公开(公告)号：WO2011099768A3

公开(公告)日：2011-08-18

申请号：PCT/KR2011/000865

申请日：2011-02-09

Applicant: 서강대학교산학협력단 ,  이희우 ,  신보라 ,  최규윤 ,  김범석

Inventor： 이희우 ,  신보라 ,  최규윤 ,  김범석

IPC: H01L21/31

Abstract: 고온 오존처리를 포함하는 나노기공 초저유전 박막의 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 나노기공 초저유전 박막이 제공되며, 상기 제조 방법은 유기 실리케이트 매트릭스-함유 용액과 반응성 포라젠-함유 용액을 혼합하여 혼합용액을 준비하고; 상기 혼합용액을 기재 상에 도포하여 박막을 형성하고; 상기 박막을 열처리하며, 상기 열처리 과정 중에 오존 처리를 수행하는 것:을 포함하며, 이러한 제조 방법에 의하여 제조된 나노기공 초저유전 박막은, 고온의 오존 처리 및 처리온도의 최적화에 따른 박막 내의 기공의 크기와 분포도의 개선을 통해 2.3 이하의 유전율과 10 GPa 이상의 기계적 강도를 가질 수 있다.

公开(公告)号：KR1020110093669A

公开(公告)日：2011-08-18

申请号：KR1020110011397

申请日：2011-02-09

Applicant: 서강대학교산학협력단

Inventor： 이희우 ,  신보라 ,  최규윤 ,  김범석

IPC: H01L21/31 ,  C08J5/18 ,  C08J7/04

CPC classification number: H01L21/02123 ,  B32B5/00 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/122 ,  C23C18/1279 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02323 ,  H01L21/02337 ,  Y10T428/249953

Abstract: PURPOSE: A method for preparing nanoporous ultra low dielectric film including high temperature ozone treatment, and nanoporous ultra low dielectric film prepared thereby are provided to low dielectric constant and high mechanical strength by ozone-pressing the nanoporous ultra low dielectric film under high temperature. CONSTITUTION: In a method for preparing nanoporous ultra low dielectric film including high temperature ozone treatment, and nanoporous ultra low dielectric film prepared thereby, an organosilicate matrix - contain solution and a reactivity porogen- contain solution are mixed to form a mixed solution(S100). The mixed solution is coated on a base substrate to form a thin film(S200). The thin film is processed by heat treatment while being ozone processed(S300). - An ozone treatment is performed under 100°C - 250°C.

Abstract translation: 目的：通过在高温下对纳米多孔超低介电膜进行臭氧压制，提供了一种制备包括高温臭氧处理的纳米多孔超低电介质膜和由此制备的纳米多孔超低电介质膜的方法，具有低介电常数和高机械强度。 构成：在制备包括高温臭氧处理的纳米多孔超低电介质膜和由此制备的纳米多孔超低电介质膜的方法中，混合含有有机硅酸盐基质的溶液和含活性孔隙剂的溶液以形成混合溶液（S100） 。 将混合溶液涂布在基底基板上以形成薄膜（S200）。 在进行臭氧处理的同时，通过热处理来处理薄膜（S300）。 - 在100℃-250℃下进行臭氧处理。

公开(公告)号：KR101108647B1

公开(公告)日：2012-01-31

申请号：KR1020110011397

申请日：2011-02-09

Applicant: 서강대학교산학협력단

Inventor： 이희우 ,  신보라 ,  최규윤 ,  김범석

IPC: H01L21/31 ,  C08J5/18 ,  C08J7/04

CPC classification number: H01L21/02123 ,  B32B5/00 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/122 ,  C23C18/1279 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02323 ,  H01L21/02337 ,  Y10T428/249953

Abstract: 고온 오존처리를 포함하는 나노기공 초저유전 박막의 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 나노기공 초저유전 박막이 제공되며, 상기 제조 방법은 유기 실리케이트 매트릭스-함유 용액과 반응성 포라젠-함유 용액을 혼합하여 혼합용액을 준비하고; 상기 혼합용액을 기재 상에 도포하여 박막을 형성하고; 상기 박막을 열처리하며, 상기 열처리 과정 중에 오존 처리를 수행하는 것:을 포함하며, 이러한 제조 방법에 의하여 제조된 나노기공 초저유전 박막은, 고온의 오존 처리 및 처리온도의 최적화에 따른 박막 내의 기공의 크기와 분포도의 개선을 통해 2.3 이하의 유전율과 10 GPa 이상의 기계적 강도를 가질 수 있다.

Abstract translation: 本发明提供了一种制备纳米多孔超低介电薄膜的方法，该方法包括通过相同方法制备的高温臭氧处理和纳米多孔超低介电薄膜。 该方法包括制备含有机硅酸盐基质的溶液和反应性致孔剂溶液的混合物; 将所述混合物涂布在基材上以形成薄膜; 并用臭氧处理加热薄膜。 制备的纳米多孔超低介电薄膜的介电常数可以通过以高的臭氧处理来提高薄膜的孔径和孔分布，其介电常数约为2.3以下，机械强度为10GPa以上 温度和优化臭氧处理温度。