시토신 디아미나제에 의한 DNA에서의 염기 교정 확인 방법
    2.
    发明申请
    시토신 디아미나제에 의한 DNA에서의 염기 교정 확인 방법 审中-公开
    确定胞嘧啶二胺酶对DNA进行碱基校正的方法

    公开(公告)号:WO2018052247A1

    公开(公告)日:2018-03-22

    申请号:PCT/KR2017/010056

    申请日:2017-09-13

    Inventor: 김대식

    Abstract: (1) 시토신 디아미나제 및 불활성화된 표적특이적 엔도뉴클레아제 (2) 가이드 RNA, 및 (3) 우라실-특이적 제거 시약 (Uracil -Specific Excision Reagent; USER)을 포함하는, DNA 이중 가닥 절단 (double strand breaks; DSBs)용 조성물, 이를 이용한 시토신 디아미나제에 의한 DNA 이중 가닥 절단 (double strand break) 생성 방법, 시토신 디아미나제에 의하여 염기 교정 (base editing)이 도입된 DNA의 핵산 서열 분석 방법, 및 시토신 디아미나제의 염기 교정 위치, on-target 부위에서의 염기 교정 효율, 비표적 위치 (off-target site), 및/또는 표적 특이성을 확인 (또는 측정 또는 검출)하는 방법이 제공된다.

    Abstract translation: (1)胞嘧啶脱氨酶和灭活的靶特异性核酸内切酶(2)指导RNA,和(3)尿嘧啶特异性切除试剂(USER) )于DNA双链切割(双链断裂包括; DNA双链断裂)组合物,胞嘧啶直径切割DNA双链体由权利要求凑(双链断裂)形成工艺中,通过使用用于相同(基编辑胞嘧啶脱氨酶的基校正 )所述核酸导入的DNA序列分析的方法,并且所述基座到校准位置时,基校正效率,非目标位置(脱靶部位在基于目标区域)的胞嘧啶脱氨酶,和/或确认的靶特异性(或 测量或检测)。

    응력 집중 구조를 이용한 박막 균열 제어를 통해 스트레인 센서를 제조하는 방법 및 이를 이용하여 제조된 스트레인 센서

    公开(公告)号:WO2022154638A1

    公开(公告)日:2022-07-21

    申请号:PCT/KR2022/000912

    申请日:2022-01-18

    Abstract: 응력 집중 구조를 이용한 박막 균열 제어를 통해 스트레인 센서를 제조하는 방법은, 스트레인 센서의 전도성 박막 물질로 사용될 용액과 스트레인 센서를 형성할 유연 기판을 준비하는 단계; 유연 기판 상에 2차원 평면(xy 평면)으로 경계를 가지는 구조 또는 평면에 수직한 방향(z 방향)으로 경계를 가지는 3차원 구조로 형성되는 마이크로 노치(MN; micro notch)를 반복적으로 증착하여 응력 집중 구조를 형성하는 단계; 및 응력 집중 구조의 적어도 일부와 중첩되도록 유연 기판 상에 전도성 박막을 증착하여 스트레인 센서를 형성하는 단계;를 포함한다. 이에 따라, 패터닝을 통해 원하는 위치에 응력 집중 구조의 제작이 가능하며, 구조의 배열 및 전도성 박막 두께를 조절하여 민감도 및 선형성을 조절하여 다양한 목적에 맞게 응용할 수 있다.

Patent Agency Ranking