-
1.
公开(公告)号:KR1020110113450A
公开(公告)日:2011-10-17
申请号:KR1020100032843
申请日:2010-04-09
Applicant: 서울대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 유도결합 플라즈마 스퍼터링 장치(Inductively coupled plasma sputtering device)를 이용한 Mo-N/Cu 박막의 제조방법 및 그 방법으로 제조된 Mo-N/Cu 박막에 관한 것으로서, 본 발명의 박막 제조방법에 의해 밀도, 경도 및 표면조도가 향상된 Mo-N/Cu 박막을 제조할 수 있다. 또한 상기 박막은 접착력이 우수하며, 마찰계수가 작으며, 마모 테스트 결과 마모량이 극히 적음을 알 수 있다.