Abstract:
본 발명의 일 실시예에 따르면, 각각이 적어도 하나의 코어를 갖는 복수개의 프로세서를 포함하는 컴퓨팅 장치에서의 가상머신 할당 방법에 있어서, 각 가상머신에 대한 간섭강도 및 간섭민감도를 계산하는 단계; 및 계산된 상기 간섭강도 및 간섭민감도에 기초하여, 간섭강도가 높은 가상머신과 간섭민감도가 낮은 가상머신을 동일한 프로세서에 할당하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 가상머신 할당 방법을 제공할 수 있다.
Abstract:
본 발명은 다중기포 음파발광을 이용한 칼코파이라이트계 입자의 제조 방법 및 상기 입자를 포함하는 태양전지에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 유독성을 가지는 첨가제를 사용하지 않고, 온화한 조건에서 단시간 내에 나노크기의 균일한 칼코파이라이트계 입자를 효과적으로 제조할 수 있다. 또한, 본 발명의 방법에 의해 제조된 칼코파이라이트계 입자는, 예를 들면, 태양전지의 광흡수층에 적용되었을 때, 탁월한 효과를 나타낼 수 있다. 칼코파이라이트계 입자, 다중기포 음파발광, 열처리, 태양전지, 광흡수층
Abstract:
PURPOSE: A manufacturing method of a metal oxide nanoparticle and a lithium nanoparticle is provided to use a MBSL(multi-bubble sonoluminescence) to uniformly manufacture the nanoparticle in a short time. CONSTITUTION: A manufacturing method of a metal oxide nanoparticle comprises the following steps: maintaining the multi-bubble sonoluminescence condition of a reaction system including a metal compound and a base within a solvent; and reacting the metal compound and the base. A manufacturing method of a lithium nanoparticle comprises a step of maintaining the multi-bubble sonoluminescence condition of a reaction system including a metal oxide nanoparticle and a lithium compound within a solvent, and reacting the metal oxide nanoparticle and the lithium compound.
Abstract:
본 발명의 일 실시예에 따르면, 각각이 적어도 하나의 코어를 갖는 복수개의 프로세서를 포함하는 컴퓨팅 장치에서의 가상머신 할당 방법에 있어서, 각 가상머신에 대한 간섭강도 및 간섭민감도를 계산하는 단계; 및 계산된 상기 간섭강도 및 간섭민감도에 기초하여, 간섭강도가 높은 가상머신과 간섭민감도가 낮은 가상머신을 동일한 프로세서에 할당하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 가상머신 할당 방법을 제공할 수 있다.
Abstract:
본 발명은 금속 산화물 및 리튬계 나노입자의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에서는 다중기포 음파발광을 이용하여 목적하는 크기의 균일한 나노입자를 온화한 조건 하에서 단시간 안에 제조할 수 있으며, 또한 이와 같이 제조된 나노입자 상에 또 다른 나노물질의 균일한 코팅층을 효율적으로 형성할 수 있다는 이점이 있다. 이에 따라 본 발명에서는 금속 산화물 나노입자 또는 리튬계 나노입자를 효과적으로 제조할 수 있으며, 이러한 제조 방법은 높은 재현성을 가지고, 또한 추가적인 첨가제 등의 사용도 불필요하다는 이점을 가진다. 다중기포 음파발광, 초음파, 금속 산화물 나노입자, 리튬계 나노입자, 화학전지
Abstract:
PURPOSE: A manufacturing method of a highly pure CuInSe2 thin film and a CuInSe2 thin film for a solar cell manufactured by the same are provided to manufacture a thin film which has a fixed composition ratio despite evaporation under an argon state and a vacuum. CONSTITUTION: A manufacturing method of a highly pure CuInSe2 thin film comprises following steps. A copper foil is formed on a substrate by depositing asymmetry copper precursor under an argon state and a vacuum through a chemical vapor deposition process. The asymmetry copper precursor including indium-selenium is continuously deposited under a mild condition of 350~450°C temperature in the argon state and a vacuum. The continuous deposition process is enabled over 40 minutes.
Abstract:
본 발명의 일 실시예에 따르면, 동적 전압 및 주파수 스케일링(DVFS)에 따른 컴퓨터 프로세서의 성능 변화 예측 방법에 있어서, 프로세서 동작속도(f)에서의 멈춤상태 시간(T stall (f))을 산출하는 단계; 및 상기 멈춤상태 시간에 기초하여 총 실행시간(T total (f))을 산출하는 단계;를 포함하고, 상기 멈춤상태 시간(T stall (f))은 컴퓨터의 주기억장치로부터 응답이 돌아올 때까지 상기 프로세서의 계산동작을 멈추는 시간인 것을 특징으로 하는 프로세서 성능 변화 예측 방법을 개시한다.
Abstract:
본 발명은 비대칭 구조를 갖는 구리 전구체를 화학증기증착법으로 증착하여 기판 상에 구리 박막을 제조한 후, 상기 구리 박막이 형성된 기판에 인듐-셀레늄을 포함하는 비대칭 전구체를 온화한 온도 및 시간 조건 하에서 연속 증착하여, 구리: 인듐: 셀레늄의 비율이 1:1:2를 충족하는 단일상의 고순도 CuInSe 2 박막의 제조방법 및 그로부터 제조된 CuInSe 2 박막에 관한 것이다. 본 발명의 제조방법은 비대칭 전구체를 이용하고 화학증기증착법으로 증착함으로써, 종래보다 상대적으로 낮은 온도 및 단축된 시간 내에 조성의 변화 없이 일정하고, 불순물의 유입없이 고순도의 CuInSe 2 박막을 제조할 수 있으며, 제조된 고순도의 CuInSe 2 박막은 태양전지의 광흡수 박막층, 양자점 또는 LED 박막분야에 유용하게 적용될 수 있다. 나아가, 본 발명의 고순도의 CuInSe 2 박막은 초박막 광흡수층 태양전지(Extremely Thin Absorber layer Solar cells, ETA Solar Cells) 분야에 활용할 수 있다. 화학증기증착법, 비대칭 구리전구체, 인듐, 셀레늄, 태양전지소자
Abstract:
PURPOSE: A producing method of a chalcopyrite particle, and a solar battery including thereof are provided to effectively produce the nano-sized chalcopyrite particle without using a toxic additive. CONSTITUTION: A producing method of a chalcopyrite particle comprises the following steps: reacting a copper particle(1), an aluminum family element, and a chalcogen compound, by maintaining a reactor in a multi-bubble sonoluminescence state; and heat-processing the obtained reactant. The multi-bubble sonoluminescence state is formed by maintaining the temperature of 10~50deg C and the pressure of 1~4atm, and applying an ultrasonic wave.