Abstract:
단일 광자 소자, 단일 광자 방출 전달 장치, 단일 광자 소자의 제조 및 동작 방법에 관해 개시되어 있다. 단일 광자 소자는 기판 상에 구비된 캐리어 수송층과 상기 캐리어 수송층 상에 존재하는 적어도 하나의 양자점을 포함한다. 상기 캐리어 수송층은 홀 수송층일 수 있다. 상기 캐리어 수송층 상에 상기 적어도 하나의 양자점을 포함하는 양자점막이 구비될 수 있다. 단일 광자 방출 전달 장치는 단일 광자 소자와, 상기 단일 광자 소자에 단일 전하를 주입하는 수단과, 상기 단일 광자 소자로부터 방출되는 광을 집광하는 집광부와, 상기 집광부에 집광된 광을 상기 집광부 밖으로 전달하는 광 운반수단을 포함하고, 상기 단일 광자 소자는 상기한 바와 같을 수 있다.
Abstract:
A regioselectively lateral nanowire growth process is provided to improve integration degree of device by selecting desired location when nano device is manufactured and growing nanowire. A regioselectively lateral nanowire growth process comprises steps of: forming the first oxide silicon thin film on a silicon substrate; forming two or more long grooves; removing the remaining first oxide silicon thin film; forming a silicon core surrounded by the second oxide silicon thin film(3); etching perpendicularly a predetermined part of both sides of a silicon core surrounded by the second silicon thin film by patterning and removing it; forming a hollow channel of which the both sides are opened; depositing a catalyst metal layer on one end of the hollow channel; forming a protective film on a top surface of the catalyst metal layer; and growing nanowire in the hollow channel from the catalyst metal layer(7) to the silicon substrate in horizontal direction.
Abstract:
표면플라즈몬공명현상을이용하여발광특성이향상된양자점발광소자또는유기발광소자및 그의제조방법이개시된다. 개시된발광소자는기판, 제 1 전극, 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자수송층내에매립된나노-플라즈모닉입자, 및제 2 전극을포함할수 있다. 전자수송층내부에매립된나노-플라즈모닉입자는발광층으로부터입사한광에의해국소표면플라즈몬공명을일으켜, 그주위에강한전자기장을발생시킨다. 나노-플라즈모닉입자에의해발생한강한전자기장은발광층내부의양자점또는유기발광재료를더욱여기시켜발광특성을향상시킬수 있다. 또한, 나노-플라즈모닉입자주위에형성된전기장에의해전극으로부터발광층으로의전자주입이더욱강화된다. 따라서, 개시된발광소자는발광효율및 휘도가더욱향상될수 있다.