 대해 기재되어 있다.
상기 웨이퍼 세정 장치는 약액조(Bath); 및 상기 약액조의 밑면에서 네 개의 관이 그 외주면의 각 방향에 부착된 원통형의 구조물로 이루어진 공급 수단을 포함함으로써, 약액조에 공급되는 화학 물질이나 탈 이온수의 흐름이 안정되어 웨이퍼 린싱 효과가 더욱 더 증가된다.
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