公开(公告)号：KR101935444B1

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：KR1020160168906

申请日：2016-12-12

Applicant: 서울대학교산학협력단

Inventor： 정지윤 ,  이지예 ,  김대식

IPC: B82B3/00 ,  C23C16/455 ,  C23C16/12 ,  C23G1/14

公开(公告)号：KR1020170076559A

公开(公告)日：2017-07-04

申请号：KR1020160168906

申请日：2016-12-12

Applicant: 서울대학교산학협력단

Inventor： 정지윤 ,  이지예 ,  김대식

IPC: B82B3/00 ,  C23C16/455 ,  C23C16/12 ,  C23G1/14

Abstract: 본발명은본 발명은 (a)사파이어기판위에크롬(Cr) 및금(Au)층이차례로적층된기저층을준비하는단계; (b)상기기저층위에크롬(Cr); 및알루미늄(Al) 또는산화알루미늄(AlO)층으로적층된복수의직사각형층을일정한간격으로평행하게패턴화하는단계;(c)상기패턴화된직사각형층과동일한패턴으로기저층의크롬(Cr) 및금(Au)을이온밀링으로제거하는단계; (d)상기제거단계후 원자층증착(ALD)방법으로산화알루미늄(AlO)을코팅하는단계; (e)상기코팅단계후 크롬(Cr), 금(Au)을순서대로증착하는단계및 (f)상기증착단계후 기저층위에패턴화된직사각형층을에칭으로제거하는단계로구성된이온밀링과에칭을이용한나노갭제조방법에관한것이다.

Abstract translation: （A）准备在蓝宝石基板上依次层叠有铬（Cr）金（Au）层的基底层; （b）基层上的铬（Cr）; 包括：化学和铝（Al）或平行于所述图案的多个以规则的间隔氧化铝（AlO）层的层叠体的矩形层;（c）所述图案化的矩形层和基极层中的相同的图案的铬（Cr）mitgeum （Au）; （d）在去除步骤之后通过原子层沉积（ALD）法涂覆氧化铝（AlO）; （e）在涂覆步骤之后依次沉积铬（Cr）和金（Au），以及（f）在蚀刻之后蚀刻并去除基层上的图案化的矩形层。 以及使用纳米间隙制造纳米间隙的方法。